一种围栏立柱及围栏系统的制作方法

本发明涉及一种围栏立柱及围栏系统。

背景技术：

围栏立柱喷涂不到位或者不均匀，容易使立柱生锈腐烂，且在安装过程中费时费力，影响了围栏安装效率和使用寿命。

又如CN 101824935 A本发明公开了一种围栏立柱，其特征在于：包括：第一本体，该第一本体具有用于与固定物相固定的第一基部，所述的第一基部沿竖直方向延伸，所述的第一基部的前端包括左侧前端部和右侧前端部，所述的左侧前端部向左侧延伸形成第一左侧翼，所述的右侧前端部向右侧延伸形成第一右侧翼，所述的第一左侧翼有部分弯折形成多个开口朝右的第一左钩部，多个所述的第一左钩部沿着同一竖直方向分布，所述的第一左钩部的开口位于所述的第一左侧翼的前方，所述的第一右侧翼有部分弯折形成多个开口朝左的第一右钩部，多个所述的第一右钩部沿着同一竖直方向分布，所述的第一右钩部的开口位于所述的第一右侧翼的前方。上述围栏立柱的左右钩部会影响立柱内表面的喷涂效果，容易使立柱生锈腐烂，从而降低了立柱的使用寿命。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题之一是现有技术中立柱喷涂不到位或者不均匀，容易使立柱生锈腐烂，在安装过程中费时费力的问题，提供一种新的围栏立柱。该立柱安装方法简单且牢固，有效防止立柱因喷漆不到位而生锈，从而提高立柱的使用寿命，也提高喷漆的效率。本发明所要解决的技术问题之二是提供一种与解决技术问题之一相对应的围栏系统。

为解决上述技术问题之一本发明采用的的技术方案如下：一种围栏立柱，用于固定安装沿纵向和横向延伸的围护用的网片，所述的围栏立柱包括第一基部、第二基部、右侧壁和左侧壁，所述右侧壁、左侧壁的两端向外折弯，形成相对应的第一基部和第二基部，所述第二基部两侧弯折形成至少一个开口向内的右钩部和左钩部，所述右钩部和所述左钩部均设有从弯折处向内的开口或/和孔，所述开口或/和孔至少设有一个。

优选地，多个所述右钩部和多个所述左钩部沿着纵向延伸，且每个所述右钩部和每个所述左钩部为横向并排设置，相邻两个所述右钩部和相邻两个所述左钩部均设置有连接口。

优选地，所述开口为两个，孔为两个。

优选地，所述第一基部呈空心结构或实心结构，所述第一基部后端至少一个加强筋。

优选地，所述围栏立柱顶部设有立柱柱帽。

优选地，所述右侧壁和左侧壁分别设有纵向延伸的凹槽，所述凹槽分为底面和左右侧面，所述凹槽的底面为平面并且上设有连接部一和连接部二，所述右侧壁和左侧壁通过多个连接部一固定连接。

更优选地，多个所述连接部一均匀分布在凹槽底面上。

为解决上述技术问题之二本发明采用的的技术方案如下：

一种围栏系统，该围栏系统包括多个围栏单元，各个所述的围栏单元均包括一对左右设置的具有上述技术方案所述的围栏立柱、安装在一对所述的围栏立柱之间的网片。

更优选地，所述的网片上纵向相邻的两个网孔之间的孔距相等。

本发明通过在右钩部和左钩部均设有开口或/和孔，解决了立柱内表面喷涂不到位的问题，大大提高立柱及围栏的使用寿命；由于本发明立柱钩部设有连接口，使得网片中的端部容易钩在钩部上，安装方法简单且牢固；本发明加强筋能防止第一基部强度不足发生形变或者弯折，可增强第一基部的韧性和强度；本发明所述立柱柱帽，结构简单，成本低，可以有效的防止雨水及杂物进入立柱内，有效提高了立柱的使用寿命。

采用本发明的立柱，在工厂喷漆工序中，将每根成型的立柱进行喷涂，立柱内表面涂层厚度为0～70微米，喷涂覆盖率为99％。如果用同样大小的现有立柱进行喷涂，立柱内表面涂层厚度为0～70微米，喷涂覆盖率为40％。因此，采用本发明的立柱其内表面喷涂覆盖提高了59％，大大提高了喷涂覆盖率，有效解决了立柱内表面喷涂不到位的问题，从而提高了立柱的使用寿命，另外，由于该立柱钩部设有连接口，使得网片中的端部容易钩在钩部上，安装方法简单且牢固。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1为本发明一种围栏立柱及围栏系统示意图；

图2为本发明图1的分解图；

图3为本发明图1的侧视图；

图4为本发明实施一的围栏立柱示意图；

图5为本发明实施二的围栏立柱示意图；

图6为本发明实施三的围栏立柱示意图；

图7为本发明实施四的围栏立柱示意图；

图中：

1、围栏立柱 2、网片 3、立柱柱帽

11、第一基部 12、第二基部 13、右侧壁

14、左侧壁 15、连接部一 16、连接部二

111、加强筋 121、右钩部 122、左钩部

123、连接口 124、开口 125、孔

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式，进一步阐明本发明，应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向，说明书中所述的“纵向”指附图中的上下方向，所述“横向”向指附图中的左右方向。

如图1、2、3、4所示，本发明公开了一种围栏立柱及围栏系统，该围栏系统包括多个围栏单元，各个所述的围栏单元均包括一对左右设置的围栏立柱1、安装在一对所述的围栏立柱之间的网片2和连接在所述围栏立柱1顶部的立柱柱帽3，所述的围栏立柱1的横截面呈“工”字形，包括第一基部11、第二基部12、右侧壁13和左侧壁14，所述右侧壁13、左侧壁14的两端向外折弯，形成相对应的第一基部11和第二基部12，所述第一基部11后端设有至少一个加强筋111，所述第二基部12两侧弯折形成至少有一个开口向内的右钩部121和左钩部122，所述右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的开口124和孔125，所述开口124设有两个，所述孔125设有两个，解决了立柱在工厂喷漆加工时，立柱右钩部121和左钩部122内表面难喷漆的问题，防止立柱右钩部121和左钩部122内表面因喷漆不到位而生锈，从而提高立柱的使用寿命。同时多个所述右钩部121和多个所述左钩部122沿着纵向均匀分布，且每个所述右钩部121和每个所述左钩部122为横向并排设置，相邻两个所述右钩部121和相邻两个所述左钩部122均设置有连接口123，这样设置，一方面视觉美观，另一方面增加固定网片2的牢固度。所述右钩部121和左钩部122均位于各自侧壁的前方，并且每个钩部高度均与网片上横向相邻的两根筋之间的高度相等，这样设置，使得工人在将网片2安装在围栏立柱1上时，很容易将网片2中的两端部钩在右钩部121和左钩部122上，安装方法简单且牢固。所述第一基部11呈空心结构，内部具有空腔，空腔的横截面优选呈半圆形或六边形，第一基部11空心结构的设置，使其内部可以隐藏电线、红外探测器、震动监测器等电气装置。在第一基部11后端设有至少一个加强筋111，这加强筋111能防止第一基部11强度不足发生形变或者弯折，可增强第一基部11的韧性和强度。所述第一基部11也可以为实心结构，可增强第一基部11的强度。所述立柱柱帽3，结构简单，成本低，可以有效的防止雨水及杂物进入立柱1内，有效提高了立柱的使用寿命。所述立柱柱帽3为向内的凹槽，其形状为“工”字形，向内凹的深度为1-2mm，既能够将柱帽扣在立柱上端，又能够使装好的柱帽不会滑落。通过引进立柱柱帽3，使得立柱柱帽3能有效的将右钩部121和左钩部122的开口挡住，从而防止该围栏立柱被从右钩部121和左钩部122的开口处进行破坏。所述右侧壁13和左侧壁14分别设有纵向延伸的凹槽，所述凹槽分为底面和左右侧面，所述凹槽的底面为平面并且上设有连接部一15和连接部二16，所述右侧壁13和左侧壁14通过多个连接部一15固定连接，多个所述连接部一15均匀分布在凹槽底面上，连接方式可以是冲压铆接或者焊接，从而可以增加立柱的牢固度，不易被破坏。所述右侧壁13和左侧壁14的端部通过连接部二16连接，使右侧壁13和左侧壁14的端部连接紧固不易被破坏。

如图5所示，所述右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的开口124和孔125，所述开口124设有一个，所述孔125设有一个。

如图6所示，所述右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的开口124，所述开口124设有一个。

如图7所示，所述右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的孔125，所述孔125设有一个。

【实施例1】：

采用图1的围栏立柱，右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的开口124和孔125，所述开口124为两个，孔125为两个。在工厂喷漆工序中，将每根成型的立柱进行喷涂，立柱内表面涂层厚度为0～70微米，喷涂覆盖率为99％，其内表面喷涂覆盖率高，解决了立柱内表面喷涂不到位的问题，从而提高了立柱的使用寿命。

【实施例2】：

采用图5的围栏立柱，右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的开口124和孔125，所述开口124为一个，所述孔125为一个，在工厂喷漆工序中，将每根成型的立柱进行喷涂，厚度为0～70微米，喷涂覆盖率为80％，其内表面喷涂覆盖率一般。

【实施例3】：

采用图6的围栏立柱，右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的开口124，所述开口124设有一个，在工厂喷漆工序中，将每根成型的立柱进行喷涂，厚度为0～70微米，喷涂覆盖率为60％，其内表面喷涂覆盖率一般。

【实施例4】：

采用图7的围栏立柱，右钩部121和所述左钩部122均设有从弯折处向内的孔125，所述孔125设有一个，在工厂喷漆工序中，将每根成型的立柱进行喷涂，厚度为0～70微米，喷涂覆盖率为60％，其内表面喷涂覆盖率一般。

【比较例】：

采用中国专利文献CN 101824935 A的围栏立柱进行喷涂，立柱内表面涂层厚度0～70微米，喷涂覆盖率为40％，其内表面喷涂不到位，影响立柱的使用寿命。

上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明的保护范围。