本实用新型涉及瓷砖技术领域，尤其是涉及的是一种施釉系统。
背景技术：
瓷砖生产工艺流程包括：配料→投料→球磨→测浆→过筛除铁→入池搅拌→喷雾干燥→粉料检测→粉料入仓→送粉→压制成型→干燥→施釉→印花（云彩釉）→入窑烧成→检测→包装。
施釉工序、印花工序中釉水多通过架设于流水线上的喷覆设备进行喷覆作业，作业过程中，多余的釉水等将从砖面、流水线往下滴落，使该工序流水线地面积水、同时造成釉水浪费。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种施釉系统。
为实现上述目的，本实用新型的技术解决方案是：一种施釉系统，包括机架、输送带、施釉机构和回收机构。所述机架包括两与砖块输送方向平行的横杆；所述输送带包括若干绳带和动力滚筒，动力滚筒用于驱动绳带输送砖块，绳带设于两横杆之间；所述施釉机构架设于机架上面，位于绳带上方；所述回收机构包括回收槽、回收桶、搅拌机和釉水输入管；所述回收槽有若干个，分别倾斜设置于施釉机构的下面、施釉机构出料一侧，回收槽位于绳带下面；回收槽长度大于输送带的宽度；所述回收桶设于回收槽较低的一端下面，便于回收槽回收的釉水流入回收桶；所述搅拌机安装于回收桶内，用于搅拌釉水，保持釉水混合均匀；所述釉水输入管下端与回收桶连通，上端与施釉机构连通，用于将回收桶内的釉水输送至施釉机构；施釉机构下面设有釉水输出管，釉水输出管下面位于回收桶内。
施釉工序中增设回收机构，可将经砖块、输送带流落的釉水回收，有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构与施釉机构相连通。还可以形成釉水循环，降低施釉机构中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
优选的，所述回收机构还包括设于回收槽与回收桶之间的导流槽；回收槽与动力滚筒平行，导流槽与横杆平行；导流槽为倾斜设置，导流槽位于回收桶上面的一端低于另一端。一个导流槽可同时连接多个回收槽，可节省回收槽的架设材料成本。
优选的，所述搅拌机包括设于回收桶上面的安装架和与安装架连接的转动轴，转动轴设有高低错开的搅拌叶。
优选的，所述回收桶下面设有移动轮，便于回收桶内的移动。
优选的，所述回收桶底部设有排水口。施釉工序中使用的回收桶一般兼具釉水调节功能，这就要求回收桶的体积较大。由于体积大，更换釉水时、停机时回收桶的清洁也较为麻烦，排水口的设置就可有效解决该问题。
通过采用上述的技术方案，本实用新型的有益效果是：本实用新型公开一种施釉系统，包括机架、输送带、施釉机构和回收机构。施釉工序中增设回收机构，可将经砖块、输送带流落的釉水回收，有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构与施釉机构相连通。还可以形成釉水循环，降低施釉机构中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的结构俯视图。
主要附图标记说明：（1、机架；11、横杆；2、输送带；21、绳带；22、动力滚筒；3、施釉机构；31、釉水输出管；4、回收机构；41、回收槽；42、回收桶；43、搅拌机；44、釉水输入管；45、移动轮；46、排水口；47、安装架；48、转动轴；49、搅拌叶；50、导流槽）。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例来进一步说明本实用新型。
本实用新型中所提到的方向用语，例如：上、下、内、外等，仅是参考说明书附图1的方向。因此，使用的方向用语仅是用来说明，并非用来限制本实用新型。
如图1-图2所示，本实用新型一种施釉系统，包括机架1、输送带2、施釉机构3和回收机构4。
所述机架1包括两与砖块输送方向平行的横杆11。所述输送带2包括若干绳带21和动力滚筒22，动力滚筒22用于驱动绳带21输送砖块，绳带21设于两横杆11之间。
所述施釉机构3架设于机架11上面，位于绳带21上方。
所述回收机构4包括回收槽41、回收桶42、搅拌机43和釉水输入管44；所述回收槽41有若干个，分别倾斜设置于施釉机构3的下面、施釉机构3出料一侧，回收槽41位于绳带21下面；回收槽41长度大于输送带2的宽度。
所述回收桶42设于回收槽41较低的一端下面，便于回收槽41回收的釉水流入回收桶42；所述搅拌机43安装于回收桶42内，用于搅拌釉水，保持釉水混合均匀。所述回收桶42下面设有移动轮45，便于回收桶内42的移动。所述回收桶42底部设有排水口46。施釉工序中使用的回收桶42一般兼具釉水调节功能，这就要求回收桶42的体积较大。由于体积大，更换釉水时、停机时回收桶42的清洁也较为麻烦，排水口46的设置就可有效解决该问题
所述搅拌机43包括设于回收桶42上面的安装架47和与安装架47连接的转动轴48，转动轴48设有高低错开的搅拌叶49。
所述釉水输入管44下端与回收桶42连通，上端与施釉机构4连通，用于将回收桶42内的釉水输送至施釉机构3。
所述回收机构4还包括设于回收槽41与回收桶42之间的导流槽50；回收槽41与动力滚筒22平行，导流槽50与横杆11平行；导流槽50为倾斜设置，导流槽50位于回收桶42上面的一端低于另一端。一个导流槽50可同时连接多个回收槽41，可节省回收槽41的架设材料成本。
施釉机构3下面设有釉水输出管31，釉水输出管31下面位于回收桶42内。
施釉工序中增设回收机构4，可将经砖块、输送带2流落的釉水回收，有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构4与施釉机构3相连通。还可以形成釉水循环，降低施釉机构3中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
以上所述的，仅为本实用新型的较佳实施例而已，不能限定本实用实施的范围，凡是依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与装饰，皆应仍属于本实用新型涵盖的范围内。