一种已立石碑雕刻装置的制作方法

本发明涉及一种雕刻结构技术领域，特别是涉及一种可适应一定尺寸的已立石碑的雕刻装置。

背景技术：

目前市面已立石碑绝大多数石碑采用人工雕刻的方式，人工雕刻费时又费力，而且容易刻错字体，而导致石碑废掉。人工雕刻所需时间较长，有时出现雕刻工人无法及时雕刻处石碑的情况。

中国专利文献cn104842696a披露了一种木、石材雕刻机，包括工作台、第一龙门架、第二龙门架、粗雕装置和精雕装置，所述粗雕装置可滑动的设置在第一龙门架上，精雕装置可滑动的设置在第二龙门架上。

中国专利文献cn110065332a披露了一种石材雕刻机，包括底座，底座上部设置有石材固定平台，石材固定平台上方设置有沿其长度方向滑动和固定的横梁，横梁上设置有沿其长度方向滑动和固定的升降台，升降台上设置沿竖直方向滑动和固定的雕刻钻机，雕刻钻机的钻头四周设置有呈圆周均布的喷头。

上述现有雕刻机仅能针对水平置放姿态的石材进行雕刻，对于已立石碑，无法进行现场雕刻，为了解决这一难题，本发明设计一款便携式雕刻机械结构。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种已立石碑雕刻装置，以能够在已立石碑上进行现场雕刻。

为此，本发明提供了一种已立石碑雕刻装置，包括安装支架结构、双轴驱动结构、雕刻机构、下侧滑动机构、水平单滑杆、水平双滑杆、两个竖直方向连杆、竖直方向滑轨、竖直同步带、以及水平同步带，所述水平双滑杆、水平单滑杆和两竖直方向连杆构成矩形框架，所述安装支架结构成对地设置在水平双滑杆的左右两侧，用于将所述矩形框架定位在石碑上，所述竖直方向滑轨的一端与所述双轴驱动结构固定连接，另一端与所述下侧滑动机构固定连接，所述双轴驱动结构支撑在水平双滑杆上，所述下侧滑动机构支撑在所述水平单滑杆上，所述雕刻机构支撑在竖直方向滑轨上，所述双轴驱动结构用于驱动水平同步带，以迫使所述双轴驱动结构在水平双滑杆上作进给运动，还用于驱动竖直同步带，以迫使所述雕刻机构在所述竖直方向滑轨上作进给运动。

进一步地，上述水平同步带为条带，其两端分别固定在所述安装支架结构上。

进一步地，上述安装支架结构包括支架、伸缩杆、两连接头、、以及端压板，其中，所述端压板固定连接至所述伸缩杆的末端，所述伸缩杆能够在空心的水平双滑杆中滑动，并且通过所述两连接头、预紧。

进一步地，上述竖直同步带为环带，绕设在所述下侧滑动机构和所述双轴驱动结构上。

进一步地，上述竖直方向连杆呈弓形，其上下两端用于与石碑的前壁面抵接。

进一步地，上述双轴驱动结构包括用于驱动所述水平同步带的水平驱动电机、水平驱动带轮和水平滑轮组组成、，还包括用于驱动所述竖直同步带的竖直驱动电机、竖直驱动带轮和竖直滑轮组总成、。

进一步地，上述雕刻机构包括钻头和用于驱动所述钻头在垂直于石碑前壁面方向上作进给运动的直线驱动机构。

进一步地，上述直线驱动机构包括电机、丝杆、钻头支架、环绕在所述钻头支架周围的电机支架、电机侧支架和电机对侧，其中，所述丝杆的长度取向为垂直于石碑前壁面方向，所述钻头支架与所述丝杆构成丝杠螺母传动副，所述钻头支架与电机支架、电机侧支架、电机对侧分别通过滑轨组连接。

进一步地，上述雕刻机构还包括用于张紧所述竖直同步带的涨紧轮组。

进一步地，上述竖直方向导轨为竖直双滑杆，所述雕刻机构通过直线轴承组支撑在所述竖直双滑杆上；和/或所述双轴驱动结构通过直线轴承组、、、支撑在所述水平双滑杆上；和/或所述下侧滑动机构通过直线轴承组支撑在所述水平单滑杆上。

与现有技术相比，本发明解决了在已立石碑上进行机器自动雕刻的问题，与手工雕刻相比，本雕刻装置具有方便安装、雕刻速度快、正确率高等特点。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是根据本发明的已立石碑雕刻结构的结构整体布局图一；

图2是根据本发明的已立石碑雕刻结构的结构整体布局图二；

图3是根据本发明的已立石碑雕刻结构的支架结构立体图一；

图4是根据本发明的已立石碑雕刻结构的支架结构立体图二；

图5是根据本发明的已立石碑雕刻结构的双轴驱动结构立体视图一；

图6是根据本发明的已立石碑雕刻结构的双轴驱动结构立体视图二；

图7是根据本发明的已立石碑雕刻结构的雕刻机构立体视图一；

图8是根据本发明的已立石碑雕刻结构的雕刻机构立体视图二；

图9是根据本发明的已立石碑雕刻结构的雕刻机构立体视图三；

图10是根据本发明的已立石碑雕刻结构的下侧滑动结构立体视图一；以及

图11是根据本发明的已立石碑雕刻结构的下侧滑动结构立体视图二。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

图1至图10示出了根据本发明的一些实施例。

如图1和图2所示，本发明的已立石碑雕刻装置包括支架结构1、双轴驱动结构2、雕刻机构3、下侧滑动机构4、水平单滑杆5、水平双滑杆6、竖直方向连杆7、竖直方向滑轨8、竖直同步带12、以及水平同步带13。

所述的支架结构1分别安装在水平双滑杆6的两侧；双轴驱动结构2可以在水平双滑杆6上滑动；水平同步带13两端固定在支架结构1上，并且穿过双轴驱动结构2，当水平驱动电机201驱动水平同步带13时，双轴驱动结构2在水平双滑杆6上滑动。

所述的雕刻机构3安装在竖直方向滑轨8上，并且可以在竖直方向滑轨8上滑动；竖直同步带12固定在雕刻机构3上，竖直同步带12穿过竖直驱动电机202，随竖直驱动电机202转动而传动，当竖直驱动电机202转动时，雕刻机构3在竖直方向滑轨8上滑动。

所述的竖直同步带12一端通过双轴驱动结构2中的竖直驱动电机202，另外一端通过下侧滑动机构4中的竖直滑轮组总成402，后固定在雕刻机构3上。

所述的竖直方向连杆7，将水平单滑杆5和支架结构1固定连接在一起。

所述的连接头一102、连接头二104固定在水平双滑杆6的端部；支架结构支架101与水平双滑杆6固定；支架结构伸缩杆103可以在空心的水平双滑杆6中滑动，并且可以通过连接头一102、连接头二104将支架结构伸缩杆103预紧。

所述的双轴右侧支撑板204上固定连接着安装箍203、双轴直线轴承一205、双轴直线轴承二206、水平滑轮组一207、水平滑轮组二209、双轴直线轴承三210、双轴直线轴承四211、竖直滑轮组一212、竖直滑轮组二214，并形成一个固定结构。

水平驱动带轮208安装在水平驱动电机201的输出抽上；竖直驱动带轮213安装在竖直驱动电机202的输出轴上；水平滑轮组一207、水平滑轮组二209、竖直滑轮组一212、竖直滑轮组二214中含有可以自由转动的滑轮；竖直方向滑轨8通过数个安装箍203与双轴右侧支撑板204固定在一起。

所述的钻头支架309与电机驱动支架305、电机对侧滑轮组连接杆311、电机侧滑轨组连杆315通过螺钉连接在一起；钻头301安装在钻头支架309上；电机驱动支架305与电机侧滑轨304相连，且电机驱动支架305可以在电机侧滑轨304上滑动。

电机对侧滑轮组连接杆311与电机对侧滑轨组310相连，且电机对侧滑轮组连接杆311可以在电机对侧滑轨组310上滑动；电机侧滑轨组连杆315与电机侧滑轨组314相连，且电机侧滑轨组连杆315可以在电机侧滑轨组314上滑动。

电机对侧滑轨组310、电机侧滑轨304、电机侧滑轨组314固定在第三电机支架303、电机侧支架313组成的支架上；第三电机支架303、电机侧支架313、电机对侧支架317组成的支架上固定着雕刻机构直线轴承组306；使第三电机支架303、电机侧支架313组成的支架可以在竖直方向滑轨8上滑动。

电机端部轴承组308固定在第三电机支架303、电机侧支架313组成的支架上，与第三驱动电机302的丝杆316配合，使丝杆只能在电机端部轴承组308中转动；涨紧轮组307固定在涨紧轮组支架312上；涨紧轮组307外侧通过竖直同步带12。

所述的下侧滑动机构箍401将竖直方向滑轨8固定在下侧滑动机构支架总成403上；滑动机构直线轴承组404固定在下侧滑动机构支架总成403上，滑动机构直线轴承组404中通过水平单滑杆5；竖直滑轮组总成402固定在下侧滑动机构支架总成403上；竖直滑轮组总成402上面通过竖直同步带12。

本雕刻装置在已立石碑上的安装方式如下：本雕刻装置的两竖直方向连杆7停靠在石碑的前壁面上，并且令水平双滑杆6处于水平置放姿态(与石碑宽幅一致)，竖直方向滑轨8处于竖直置放姿态(与石碑高幅一致)，然后使支架结构伸缩杆103伸出，然后由连接头一102和连接头二104锁紧，并且通过卡具将端压板105固定在石碑上。竖直方向连杆7的下端可通过绑带绑紧等方式使之依附在石碑上。

本雕刻装置在已立石碑上的雕刻过程如下：本雕刻装置按压在石碑前壁面上保持固定不动后，通过程序将雕刻图案转化为在雕刻机构在竖直平面内的二维进给量和雕刻机构的钻头在垂直于前壁面方向上的进给量，进而实现图案雕刻。在本发明中，文字、图形等痕迹均被视为图案。

与现有技术相比，本发明解决了在已立石碑上进行机器自动雕刻的问题，可满足常规幅面的石碑的雕刻，对于较大的石碑雕刻，也可由多次雕刻的幅面拼接而成。与手工雕刻相比，本雕刻装置具有方便安装、雕刻速度快、正确率高等特点。

本雕刻装置能够兼容其他置放姿态的石碑的雕刻，例如水平放置姿态或倾斜放置姿态。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。