一种釉料循环装置的制作方法

1.本实用新型涉及瓷砖生产设备技术领域，特别涉及一种釉料循环装置。


背景技术：

2.申请号为201720650068.3的中国专利公开了一种整体淋釉系统，包括吹灰加湿机构、淋釉机构和遮挡机构。其中，淋釉机构包括有釉料斗、球面淋釉盘、接釉槽和接料斗，釉料斗的釉料出口上方安装有过滤网。淋釉机构工作时，釉料会经过如下循环过程：釉料斗—球面淋釉盘—接釉槽—接料斗—釉料斗，但是接釉槽长时间使用时，接触槽的表面容易粘附釉料，使得釉料在循环输送的过程中，釉料会携带杂质，并且釉料中的矿物原料会出现团聚的情况。虽然釉料斗的釉料出口上方安装有过滤网，但是过滤网长时间使用时容易出现堵塞的问题，进而影响釉料的正常循环输送。
3.可见，现有技术还有待改进和提高。


技术实现要素：

4.鉴于上述现有技术的不足之处，本实用新型的目的在于提供一种釉料循环装置，旨在解决现有的淋釉机构在工作的过程中，因釉料斗的釉料出口上方安装有过滤网，而使釉料的正常循环输送受到影响的问题。
5.为了达到上述目的，本实用新型采取了以下技术方案：
6.一种釉料循环装置，包括釉料斗、球面淋釉盘以及接釉槽；进一步的，还包括振动筛、第一釉缸、第一釉泵以及第二釉泵；所述第一釉泵用于将接釉槽内的釉料抽送至所述振动筛内；所述第一釉缸用于接收振动筛筛选出的釉料；所述第二釉泵用于将第一釉缸内的釉料抽送至釉料斗中。
7.所述的釉料循环装置中，所述第一釉缸的一侧设有与第一釉缸连通的接釉盆；所述接釉盘设于振动筛出料口的下方，且接釉盆内设有第一釉筛。
8.所述的釉料循环装置中，所述振动筛内设有筛网；所述筛网的目数大于第一釉筛的目数。
9.所述的釉料循环装置中，所述第一釉缸内设有搅拌机构，且第一釉缸的上方架设有用于驱动搅拌机构工作的驱动机构。
10.所述的釉料循环装置中，所述搅拌机构包括搅拌杆和与搅拌杆连接的多根搅拌叶片；所述搅拌杆与所述驱动机构的输出轴传动连接；所述第一釉缸内还设有除铁棒，所述除铁棒位于搅拌杆下端下方。
11.所述的釉料循环装置中，所述第一釉缸连通有过滤器；所述过滤器连接有送釉管道；所述送釉管道的另一端与釉料斗连接；所述第二釉泵设于送釉管道上。
12.进一步的，所述的釉料循环装置还包括第二釉缸；所述第二釉缸用于接收接釉槽内的釉料；所述第一釉泵为泥浆泵；所述泥浆泵设于第二釉缸内，且泥浆泵连接有输釉管道；所述输釉管道的另一端与振动筛连接；所述第二釉缸上架设有第二釉筛；所述第二釉筛
的目数大于所述筛网的目数。
13.所述的釉料循环装置中，所述送釉管道上设有流量调节阀。
14.有益效果：
15.本实用新型提供了一种釉料循环装置，通过设置振动筛便可使接釉槽内的釉料得到过滤筛选，与现有的淋釉机构相比，无需在釉料斗的釉料出口上方安装过滤网，釉料斗的出釉通道不会出现堵塞的情况，釉料的循环输送不会受到影响。
附图说明
16.图1为本实用新型提供的釉料循环装置的结构示意图。
17.图2为所述第一釉缸的结构示意图一。
18.图3为所述第二釉缸的结构示意图二。
19.图4为所述第二釉缸的结构示意图。
20.附图标记：
21.1-釉料斗；2-球面淋釉盘；3-接釉槽；
22.4-振动筛；41-筛网；
23.5-第一釉缸；6-第一釉泵；7-第二釉缸；8-输釉管道；9-接釉盆；
24.10-搅拌机构；101-搅拌杆；102-搅拌叶片；
25.11-驱动机构；12-过滤器；13-送釉管道；14-第二釉筛；15-流量调节阀；16-输送机构；17-砖坯；18-第一釉筛；19-除铁棒。
具体实施方式
26.本实用新型提供了一种釉料循环装置，为使本实用新型的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本实用新型作进一步详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
27.在本实用新型中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本实用新型及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本实用新型中的具体含义。
28.此外，术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”应做广义理解。例如，可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
29.此外，术语“第一”、“第二”等主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分(具体的种类和构造可能相同也可能不同)，并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量。除非另有说明，“多个”的含义为两个或两个以上。
30.如图1所示，本实用新型提供了一种釉料循环装置，包括釉料斗1、球面淋釉盘2以
及接釉槽3；所述釉料斗1设置在砖坯输送机构16的上方；进一步的，还包括振动筛4、第一釉缸5、第一釉泵6以及第二釉泵(附图未示出)；所述第一釉泵6用于将接釉槽3内的釉料抽送至所述振动筛4内；所述第一釉缸5用于接收振动筛4筛选出的釉料；所述第二釉泵用于将第一釉缸5内的釉料抽送至釉料斗1中。可以理解的是，所述釉料斗1、球面淋釉盘2以及接釉槽3为现有技术，并不在本技术的保护范围内。
31.所述釉料循环装置工作时，接釉槽3内的釉料能够通过第一釉泵6被抽送到振动筛4内，釉料被抽送到振动筛4后，釉料中团聚严重的矿物原料和一些大颗粒杂质会存留在振动筛4的筛网41上，从而使釉料得到过滤并且釉料的细度能够达到淋釉需求。接釉槽3的釉料经过振动筛4的筛选后，釉料能够通过第二釉泵被抽送到釉料斗1内，并用于淋釉作业，而未施加至砖坯17的釉料会再次落入到接釉槽3内，并继续由第一釉泵6抽送至振动筛4中筛选，如此不断循环。与现有的淋釉机构相比，本实用新型接釉槽3内釉料的过滤筛选无需通过在釉料斗1的釉料出口上方安装过滤网来实现，因而釉料斗1的出釉通道不会出现堵塞的情况，釉料的循环输送不会受到影响。
32.如图1和图2所示，一种实施例中，所述第一釉缸5的一侧设有与第一釉缸5连通的接釉盆9；所述接釉盆9设于振动筛4出料口的下方。釉料通过振动筛4过滤筛选后，釉料首先由振动筛4的出料口落入到接釉盆9内，然后在进入到第一釉缸5内。此外，接釉盆9内设有第一釉筛18，并且第一筛网41的目数小于振动筛4筛网41的目数，这样通过第一釉筛18可使釉料进一步得到过滤筛选，并使釉料的细度更细，淋釉更好，釉料淋在砖坯17上后，釉面质量也能够得到提升。
33.一种实施例中，所述第一釉缸5内设有搅拌机构10，且第一釉缸5的上方架设有用于驱动搅拌机构10工作的驱动机构11(驱动机构11可以是电机)。
34.实际生产中，釉料会不断消耗，因此生产人员需要定期向第一釉缸5内补入新釉，而新釉的细度虽然能够经球磨工艺达到使用要求，但是新釉在使用前会储存较长的时间，并釉料中的矿物原料出现团聚的情况，故通过设置搅拌机构10来搅拌第一釉缸5中的釉料，可使釉料中的矿物原料充分得到分散，从而进一步改善淋釉效果并提升釉面质量。
35.如图3所示，一种实施例中，所述搅拌机构10包括搅拌杆101和与搅拌杆101连接的多根搅拌叶片102；所述搅拌杆101与所述驱动机构11的输出轴传动连接；所述第一釉缸5内还设有除铁棒19。由于新釉和旧釉在运输或输送过程中可能会携带铁磁类杂质，因而本实施例在第一釉缸5内放置除铁棒19，通过除铁棒19来吸附釉料中携带的铁磁类杂质，可使淋在砖坯17上的釉料含铁量减少，并可进一步提升釉面质量。
36.如图3所示，进一步的，所述除铁棒19位于搅拌杆101下端下方，不会对搅拌机构10的正常工作造成影响。
37.如图2所示，一种实施例中，所述第一釉缸5连通有过滤器12；所述过滤器12连接有送釉管道13；所述送釉管道13的另一端与釉料斗1连接；所述第二釉泵设于送釉管道13上。第二釉泵将第一釉缸5的釉料抽送至釉料斗1的过程中，釉料会经过过滤器12，而过滤器12能够对釉料进一步过滤，从而使淋于砖坯17的釉料品质能够进一步得到提升。
38.如图1和图4所示，一种实施例中，所述的釉料循环装置还包括第二釉缸7；所述第二釉缸7用于接收接釉槽3内的釉料；所述第一釉泵6为泥浆泵；所述泥浆泵设于第二釉缸7内，且泥浆泵连接有输釉管道8；所述输釉管道8的另一端与振动筛4连接；所述第二釉缸7上
架设有第二釉筛14；所述第二釉筛14用于过滤筛选接釉槽3流出的釉料，且第二釉筛14的目数大于所述筛网41的目数，这样能够使釉料过滤筛选的次数能够再增加，使得淋于砖坯17的釉料品质再次得到提升。
39.如图2所示，一种实施例中，所述送釉管道13上设有流量调节阀15。流量调节阀15的设置便于生产人员调节抽送至釉料斗1内的釉料流量，以更好的满足淋釉作业的需求。
40.综上所述，本实用新型提供了一种釉料循环装置，通过设置振动筛便可使接釉槽内的釉料得到过滤筛选，与现有的淋釉机构相比，无需在釉料斗的釉料出口上方安装过滤网，釉料斗的出釉通道不会出现堵塞的情况，釉料的循环输送不会受到影响。
41.可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。