专利名称：双面纵向沟槽砌墙砖的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种双面纵向沟槽砌墙砖，属于建筑材料的技术领域。
在建筑业中砖瓦之类建筑材料仍是广泛使用，其形状、尺寸、材质均已规范化，CN2121492专利对墙体的内外罩面装饰材料寿命短易起鼓，易脱落，提出了在机制砖侧面设置了梯形槽，克服了在直缝状态下，材料抓力不强所造成上述缺陷，目前仍未推广使用，由于机制砖表面光滑，砌砖时常发生砖间滑落，使沾灰结构力较差，另外砖坯易变形。尚待进一步改善。
本实用新型的目的是要提供一种双面纵向沟槽的砌墙砖，它可以克服上述的不足，只是在砖体的顶面和底面设置沟槽，结构简单，收效显著，也易于制造。
本实用新型的目的是这样实现的在砖体的顶面和底面各设置三条平行的矩形沟槽，上下沟槽是对齐的，由于沟槽的存在，在砌墙抹灰时，使沾灰结构力较强，砖面之间不会产生相对的滑动，提高了砌砖的质量。
图1为双面纵向沟槽砌墙砖示意图。
图2为附
图1的A－A剖视图。
兹结合附图对双面纵向沟槽砌墙砖的结构详细叙述。
由
图1、图2砖体1的顶面2和底面3，其纵向设置三条平行的矩形沟槽4，上下沟槽的位置也是对齐的。
一般砖的尺寸240×115×53毫米的规格现采用177.5×115×53毫米砖配套使用，沟槽的尺寸是槽宽10毫米，槽深5毫米。
由于砖的顶面和底面都有沟槽，砌墙抹灰时，砖与砖之间不再发生滑动，沾灰结构力较强，而且砖坯体积减小，也不易变形；施工时砌砖也较方便，另外可节省材料，节能25％左右。
与现有技术相比，双面纵向沟槽砌墙砖，具有下列优点1.砌砖之间不发生滑动，沾灰结构力较强。
2.砌砖方便，砖坯体积减小，不易变形。
3.可节省材料，节能25％。
权利要求1.一种双面纵向沟槽砌墙砖，其特征在于砖体(1)的顶面(2)和底面(3)均有三条纵向沟槽，沟槽互相平行，上下沟槽的位置也是对齐。
专利摘要一种双面纵向沟槽砌墙砖，其砖体顶面和底面均有三条互相平行的沟槽，上下沟槽的位置也是对齐的，砌砖时，砖与砖之间不再发生滑动，沾灰结构力较强，体积减小，砖不易发生变形，砌砖也方便，还可节省材料，节能25％。
文档编号E04B2/04GK2168031SQ93223998
公开日1994年6月8日 申请日期1993年9月14日 优先权日1993年9月14日
发明者牛序江 申请人:牛序江