一种深基坑支护桩补强设计方法与流程

本发明涉及一种深基坑支护桩补强设计方法，属于岩土工程领域的基坑支护及地下工程技术领域。

背景技术：

为了满足城市建设的需要，很多项目开发进度较快，建筑功能及地下室层数有时会边施工边调整。有些项目存在基坑支护桩已经施工完毕了，但地下室层数要增加等的情况，基坑的深度较原设计深度会有大幅度增加，已施工完成的支护桩的桩长及桩径等往往不能满足深度增加后的基坑工程的受力需要。为确保基坑工程及周边环境的安全，必须对原基坑围护体系进行加固设计。目前常用的加固设计方法一般考虑将已施工完成的支护桩作废，在原支护桩外侧重新按基坑的深度需要进行支护桩的设计及施工，该方法整体造价高，会造成社会资源的极大浪费，另一方面支护体所占据的空间也比较大，且施工工期较长。

技术实现要素：

本发明需要解决的技术问题是：现有的深基坑支护桩补强设计，一般考虑将已施工完成的支护桩作废，在原支护桩外侧重新按基坑的深度需要进行支护桩的设计及施工，该方法整体造价高，会造成社会资源的极大浪费，另一方面支护体所占据的空间也比较大，且施工工期较长。

本发明采取以下技术方案：

一种深基坑支护桩补强设计方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在已施工的支护桩与拟建地下室外墙8之间设置补打支护桩；S2、已施工的支护桩与补打支护桩之间固定设置高压旋喷桩；S3、在新补打支护桩的桩顶固定设置与已施工的支护桩连接的钢筋混凝土圈梁5；S4、施工地下室外墙8。

进一步的，所述补打支柱桩为钻孔灌注桩3，所述已施工的支护桩为围护灌注桩2。

进一步的，所述高压旋喷桩为止水高压旋喷桩4，用于已施工支护桩与补打的钻孔灌注桩的桩间土体加固，兼用于止水桩补强。

进一步的，步骤S3中：已施工支护桩通过U型筋横向与钢筋混凝土圈梁5固定连接，补支护桩通过桩顶主筋与钢筋混凝土圈梁连接，桩顶主筋锚入钢筋混凝土圈梁。

更进一步的，步骤S3包括：凿除围护灌注桩2主筋保护层，安装U型筋7，浇筑混凝土，将已施工围护灌注桩2、新增钻孔灌注桩3及钢筋混凝土圈梁连接为一个整体，分层开挖至坑底标高。

进一步的，所述补打支护桩与已施工的支护桩一一对应，各个补打支护桩与对应的已施工的支护桩之间的横向间距相同。

更进一步的，相邻的止水高压旋喷桩4之间相互嵌入地固定连接。

本发明的有益效果在于：

1)充分利用已施工的支护桩，对已有支护桩采用补强设计理念，工程造价低，工期短，具有良好的社会效益和经济效益；

2)支护体无需占用额外的施工场地。新增支护体充分利用已施工支护体与地下室外墙之间的空间，主要分布在已有支护体与拟建地下室外墙之间。

3)该方法在施工用地较为紧张的项目中具有较高的实用性及经济价值。

4)止水高压旋喷桩用于已施工支护桩与补打的钻孔灌注桩的桩间土体加固，兼用于止水桩补强，一举两得，设计巧妙。

附图说明

图1为本发明中用于深基坑支护桩补强设计的俯视图；

图2为本发明中用于深基坑支护桩补强设计的侧视图；

图3为本发明中已施工支护桩、补打的钻孔灌注桩与钢筋混凝土圈梁的连接详图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进一步说明。

参见图1-图3，一种深基坑支护桩补强设计方法，包括以下步骤：S1、在已施工的支护桩与拟建地下室外墙8之间设置补打支护桩；S2、已施工的支护桩与补打支护桩之间固定设置高压旋喷桩；S3、在新补打支护桩的桩顶固定设置与已施工的支护桩连接的钢筋混凝土圈梁5；S4、施工地下室外墙8。

参见图2，所述补打支柱桩为钻孔灌注桩3，所述已施工的支护桩为围护灌注桩2。

参见图1-2，所述高压旋喷桩为止水高压旋喷桩4，用于已施工支护桩与补打的钻孔灌注桩的桩间土体加固，兼用于止水桩补强。

参见图2-3，步骤S3中：已施工支护桩通过U型筋横向与钢筋混凝土圈梁5固定连接，补支护桩通过桩顶主筋与钢筋混凝土圈梁连接，桩顶主筋锚入钢筋混凝土圈梁。

参见图2-3，步骤S3包括：凿除围护灌注桩2主筋保护层，安装U型筋7，浇筑混凝土，将已施工围护灌注桩2、新增钻孔灌注桩3及钢筋混凝土圈梁连接为一个整体，分层开挖至坑底标高。

参见图1，所述补打支护桩与已施工的支护桩一一对应，各个补打支护桩与对应的已施工的支护桩之间的横向间距相同。

参见图1，相邻的止水高压旋喷桩4之间相互嵌入地固定连接。

在具体施工过程中，参见图1-3，首先安装已施工止水桩1及围护灌注桩2，然后安装新增灌注桩3及止水高压旋喷桩4，分层开挖至钢筋混凝土圈梁5底面标高，将新增钻孔灌注桩3内部主筋6凿除至设计标高，凿除围护灌注桩2主筋保护层，安装U型筋7，浇筑混凝土，将已施工围护灌注桩2、新增钻孔灌注桩3及钢筋混凝土圈梁连接为一个整体，分层开挖至坑底标高，及时施工地下室外墙8。

以上是本发明的优选实施例，在此基础上，本发明还可以有各种变化和改进，在不脱离本发明总的构思的前提下，这些变化和改进仍然属于本发明要求的保护范围之内。