真空吸附平台的制作方法

1.本实用新型涉及真空吸附技术领域，特别涉及一种真空吸附平台。


背景技术：

2.在向柔性膜材表面贴附功能性膜材的过程中，现有技术通常是通过在平台上设置多个真空吸附孔以将柔性膜材吸附固定在平台上，真空吸附孔的孔口处设有倒角，在吸附超薄型(厚度小于300微米)的柔性膜材时，容易使柔性膜材在吸附处发生塑性变形，如图1所示，尤其在光电薄膜类材料中，柔性膜材变形会导致其功能性变差。


技术实现要素：

3.本实用新型的主要目的是提出一种真空吸附平台，旨在防止柔性膜材在真空吸附时发生塑性变形。
4.为实现上述目的，本实用新型提出的真空吸附平台，包括：
5.平台本体，所述平台本体设有通气通道，所述通气通道与真空源连接，所述平台本体的上表面间隔设置有多个贯穿至所述平台本体上表面的吸附孔，所述吸附孔靠近所述平台本体上表面的侧壁垂直于所述平台本体的上表面，所述吸附孔与所述通气通道连通。
6.可选的，多个所述吸附孔呈阵列排列。
7.可选的，相邻两排的所述吸附孔错位设置。
8.可选的，各排所述吸附孔之间的排间距一致，各列所述吸附孔之间的列间距一致。
9.可选的，相邻两排所述吸附孔之间的间距为0.3厘米至0.4厘米，相邻两列所述吸附孔之间的间距为0.3至0.4厘米。
10.可选的，所述吸附孔沿所述平台本体厚度方向延伸。
11.可选的，所述吸附孔为圆柱形孔。
12.可选的，所述吸附孔的孔径为0.2毫米至0.3毫米。
13.可选的，所述通气通道包括沿所述平台本体长度方向延伸的第一通气通孔，所述平台本体包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁，所述第一通气通孔的两孔口分别设于所述第一侧壁和所述第二侧壁上，所述吸附孔与所述第一通气通孔连通，所述第一通气通孔与所述真空源连接。
14.可选的，所述通气通道还包括沿所述平台本体宽度方向延伸的第二通气通孔，所述平台本体还包括连接所述第一侧壁和所述第二侧壁并且相对设置的第三侧壁与第四侧壁，所述第二通气通孔的两孔口分别设于所述第三侧壁和所述第四侧壁上，所述第一通气通孔与所述第二通气通孔相交以相互连通，所述吸附孔还与所述第二通气通孔连通，所述第二通气通孔与所述真空源连接。
15.可选的，所述第一通气通孔与所述第二通气通孔的数量均为多个，多个所述第一通气通孔间隔设置，多个所述第二通气通孔间隔设置。
16.可选的，所述第一通气通孔和所述第二通气通孔均为圆柱形孔。
17.本实用新型技术方案通过设置吸附孔靠近所述平台本体上表面的侧壁垂直于所述平台本体的上表面，即吸附孔的上孔口处没有倒角，使得在抽真空时，吸附孔的上孔口处于同一高度的各点的流速相等，即各点受到的压强差相等，整体受力更均匀，能够有效防止柔性膜材真空吸附在平台上表面时发生塑性变形。
附图说明
18.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
19.图1为现有技术的真空吸附平台的贴膜效果图；
20.图2为本实用新型真空吸附平台一实施例的剖视图；
21.图3为现有技术的真空吸附平台的吸附孔的局部放大示意图；
22.图4为本实用新型真空吸附平台的吸附孔的局部放大示意图；
23.图5为本实用新型真空吸附平台的贴膜效果图；
24.图6为本实用新型真空吸附平台一实施例的俯视图；
25.图7为本实用新型真空吸附平台其他实施例中吸附孔的结构示意图；
26.图8为本实用新型真空吸附平台一实施例的另一剖视图。
27.附图标号说明：
28.标号名称标号名称100真空吸附平台20通气通道10平台本体21第一通气通孔11第一侧壁22第二通气通孔12第二侧壁30吸附孔13第三侧壁40膜材14第四侧壁
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29.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
30.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
32.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一
个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
33.本实用新型提出一种真空吸附平台100。
34.在本实用新型实施例中，如图2所示，该真空吸附平台100，包括：
35.平台本体10，所述平台本体10设有通气通道20，所述通气通道20与真空源连接，所述平台本体10的上表面间隔设置有多个贯穿至所述平台本体10上表面的吸附孔30，所述吸附孔30靠近所述平台本体10上表面的侧壁垂直于所述平台本体10的上表面，所述吸附孔30与所述通气通道20连通。
36.在oled、lcd、mini led、micro led等光电显示行业中会应用到许多类型的光电薄膜类材料，例如pi膜(聚酰亚胺)、pva膜(聚乙烯醇)、阻水膜、支撑膜、及临时保护膜等柔性膜材，这些柔性膜材的杨氏模量值(描述固体材料抵抗形变能力的物理量)比较小，抗形变能力差，在使用真空吸附平台100吸附固定这些柔性膜材时，如果吸附孔30处的受力不均匀，即吸附孔30内各点的吸附力大小不同，则某处的吸附力可能会超过柔性膜材的弹性极限，使柔性膜材在吸附处产生不可逆的塑性形变，导致生成出来的显示器件的性能不佳，甚至造成产品报废。
37.吸附孔30受力不匀的原因如图3所示，在现有的真空吸附平台100抽真空时，在相同的时间内，气体在吸附孔30中心处从c到d移动的距离为h，气体在吸附孔30倒角处从a到b移动的距离为s，s要大于h，因此，根据伯努利原理，相同时间内，吸附孔30倒角处的气流比吸附孔30中心处的流速快，则倒角处的压强小于中心处的压强，那么在相同的外部正压强下，膜材40在倒角处受到的压强差大于在中心处受到的压强差，所以膜材40在吸附孔30上的受力是不均匀的。
38.如图4所示，本实用新型技术方案通过设置吸附孔30的靠近平台本体10上表面的侧壁垂直于平台本体10的上表面，即吸附孔30的上孔口处没有倒角，使得在抽真空时，吸附孔30的上孔口处于同一高度的各点的流速相等，即膜材40各点受到的压强差相等，整体受力更均匀，能够有效防止柔性膜材真空吸附在平台上表面时发生塑性变形，效果如图5所示。
39.具体的，平台本体10的厚度优选为1.3厘米至1.5厘米。
40.通气通道20通过连接软管以连接真空源，真空源为真空泵。
41.进一步的，如图2所示，所述吸附孔30沿所述平台本体10厚度方向延伸。
42.具体的，吸附孔30的轴向垂直于平台本体10，便于制孔，降低加工难度。
43.在其他实施例中，吸附孔30也可以是倾斜设置的。
44.进一步的，如图6所示，多个所述吸附孔30呈阵列排列。
45.在本实施例中，多个吸附孔30排列成阵列状，吸附孔30规则排列使平台本体10上表面的吸附力均匀分布，并且吸附孔30规则排列有利于在生产真空吸附平台100时，实现规模化制孔；在其他实施例中，多个吸附孔30也可以是无序分布在平台本体10的上表面。
46.具体的，多个吸附孔30沿平台本体10长度方向间隔排列形成吸附孔30排，吸附孔30排沿平台本体10宽度方向间隔排列形成吸附孔30阵列。
47.如图6中所示，平台本体10长度方向为x，平台本体10宽度方向为y。
48.进一步的，如图6所示，相邻两排的所述吸附孔30错位设置。
49.具体的，相邻两排的吸附孔30错位设置可以有效利用吸附孔30之间的空位，使吸附孔30的分布更加致密，以使吸附力在平台本体10上表面的分布更均匀。
50.在其他实施例中，相邻两排的吸附孔30也可以是正对设置的，即不错位设置，形成方形阵列。
51.进一步的，如图6所示，各排所述吸附孔30之间的排间距一致，各列所述吸附孔30之间的列间距一致，使吸附孔30在平台本体10上表面的分布更加均匀，吸附力在平台本体10上表面的分布更均匀。
52.具体的，沿平台本体10长度方向x排列定义为“排”，沿平台本体10宽度方向y排列定义为“列”，吸附孔30位于其相邻两排吸附孔30的中心线上，同时该吸附孔30还位于其相邻两列吸附孔30的中心线上。
53.进一步的，如图6所示，相邻两排所述吸附孔30之间的间距为0.3厘米至0.4厘米，相邻两列所述吸附孔30之间的间距为0.3至0.4厘米。
54.具体的，吸附孔30到相邻一排吸附孔30的距离为a，吸附孔30到相邻一列吸附孔30的距离为b。
55.在本实施例中，吸附孔30到相邻一排吸附孔30的距离为0.3厘米至0.4厘米，吸附孔30到相邻一列吸附孔30的距离为0.3厘米至0.4厘米，并且，a等于b。
56.需要说明的是，在其他实施例中，a和b可以小于0.3厘米，也可以大于0.4厘米，并且，a可以不等于b。
57.进一步的，如图6所示，所述吸附孔30为圆柱形孔，便于制孔，降低加工难度。
58.在其他实施例中，如图7所示，吸附孔30还可以是如图7中示出的三种孔型，从左往右，第一种是吸附孔30分成三段，上段和下段的侧壁均垂直于平台本体10上表面，中段的侧壁平行于平台本体10上表面，第二种是吸附孔30分成两段，上段和下段的侧壁均垂直于平台本体10上表面，下段要比上段的孔径小，第三种是吸附孔30分为两段，上段的侧壁垂直于平台本体10上表面，下段的侧壁倾斜设置，下段的孔径从上至下递增。三种吸附孔30的上段的深度为0.5厘米至1厘米，以保证在抽真空时，吸附孔30的上孔口处于同一高度的各点的流速相等。还有对于第二种吸附孔30，吸附孔30上段的深度除以吸附孔30上段的孔径要大于0.5。
59.吸附孔30也可以是四棱柱形孔、三棱柱形孔等，满足吸附孔30靠近平台本体10上表面的侧壁是垂直于平台本体10上表面即可。
60.需要说明的是，图7仅表示可以在其他实施例中使用的三种吸附孔30的结构，目的是方便理解，并不代表平台本体10上会同时设置不同类型的吸附孔30，通常平台本体10上只设置一种类型的吸附孔30。
61.进一步的，所述吸附孔30的孔径为0.2毫米至0.3毫米。
62.具体的，所述吸附孔30的直径为0.2毫米、0.21毫米、0.22毫米、0.23毫米、0.24毫米、0.25毫米、0.26毫米、0.27毫米、0.28毫米、0.29毫米、0.3毫米。
63.需要说明的是，吸附孔30的直径还可以为0.1毫米、0.35毫米、0.4毫米等。
64.进一步的，如图8所示，所述通气通道20包括沿所述平台本体10长度方向延伸的第一通气通孔21，所述平台本体10包括相对设置的第一侧壁11和第二侧壁12，所述第一通气
通孔21的两孔口分别设于所述第一侧壁11和所述第二侧壁12上，所述吸附孔30与所述第一通气通孔21连通，所述第一通气通孔21与所述真空源连接。
65.所述通气通道20还包括沿所述平台本体10宽度方向延伸的第二通气通孔22，所述平台本体10还包括连接所述第一侧壁11和所述第二侧壁12并且相对设置的第三侧壁13与第四侧壁14，所述第二通气通孔22的两孔口分别设于所述第三侧壁13和所述第四侧壁14上，所述第一通气通孔21与所述第二通气通孔22相交以相互连通，所述吸附孔30还与所述第二通气通孔22连通，所述第二通气通孔22与所述真空源连接。
66.具体的，第一通气通孔21的中心线与第二通气通孔22的中心线位于同一平面上。
67.第一通气通孔21两端孔口与第二通气通孔22两端孔口均连接软管以与真空源连接，即通气通道20与真空源之间形成多条气路，能够增快真空吸附平台100抽真空的速度。
68.在本实施例中，第一通气通孔21与第二通气通孔22相交连通形成通气通道20；在其他实施例中，还可以是在平台本体10内设置腔体，通过在平台本体10侧壁上设置与腔体连通的通孔，腔体与通孔连通形成通气通道20，腔体与吸附孔30连通，通孔与真空源连接。
69.进一步的，如图8所示，所述第一通气通孔21与所述第二通气通孔22的数量均为多个，多个所述第一通气通孔21间隔设置，多个所述第二通气通孔22间隔设置。
70.具体的，多个第一通气通孔21与多个第二通气通孔22相交连通形成网格状的通气通道20。
71.设置多个第一通气通孔21及多个第二通气通孔22可以进一步提高真空吸附平台100抽真空的速度。
72.进一步的，如图2和图8所示，所述第一通气通孔21和所述第二通气通孔22均为圆柱形孔便于制孔，降低加工难度。
73.优选的，第一通气通孔21和第二通气通孔22的直径为0.5厘米至0.6厘米。
74.具体的，第一通气通孔21和第二通气通孔22的直径可以为0.5厘米、0.51厘米、0.52厘米、0.53厘米、0.54厘米、0.55厘米、0.56厘米、0.57厘米、0.58厘米、0.59厘米、0.6厘米，当然，如果要进一步提高真空吸附平台100的抽真空效率，还可以进一步增大第一通气通孔21和第二通气通孔22的直径，例如0.7厘米、0.8厘米等。
75.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。