垫板用浸润保湿装置的制作方法

1.本实用新型涉及电子工业和半导体材料生产制造技术领域，具体涉及一种垫板用浸润保湿装置。


背景技术：

2.近年来，随着半导体材料的不断发展，氮化镓(gan)、碳化硅(sic)、氧化锌(zno)、金刚石等材料现已成为半导体领域最具发展前景的新型材料。现如今，很多晶体材料已经形成了完整的产业链，从原材料、晶体、衬底、外延、芯片、模块的组合，实现了有效的半导体晶体材料的应用。
3.在半导体晶片的加工中会涉及到晶片的抛光工序，在抛光工序中为了保证晶片抛光的厚度均匀性(ttv)，需要在机台抛头与抛光盘上端面之间垫上一层垫板。垫板材质一般为聚氨酯或氧化铈，其作用是在抛头与抛光盘之间形成压力缓冲并调节抛头的压力均匀性。在每一段抛光过程结束后，都需要将垫板取出进行清洗，而清洗结束后的垫板如果直接放在台架上，待垫板稍干后会卷曲变形，卷曲变形的垫板在使用时会严重影响晶片抛光的厚度均匀性(ttv)，造成晶片抛光质量的不合格。因此，垫板在不使用时必须将垫板浸润在清水中保持湿润。
4.一般情况下，根据抛头的大小以及压力分布的不同，垫板有多种规格，各种规格不一的垫板堆放在水箱中取用时也非常的不方便。因此，在实际生产中如何既能保证垫板的湿润，又能方便工人们拿取使用，成为技术人员亟需解决的问题。


技术实现要素：

5.针对上述问题，本实用新型提供了一种垫板用浸润保湿装置，通过在装置本体的容纳腔内并排且竖立设置有多个挡板，并且每相邻两个挡板之间形成格挡，因而使得大大小小各种规格的待浸润的垫板可以竖向放置在不同的格挡内，而且每个挡板上开设有缺口，非常方便垫板的取放，因而既保证了垫板的湿润不变形，也能够提高作业效率。
6.为了实现上述目的，本实用新型提供了一种垫板用浸润保湿装置。
7.该垫板用浸润保湿装置包括装置本体和多个挡板；所述装置本体包括具有开口的容纳腔；所述多个挡板并排且竖立在所述容纳腔内，并且所述多个挡板之间间隔设置；每个所述挡板上至少靠近所述开口的一端沿所述挡板的高度方向均开设有缺口。
8.进一步的，每个所述挡板上的所述缺口均贯穿所述挡板的高度方向设置，并且所述缺口设置在所述挡板的中部。
9.进一步的，所述缺口的宽度为140～180mm。
10.进一步的，所述装置本体为采用多个不锈钢板合围形成的长方体结构。
11.进一步的，所述装置本体的长度为1000～1500mm，宽度为550～600mm，高度为600～700mm。
12.进一步的，相邻两个所述挡板之间的宽度为20～50mm；所述挡板的高度为500～
550mm。
13.进一步的，所述装置本体上设置有把手。
14.进一步的，所述装置本体的底部设置有多个万向轮和多个定向轮。
15.进一步的，所述装置本体的侧壁上设有连通所述容纳腔的排放口。
16.进一步的，所述挡板为聚乙烯塑料板、聚丙烯塑料板或聚碳酸酯塑料板。
17.在本实用新型实施例中，通过在装置本体的容纳腔内并排且竖立设置有多个挡板，并且每相邻两个挡板之间形成格挡，因而使得大大小小各种规格的待浸润的垫板可以竖向放置在不同的格挡内，而且每个挡板上开设有缺口，非常方便垫板的取放，最终使得该装置既保证了垫板的湿润不变形，为晶片抛光质量提供了保障，也能够提高作业效率。
附图说明
18.通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本实用新型的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
19.图1为本实用新型中垫板用浸润保湿装置的装置示意图；
20.图2为本实用新型中装有垫板的浸润保湿装置的结构示意图；
21.图3为本实用新型中各种规格的垫板的结构示意图。
22.图中：
23.1、装置本体；2、挡板；3、缺口；4、把手；5、万向轮；6、定向轮；7、水龙头；8、垫板。
具体实施方式
24.下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
25.根据本实用新型的实施方式，提供了一种垫板用浸润保湿装置，该垫板可以为晶片抛光用垫板，该垫板用浸润保湿装置主要包括装置本体1和多个挡板2。
26.如图1所示，装置本体1内部具有容纳腔，并且装置本体1的顶端敞口设置；多个挡板2并排且竖立在容纳腔内，并且多个挡板2之间间隔设置；每个挡板2上至少靠近开口的一端沿挡板2的高度方向均开设有缺口3。
27.在上述实施例中，每个挡板2的下端设置在容纳腔内，上端为自由端，相邻两个挡板2之间形成格挡；在装置本体1的容纳腔内加满清水或其它浸泡液，将待浸润的垫板8竖向放入相邻的两个挡板2之间，并且大大小小的各种规格的垫板8可以分别放置在每两个相邻的挡板2之间，而且挡板2上缺口3的设计，非常方便取用垫板8。垫板8可长时间放置在容纳腔内保持湿润不变形，因此该垫板用浸润保湿装置既保证了垫板8的湿润不变形，又能为晶片抛光质量提供了保障，还能够提高操作人员的作业效率。
28.在本实用新型的实施例中，每个挡板2上的缺口3均贯穿挡板2的高度方向设置，也即缺口3贯穿挡板2的上下两端设置，如图1所示。上下贯穿设置的缺口3不仅便于取放垫板8，还便于容纳腔内水的流通更换。
29.在本实用新型的实施例中，每个挡板2上的缺口3均设置在挡板2的中部，如图2所示，缺口3设置位置的一致性，更加方便操作人员取放垫板8。
30.如图1所示，缺口3的宽度m1设置在140～180mm范围内。
31.缺口3太窄，则不方便取放，也容易碰到手；缺口3太大，则起不到隔挡的作用。
32.如图1所示，装置本体1为采用多个不锈钢板合围形成的长方体结构。在实际操作中可以采用焊接工艺将多个多个不锈钢板焊接形成装置本体1。
33.在本实用新型的实施例中，不锈钢板的厚度在3～5mm范围内。
34.如果不锈钢板太薄，则装置的稳定性不好；而如果不锈钢板太厚，则整个装置的重量会增加，不方便工人使用。
35.如图1所示，装置本体1的长度l1设置在1000～1500mm范围内，宽度l2设置在550～600mm范围内，高度l3设置在600～700mm范围内。该装置本体1长宽高的尺寸设计主要考虑要便于各种规格的垫板8的使用。
36.如图1所示，相邻两个挡板2之间的宽度m2在20～50mm范围内。
37.相邻两个挡板2之间的距离太宽，则起不到润湿防变形的作用；而距离太窄，则不便于取放。
38.在本实用新型的实施例中，挡板2的高度h设置在500～550mm范围内。
39.挡板2的高度太高，则浪费材料也不利于取放；高度太低，则起不到隔挡的作用，导致各种规格的垫板8的上端容易堆叠在一起。
40.在本实用新型的实施例中，挡板2可以为聚乙烯塑料板、聚丙烯塑料板或聚碳酸酯塑料板。
41.采用塑料板可以有效的防止装置在使用时挡板2划伤垫板8或操作人员。
42.在本实用新型的实施例中，装置本体1上设置有把手4，方便操作人员抓握。
43.如图1所示，把手4焊接在装置本体1的一侧壁上端，能够更加方便方便操作人员推拉把握。
44.在本实用新型的实施例中，装置本体1的底部设置有多个万向轮5和多个定向轮6。万向轮5、定向轮6以及把手4的设计极大方便操作人员推拉移动该装置。
45.如图1所示，装置本体1的底部安装有四个滚轮，其中：位于把手4一侧的两个为万向轮5，另外两个为定向轮6。万向轮5的设置能够操控装置本体1的行进方向。
46.在本实用新型的实施例中，装置本体1的侧壁上设有连通容纳腔的排放口(未图示)。
47.如图1所示，排放口开设在装置本体1的一侧壁底部，并且排放口处安装有水龙头7。
48.水龙头7的安装极大的方便了容纳腔内清水的排放及更换，提高作业效率。
49.以下将通过具体实施例对本实用新型的垫板用浸润保湿装置作进一步说明。
50.实施例1：
51.如图1所示的碳化硅晶片抛光用垫板的浸润保湿装置，其装置本体1由多个不锈钢板焊接而成；装置本体1的容纳腔内设置有多个具有缺口3的聚乙烯塑料板，并且缺口3贯穿聚乙烯塑料板的高度设置；装置本体1的底部外侧安装有便于排水的水龙头7；装置本体1在水龙头7的对侧设置有把手4；装置本体1的底部安装有四个滚轮，其中位于把手4一侧的两
个为万向轮5，其他两个为定向轮6。
52.如图2所示，在装置本体1的容纳腔中加满清水，将图3所示的待浸润的圆形垫板竖向放入相邻的两个挡板2之间，大大小小的各种规格的多个圆形垫板可以放置在每相邻的两个挡板2之间，并且挡板2上设计有缺口3，非常方便取用。圆形垫板可长时间放置在容纳腔内保持湿润不变形。当需要换水时，水龙头7的设计能够很快的完成换水，滚轮和把手4的设计也方便工人的推拉移动。
53.该装置的使用，既保证了圆形垫板的湿润不变形，也为晶片抛光质量提供了保障，还能够提高工人的作业效率。
54.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。