专利名称：一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法
技术领域：
本发明涉及一种减反射膜制备方法，特别是涉及一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法。
背景技术：
随着智能手机产品的普及及应用，对于手机液晶显示屏的显示色彩要求也越来越高，人们期待色彩逼真、艳丽的视觉冲击。随着iph0ne4系列IPS3. 5英寸显示屏Retina显示技术在手机液晶显示屏上的使用，推动着整个视窗行业向高清低反射时代发展。随着减反射膜在手机LCD保护屏及摄像头方面的应用，人们也越来越期待减反射膜在LCD保护屏及摄像头方面上的应用。传统的减反射膜由于在可见光区域的反射率存在偏差，所以在反射颜色上也存在不一致的问题，常见的几种颜色有偏蓝色、偏绿色、偏红色等等，这种设计的缺点是整批产品的颜色一致性差。另外，手机保护屏一般采用先镀减反射膜再印刷黑色遮蔽油墨的方式生产，这样反射不同颜色光的减反射膜印刷后会呈现不同的颜色。影响产品的一致性。
发明内容
本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法。本发明为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，包括以下步骤一)PMMA 板材除湿；二 )真空镀减反射膜1)将PMMA板材放入镀膜机的真空室内，2)对PMMA板材的上表面进行除水；3)对PMMA板材进行表面清洁和活化；4)对镀膜机的真空室进行加热；5)在PMMA板材的上表面上逐层沉积厚度为12. 6nm 13. 6nm的氧化锆膜、厚度为17. 2nm 18. 2nm的二氧化硅膜、厚度为83. 4nm 88. 2nm的氧化锆膜和厚度为62nm 65. 8nm的二氧化硅膜；三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的PMMA板。所述步骤二)中步骤幻的镀膜工艺条件为，关闭镀膜机的真空室内的无阴极离子源，对镀膜机的真空室持续真空抽气，当镀膜机的真空室内真空度低于3X 10_5torr时， 打开镀膜机上的电子枪和电子枪上的无阴极离子源，打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源，并向镀膜机的真空室内通入流量为8 20sCCm的氧气，向镀膜机的电子枪内通入流量为5-Msccm的氧气。
在所述步骤二)的步骤4)中，将镀膜机的真空室加热并保持在60 80°C。所述步骤二)中的步骤3)为当镀膜机的真空室内真空度低于5X10_5tOrr后，打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源，并向镀膜机的真空室内通入流量为10 30SCCm的氧气，通入氧气的时间为30 180s。本发明具有的优点和积极效果是通过采用交错叠镀的两层高折射率的&02膜和两层低折射率的Si02膜，并通过优化各层膜的厚度，实现了入射光在经过减反射膜后， 减反射的同时，在可见光区域的反射率基本保持数值一致，从而使减反射膜的反射光趋向于无色，以得到反射无色的良好减反射效果。
图1为采用本发明制作的减反射膜的结构示意图。图中1、PMMA板材，2、氧化锆膜，3、二氧化硅膜，4、氧化锆膜，5、二氧化硅膜。
具体实施例方式为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下实施例1 请参阅图1，一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法一)PMMA板材除湿将PMMA板材1进行除湿烘烤，烘烤温度为30°C，烘烤时间为3小时。二)真空镀减反射膜1)将烘烤后的PMMA板材置于基片架上，装入镀膜机的真空室内；2)真空室进行高真空抽气，启动配备在真空室内的深冷低温机，使其设定温度低于-120°C，这样可以将PMMA板材1上表面的水分彻底清除。3)对PMMA板材1的上表面进行清洁和活化当镀膜机的真空室内真空度低于5X10_5tOrr后，打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源，并向镀膜机的真空室内通入流量为20sCCm的氧气，通气时间为100s，以对PMMA 板材1的上表面进行清洁处理和表面活化。4)对镀膜机的真空室进行加热打开镀膜机的真空室上的加热器，加热镀膜机的真空室，使镀膜机的真空室内温度达到并保持在70°C。5)镀减反射膜关闭镀膜机的真空室上的无阴极离子源，对镀膜机的真空室进行持续真空抽气， 当镀膜机的真空室内真空度低于3X10_5torr时，打开镀膜机上的电子枪和电子枪上的无阴极离子源，打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源，向镀膜机的真空室内通入流量为 15sCCm的氧气，向镀膜机的电子枪内通入流量为IOsccm的氧气，逐层在PMMA基材1的上表面上沉积厚度为13nm的氧化锆(ZrO2)膜2、厚度为17. Snm的二氧化硅(SiO2)膜3、厚度为 85. 8nm的氧化锆(ZrO2)膜4和厚度为64nm的二氧化硅(SiO2)膜5。三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的PMMA板
镀膜完成之后自动关闭无阴极离子源和电子枪，同时深冷低温机停止工作，对镀膜机的真空室进行充气，待镀膜机的真空室内真空度到达大气状态时，真空室门自动打开。 这是就可以从镀膜机的真空室中取出基片架，将镀有减反射膜的PMMA板从基片架上取下。采用分光光度计对上述减反射膜进行测试，透过率和反射率的数值如下
权利要求
1.一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，其特征在于，包括以下步骤一)PMMA板材除湿；二)真空镀减反射膜1)将PMMA板材放入镀膜机的真空室内，2)对PMMA板材的上表面进行除水；3)对PMMA板材进行表面清洁和活化；4)对镀膜机的真空室进行加热；5)在PMMA板材的上表面上逐层沉积厚度为12.6nm 13.6nm的氧化锆膜、厚度为 17. 2nm 18. 2nm的二氧化硅膜、厚度为83. 4nm 88. 2nm的氧化锆膜和厚度为62nm 65. 8nm的二氧化硅膜；三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的PMMA板。
2.根据权利要求1所述的在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，其特征在于，所述步骤二)中步骤5)的镀膜工艺条件为，关闭镀膜机的真空室内的无阴极离子源， 对镀膜机的真空室持续真空抽气，当镀膜机的真空室内真空度低于3X l(T5torr时，打开镀膜机上的电子枪和电子枪上的无阴极离子源，打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源，并向镀膜机的真空室内通入流量为8 20sCCm的氧气，向镀膜机的电子枪内通入流量为5 15sccm的氧气。
3.根据权利要求2所述的在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，其特征在于，在所述步骤二)的步骤4)中，将镀膜机的真空室加热并保持在60 80°C。
4.根据权利要求3所述的在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，其特征在于，所述步骤二)中的步骤3)为当镀膜机的真空室内真空度低于5Xl(T5torr后，打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源，并向镀膜机的真空室内通入流量为10 30sCCm的氧气， 通入氧气的时间为30 180s。
全文摘要
本发明公开了一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，包括以下步骤一)PMMA板材除湿；二)真空镀减反射膜1)将PMMA板材放入镀膜机的真空室内，2)对PMMA板材的上表面进行除水；3)对PMMA板材进行表面清洁和活化；4)对镀膜机的真空室进行加热；5)在PMMA板材的上表面上逐层沉积厚度为12.6nm～13.6nm的氧化锆膜、厚度为17.2nm～18.2nm的二氧化硅膜、厚度为83.4nm～88.2nm的氧化锆膜和厚度为62nm～65.8nm的二氧化硅膜；三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的PMMA板。本发明实现了入射光在经过减反射膜后，减反射的同时，在可见光区域的反射率基本保持数值一致，从而使减反射膜的反射光趋向于无色，以得到反射无色的良好减反射效果。
文档编号B32B27/06GK102560363SQ201210060009
公开日2012年7月11日 申请日期2012年3月8日 优先权日2012年3月8日
发明者吴克坚, 沈励, 石富银, 许沐华, 陈奇 申请人:天津美泰真空技术有限公司