专利名称：阳图制版的辐射敏感可成像元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及阳图制版的辐射敏感可成像元件，其可以用于制作平版印版。这些可成像元件在可成像层中含有独特的聚(乙烯醇缩醛)。其还涉及使这些元件成像的方法。
背景技术：
在平版印刷中，称为图像区域的吸墨区域是在亲水性表面上产生。当表面由水润湿和施加油墨时，亲水性区域保留水并排斥油墨，而吸墨区域接受油墨并排斥水。随后将油墨转移至要在其上再现图像的适宜材料的表面。在一些情况下，油墨可以首先转移至中间橡皮布(blanket)，该中间橡皮布反过来用于将油墨转移至要在其上再现图像的材料的表可用于制备平版印刷(或胶版印刷)印版的可成像元件一般包含施加在衬底(或中间层)的亲水性表面上的一个或多个可成像层。可成像层可以包含分散在适宜粘结剂内的一种或多种辐射敏感组分。在成像之后，通过适宜显影剂去除可成像层的曝光区域或未曝光区域，露出下面的衬底的亲水性表面。如果曝光区域被去除，则认为元件是阳图制版的。相反地，如果未曝光区域被去除，则认为元件是阴图制版的。在每种情况下，保留的可成像层的区域是吸墨的，而由显影过程露出的亲水性表面的区域接受水或水溶液(一般为润版液)，并排斥油墨。类似地，在印刷电路板(PCB)生产、厚和薄膜电路、电阻器、电容器和电感器、多片装置、集成电路和有源半导体装置中，可以使用阳图制版的组合物来形成抗蚀图案。“激光直接成像"方法(LDI)是已知的，其使用来自计算机的数字数据直接形成胶版印刷印版或印刷电路板，并提供相对于使用掩蔽照相膜的先前方法的许多优点。此领域中已有了相当的发展，如更有效的激光器，改善的可成像组合物及其组分。多年来，含有酚醛清漆(novolak)或其它酚醛聚合物粘结剂和重氮醌成像组分的阳图制版的可成像组合物已普遍用于平版印版和光致抗蚀剂工业中。基于各种酚醛树脂和红外辐射吸收化合物的可成像组合物同样是众所周知的。可用于热记录材料的大量的热敏感组合物描述在专利GB 1，245, 924 (Brinckman) 中，其中可成像层的任何给定区域在给定溶剂中的溶解度可以通过加热该层来增加，这种加热通过间接暴露于短期高强度可见光和/或红外辐射来实现，这种可见光或辐射是从与记录材料接触的图形原版的背景区域透射或反射的。可热成像的、单层或多层元件还描述于以下文献中WO 97/39894(Hoare等人)、 WO 98/42507 (West 等人)、WO 99/11458 (Ngueng 等人)、美国专利 5，840, 467 (Kitatani)、 6，060，217(Ngueng 等人),6, 060, 218(Van Damme 等人),6, 110, 646 (Urano 等人),6,117,623 (Kawauchi),6, 143, 464(Kawauchi),6, 294, 311 (Shimazu 等人)、 6，352，812(Shimazu 等人)、6，593，055(Shimazu 等人)、6，352，811(Patel 等人)、 6，358, 669 (Savariar-Hauck 等人)和 6，528，228 (Savariar-Hauck 等人)和美国专利申请公布 2002/0081522 (Miyake 等人)和 2004/0067432A1 (Kitson 等人)。含有热敏感聚乙烯醇缩醛的阳图制版的可热成像元件描述于以下文献中美国专禾Ij 6，255，033,6, 541，181 (均为 Levanon 等人)、7，399，576 (Levanon 等人) 和7，544, 462 (Levanon等人)、WO 04/081662 (Memetea等人)和美国专利申请公布 2009/0004599 (Levanon 等人)。其它阳图制版的可成像元件描述于以下文献中共同待审且共同转让的美国专利公布号2009/0162783和美国序列号12/025，089 (2008年2月4日由Levanon等人提交)、 12/125，084(2008 年 5 月 22 日由 Levanon 等人提交),12/195, 468(2008 年 8 月 21 日由 Levanon等人提交)和12/339，469 (2008年12月19日由Levanon等人提交)。胶版印刷印版最近已成为在成像敏感度(成像速度)和图像清晰度以及对常见印刷室化学品的耐性(耐化学性)方面增加性能需要的对象。通常，用于提供一个期望性质的组成性特征并不总是改善其它性质。虽然在先前两段中的专利、公布和共同待审申请中描述的可成像元件已在本领域提供了可用的进步，但仍期望另外的改善。
发明内容
本发明提供一种阳图制版可成像元件，其包括衬底，该衬底上具有可成像层，该可成像层包含水不溶性聚合物粘结剂和辐射吸收化合物，其中该聚合物粘结剂包含a)包含侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元，和b)包含被环状酰亚胺基团取代的羟芳基酯基团的重复单元，其中所述包含侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和所述包含被环状酰亚胺基团取代的羟芳基酯基团的重复单元是分别以至少10摩尔％和25摩尔％的量独立地存在于该聚合物粘结剂中，所有量均基于该聚合物粘结剂中的全部重复单元计。在大多数实施方式中，该聚合物粘结剂包含由下面更详细地描述的以下结构(Ia) 和(Ib)各自表示的重复单元
权利要求
1.一种阳图制版可成像元件，其包括衬底，所述衬底上具有可成像层，所述可成像层包含水不溶性聚合物粘结剂和辐射吸收化合物，其中所述聚合物粘结剂包含a)包含侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元，和b)包含被环状酰亚胺基团取代的羟芳基酯基团的重复单元，其中所述包含侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和所述包含被环状酰亚胺基团取代的羟芳基酯基团的重复单元是分别以至少10摩尔％和25摩尔％的量独立地存在于所述聚合物粘结剂中，所有量均基于所述聚合物粘结剂中的全部重复单元计。
2.根据权利要求1所述的元件，其中所述聚合物粘结剂包含由以下结构(Ia)和(Ib) 各自表示的重复单元
3.根据权利要求2所述的元件，其中R是取代或未取代的羟苯基基团，并且民是被环状酰亚胺基团取代的羟苯基基团。
4.根据权利要求2或3所述的元件，其中所述聚合物粘结剂进一步包含约25至约60 摩尔％的由以下结构(Ic)表示的重复单元
5.根据权利要求2至4中任一项所述的元件，其中由结构(Ia)表示的重复单元是以约 15至约25摩尔％的量存在，并且由结构(Ib)表示的重复单元是以约25至约45摩尔％的量存在，所有量均基于所述聚合物粘结剂中的全部重复单元计。
6.根据权利要求1所述的元件，其中所述聚合物粘结剂包含由结构(Ia)至(If)各自表示的重复单元
7.根据权利要求1至6中任一项所述的元件，其中所述聚合物粘结剂基于所述可成像层的总干重计以约40至约95重量％的量存在，并且所述辐射吸收化合物为红外辐射吸收化合物，基于其中存在所述红外辐射吸收化合物的层的总干重计，所述红外辐射吸收化合物以约0. 1至约30重量％的量存在。
8.根据权利要求1所述的元件，其中所述聚合物粘结剂包含由结构(Ia)至(Id)各自表示的重复单元
9.根据权利要求1所述的元件，其中所述聚合物粘结剂包含由结构(Ia)至(Ie)各自表示的重复单元
10.根据权利要求1所述的元件，其中所述聚合物粘结剂包含由结构(Ia)至(If)各自表示的重复单元
11.一种制备成像元件的方法，其包括A)使权利要求1至10中任一项所述的阳图制版可成像元件成像曝光以提供曝光区域和未曝光区域；和B)使成像曝光的元件显影以主要仅去除所述曝光区域。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述可成像元件在约750至约1250nm的波长下成像以提供具有亲水的含铝衬底的平版印版。
13.—种共聚物，其包含a)包含侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元，和b)包含被环状酰亚胺基团取代的羟芳基酯基团的重复单元，其中所述包含侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和所述包含被环状酰亚胺基团取代的羟芳基酯基团的重复单元是分别以至少10摩尔％和25摩尔％的量独立地存在于所述共聚物中，所有量均基于所述共聚物中的全部重复单元计。
14.根据权利要求13所述的共聚物，其包含由以下结构(Ia)和(Ib)各自表示的重复单元
15.根据权利要求14所述的共聚物，其中R是取代或未取代的羟苯基基团，并且&是被环状酰亚胺基团取代的羟苯基基团。
16.根据权利要求14所述的共聚物，其中所述共聚物进一步包含约25至约60摩尔％ 的由以下结构(Ic)表示的重复单元
17.根据权利要求14所述的共聚物，其中由结构(Ia)表示的重复单元以约15至约25 摩尔％的量存在，并且由结构(Ib)表示的重复单元以约25至约45摩尔％的量存在，所有量均基于所述共聚物中的全部重复单元计。
18.根据权利要求13所述的共聚物，其包含由结构(Ia)至(If)各自表示的重复单元
全文摘要
使用水不溶性聚合物粘结剂制备具有改善的敏感度、高分辨率和耐溶剂性的阳图制版可成像元件，所述水不溶性聚合物粘结剂包含具有侧羟芳基基团的乙烯醇缩醛重复单元和包含被环状酰亚胺基团取代的羧酸芳基酯基团的重复单元。可以使这些可成像元件成像和显影以提供各种类型的元件，包括平版印版。
文档编号B41C1/10GK102497988SQ201080040381
公开日2012年6月13日 申请日期2010年8月26日 优先权日2009年9月8日
发明者G·拜利纳, L·波斯特尔, M·勒瓦农, M·纳卡什, M·鲁宾, T·柯特塞尔, V·坎佩尔 申请人:伊斯曼柯达公司