滤光片的制作方法

专利名称：滤光片的制作方法
技术领域：
本发明涉及滤光片及其制造方法。如果更具体地表述，则本发明涉及例如用于等离子体显示器等光学图像显示装置的显示面中的以薄膜状层叠一体化的滤光片及其制造方法。
背景技术：
等离子体显示装置(以下有时简记为PDP)是通过将具有显示电极、总线电极、电介质层及保护层的前面玻璃基板；与具有数据电极、电介质层及在条状间隔壁(stripe barrier rib)中具有荧光体层的背面玻璃基板贴合，使得电极正交，而形成小室，向该小室中封入氙气等放电气体而构成。等离子体显示装置的发光是通过向数据电极与显示电极之间施加电压，引起氙气的放电，在变为等离子体状态的氙气离子回到基态时会产生紫外线，该紫外线将荧光体层激发，发出红(R)、绿(G)及蓝(B)色光。在这些可见光的发光过程中，除了这些可见光以外，还产生近红外线及电磁波。由此，在等离子体显示装置中，一般来说在玻璃基材的等离子体显示器发光部的前面，设有防反射膜、近红外线吸收膜及被赋予了电磁波截除功能的滤波片。
等离子体显示装置作为薄型显示装置，设置空间小，被认为作为壁挂型显示装置等十分有用。但是，所述的等离子体显示装置中，例如像在特开平10-319859号公报(专利文献1)中记载的那样，由于在包括发光机构的PDP装置上，与之拉开一定的空间地设有在玻璃上贴合层叠了几层薄膜的薄膜叠层体而构成的滤光片机构，因此不能说实现了充分的轻型化，实际上，由于是挂在一般的家庭用居室内的墙壁上，因此墙壁足够强固是很重要的，从而也会有需要预先对墙壁自身实施加强施工的情况。另外，还有因PDP的前面玻璃部、滤光片的表面及背面的反射，外来光在显示面上双重映射等缺点。由于一般用于滤光片中的电磁波屏蔽薄膜的主要的形式为被蚀刻处理了的金属(铜)网，或在该被蚀刻的端面露出金属(铜)，因此金属(铜)特有的反射色会对显示图像的色调造成不良影响。
特开平10-319859号公报发明内容本发明的目的在于，提供一种滤光片，其兼具优良的防反射性、近红外线屏蔽性及电磁波屏蔽性，在耐久性及识认性方面也优良，轻质而容易制造及处置，例如可以用于等离子体显示装置等显示装置的显示面中，并提供所述滤光片的制造方法。
本发明的滤光片包括透明的基材，和形成于所述透明基材的一面上的防反射层，和形成于所述基材的另一面上，并且包括被相互层叠的电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的复合层，它们被制成一体化的薄膜状，并且所述复合层的未与所述透明基材接合的露出面具有粘接性。
在本发明的滤光片的一个实施方式(1)中，所述复合层中的电磁波屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，另外，所述近红外线屏蔽层被形成于所述电磁波屏蔽层上，并且具有粘接性能，形成粘接性露出面。
在本发明的滤光片的其他实施方式(2)中，所述复合层中的所述电磁波屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，另外，所述近红外线屏蔽层被形成于所述电磁波屏蔽层上，所述粘接性露出面由形成于所述近红外线屏蔽层的另一面上的粘接剂层形成。
在本发明的滤光片的实施方式(2)中，形成于所述近红外线屏蔽层上的粘接剂层最好在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰。
在本发明的滤光片的其他实施方式(3)中，所述复合层中的所述近红外线屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，另外，所述电磁波屏蔽层被形成于所述近红外线屏蔽层上，并且所述粘接性露出面由形成于所述电磁波屏蔽层的另一面上的粘接剂层的露出面形成。
在本发明的滤光片的实施方式(3)中，形成于所述电磁波屏蔽层上的粘接剂层最好在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰。
在本发明的滤光片的其他实施方式(4)中，所述复合层中的所述近红外线屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，所述电磁波屏蔽层的一面夹隔表面粘接剂层被粘接在所述近红外线屏蔽层上，所述粘接性露出面由形成于所述电磁波屏蔽层的另一面上的背面粘接剂层的露出面形成。
在本发明的滤光片中，特别优选在其各个实施方式(1)、(2)、(3)及(4)中，所述电磁波屏蔽层由金属网构成。
在本发明的滤光片中，特别优选在其各个实施方式(1)、(2)、(3)及(4)中，所述电磁波屏蔽层具有两个以上的接地电极连接部，所述接地电极连接部被设于所述电磁波屏蔽层的周缘部分的、相互分离的两个部位。
在本发明的滤光片中，特别优选在其各个实施方式(1)、(2)、(3)及(4)中，所述电磁波屏蔽层由通过在所述近红外线屏蔽层上，以网状印刷催化剂墨液，在其上实施金属镀敷处理而形成的金属层构成。
在本发明的滤光片中，特别优选在其各个实施方式(1)、(2)、(3)及(4)中，所述电磁波屏蔽层的表面被黑色金属覆盖。
在本发明的滤光片中，特别优选在其各个实施方式(1)、(2)、(3)及(4)中，所述透明基材具有紫外线吸收性能。
在本发明的滤光片中，特别优选在其各个实施方式(1)及(2)中，所述近红外线屏蔽层是在所述电磁波屏蔽层上利用印刷法形成的层。
在本发明的滤光片的实施方式(4)中，最好所述表面粘接剂层在所述电磁波屏蔽层的所述一面上，除了使其接地电极接合部露出以外，将其他的全面覆盖，并且与所述近红外线屏蔽层粘接，所述背面粘接剂层将所述电磁波屏蔽层的所述另一面的全面覆盖。
为了制造本发明的滤光片，本发明的滤光片的制造方法包括在透明的基材的一面上，形成防反射层，在所述透明基材的另一面上，形成包括被相互层叠了的电磁波屏蔽层与近红外线屏蔽层的复合层(其中，该复合层的未与所述透明基材接触的面具有粘接性)，将它们制成一体化的薄膜状。
本发明的制造方法中，最好在所述电磁波屏蔽层的周缘部分的相互分离的至少两个部位，设置未被覆盖而露出的接地电极接合部。
本发明的滤光片在防反射性、近红外线屏蔽性、电磁波屏蔽性、使用耐久性及图像的肉眼观察的容易性方面优良，并且轻质，所以容易制造及处置，是作为例如等离子体显示装置等各种显示装置的显示面的滤光片在实用上十分有用的滤光片。


图1是表示本发明的滤光片的构成的剖面说明图。
图2中，图2-(a)是表示本发明的滤光片的实施方式(1)的一个例子的叠层构成的纵剖面说明图，图2-(b)是从箭头A的方向看图2-(a)的滤光片时的俯视说明图。
图3是本发明的滤光片的实施方式(1)的其他的例子的俯视说明图。
图4是在图像显示装置的显示面部安装了本发明的滤光片的实施方式(1)的装置的局部剖面说明图。
图5中，图5-(a)是表示本发明的滤光片的实施方式(2)的一个例子的叠层构成的纵剖面说明图，图5-(b)是从箭头A的方向看图5-(a)的滤光片时的俯视说明图。
图6是本发明的滤光片的实施方式(2)的其他的例子的俯视说明图。
图7是在图像显示装置的显示面部安装了本发明的滤光片的实施方式(2)的装置的局部剖面说明图。
图8中，图8-(a)是表示本发明的滤光片的实施方式(3)的一个例子的叠层构成的纵剖面说明图，图8-(b)是从箭头A的方向看图8-(a)的滤光片时的俯视说明图。
图9是本发明的滤光片的实施方式(3)的其他的例子的俯视说明图。
图10是在图像显示装置的显示面部安装了本发明的滤光片的实施方式(3)的装置的局部剖面说明图。
图11是表示本发明的滤光片的实施方式(4)的一个例子的叠层构造的剖面说明图。
图12是表示本发明的滤光片的实施方式(4)的一个例子的电磁波屏蔽层与表面及背面粘接层的层叠构造的剖面说明图。
图13是图11所示的滤光片的主视说明图。
图14是本发明的滤光片的实施方式(4)的其他的例子的主视说明图。
图15是本发明的滤光片的实施方式(4)的其他的例子的主视说明图。
图16是在图像显示装置上搭载了本发明的滤光片的实施方式(4)的装置的局部剖面说明图。
具体实施例方式
本发明的滤光片包括透明的基材，和形成于该透明基材的一面上的防反射层，和形成于所述基材的另一面上，并且包括被相互层叠的电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的复合层，所述基材、防反射层及复合层(电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的叠层体)被接合为一体化的薄膜状，并且所述复合层的未与所述透明基材接触的露出面是具有粘接性的面。本发明的滤光片的复合层中，既可以将其电磁波屏蔽层形成于所述基材的另一面上，或者也可以是将其近红外线屏蔽层形成于所述基材的另一面上。
图1是表示本发明的滤光片的构成的剖面说明图。图1中，滤光片1由薄片状透明基材2、形成于其一面上的防反射层3、形成于透明基材2的相反面上的复合层4构成，复合层4是包括电磁波屏蔽层5、与之层叠接合的近红外线屏蔽层6的层，在图1的滤光片1中，复合层4是以其电磁波屏蔽层5层叠固定于所述透明基材2的所述相反面上。复合层4也可以是以其近红外线屏蔽层层叠固定于透明基材的所述相反面上。
所以，本发明的滤光片1中，透明基材2、防反射层3以及包括电磁波屏蔽层5及近红外线屏蔽层6的复合层4被相互层叠接合，形成一体化的薄膜状叠层体。所述复合层4的未与所述透明基材2接合的露出面4a是具有粘接性的面。
以往的滤光片用透明叠层体例如是通过将防反射层、电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层等功能层分别形成担载于相互不同的透明基材上，将由这些功能层、担载它的透明基材构成的多个复合体分别借助粘接剂层依次层叠在玻璃面板上而形成。另外，在未使用玻璃面板的以往的薄膜型滤光片用透明叠层体中，也是将所述多片担载功能层的复合薄膜借助粘接剂层粘结而形成的。
在本发明的一体化的薄膜状滤光片中，在一片透明基体(薄膜)的一面上，固定形成防反射层，在所述透明基材的另一面上，固定形成有包括被相互层叠接合了的电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的复合层。由此，本发明的滤光片与以往的滤光片用透明叠层体相比，具有如下优点，即，构成它的成分层的数目更少，材料成本更低，制造工序也减少，制造成本也更低。另外，本发明的滤光片因所述构成而具有透光率明显提高、浊度值降低这样的优良的光学特性。另外，本发明的一体化的薄膜状滤光片的复合层的露出面由于具有粘接性，因此可以将滤光片以其粘接性露出面容易地粘接固定在所需的光学显示面例如等离子体电视机的图像显示面上。
(透明基材)本发明中所用的透明基材只要其为透明材料，对其种类、组成等就没有限定。构成透明基材的材料一般来说最好选自透明塑料材料，例如可以从板(plate)状或薄片状、薄膜状的聚酯类基材、三乙酰基纤维素基材、聚碳酸酯基材、聚醚砜基材、聚丙烯酸酯基材、降冰片烯类基材及非晶质聚烯烃类基材等中适当地选择，另外，对于其厚度也没有特别的限定，通常可以使用50μm～10mm左右的薄膜状或板状的材料。作为聚酯类基材，其中的聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下也称作PET)基材由于在耐久性、耐溶剂性、生产性等方面优良，因此优选使用。另外，为了调整色调或透过率，也可以使用着色了的基材。
(关于透明基材的紫外线屏蔽性)本发明的滤光片中，在透明基材中优选使用具有紫外线屏蔽性的材料。这是因为，由于通常来说复合层中所含的近红外线吸收色素的对紫外线的耐受性低，因此通过使用具有紫外线屏蔽性的材料作为透明基材，就可以抑制近红外线吸收色素的劣化。作为紫外线吸收剂，例如可以使用二苯甲酮类、苯并三唑类、对氨基安息香酸类及水杨酸类等紫外线吸收性化合物。通常来说，当不以某个特定量以上的添加量使用紫外线吸收剂时，则无法获得足够的效果。一般来说，在向膜厚较薄的涂敷层中添加紫外线吸收剂时，在涂敷层所能够含有的紫外线吸收剂的量中有限制，从而有难以获得必需的紫外线屏蔽效果的情况。但是，本发明的滤光片中，由于近红外线屏蔽粘接层位于透明基材的内侧，因此通过使与薄壁的涂敷层相比具有更大厚度的透明基材自身含有紫外线吸收剂，就可以构成含有足够量的紫外线吸收剂的滤光片，由此就可以抑制近红外线吸收色素的老化，维持优良的近红外线吸收性能。作为滤光片的紫外线屏蔽性能，最好在380nm以下的紫外区域中，紫外线透过率在2％以下。
(防反射层)本发明的滤光片中，对于形成于透明基材的一面上的防反射层的构成、组成等，只要其具有所需的防反射效果，就没有特别的限定，既可以具有单层构造，也可以具有多层构造。另外，在防反射层上，也可以还形成防带电层等导电层及/或具有防眩光等功能的薄膜层。
防反射层最好由硬质涂层、层叠于该硬质涂层上的导电性中折射率层、层叠于该导电性中折射率层上的高折射率层、层叠于该高折射率层上的低折射率层构成。
此种构成的防反射层是具有导电性的防反射层，可以防止由静电造成的灰尘的附着等。另外，因该导电性中折射层兼具中折射率层的功能，因而可以形成由中折射、高折射、低折射三层构成的防反射膜，由此可以获得优良的防反射效果。
虽然所述硬质涂层由树脂成分形成，但是优选含有氧化物微粒。通过含有氧化物微粒，与透明基材的密接性就会提高。
硬质涂层中的氧化物微粒的含量优选30质量％～80质量％。在氧化物微粉的含量小于30质量％的情况下，与第一透明基材或中折射率层的密接性降低，从而无法获得所需的铅笔硬度、钢丝棉强度等膜硬度。另外，在氧化物微粉的含量大于80质量％的情况下，氧化物微粉的含量变得过多，从而会产生如下的问题，即，所得的硬质涂层的膜强度降低，可以在所得的硬质涂层中看到白化现象，固化后的膜的弯曲性降低，容易产生裂纹。
另外，硬质涂层的折射率最好设计为与透明基材的表面平均折射率达到相同值。这是因为，通过减小因透明基材的表面平均折射率与硬质涂层的折射率差而产生的反射率的振幅的差，就可以使所谓的「表面的虹彩色的颜色不均」不会醒目。但是，在作为透明基材使用了带有易粘接层的PET薄膜的情况下，最好使硬质涂层的折射率与利用下式算出的折射率相同，或与之相近。
N＝Np-(Ns-Np)/2N透明硬质涂层的折射率
NpPET易粘接层的折射率NsPET基材的表面平均折射率另外，作为硬质涂层中所用的氧化物微粒，因不会将该硬质涂层着色，可以形成透明性优良的硬质涂层等理由，而可以适当地使用氧化硅、氧化铝、氧化锑、氧化锡、氧化锆、氧化钽、氧化铈、氧化钛等，作为该氧化物微粒的粒径，优选100nm以下的。这是因为，如果是超过100nm的粒子类的氧化物微粉，则所得的硬质涂层会因瑞利散射而将光明显地散射，从而看上去发白，透明度降低。
对于所述树脂成分，例如可以举出紫外线固化树脂、电子射线固化树脂、阳离子聚合类树脂等，其中，紫外线固化树脂的材料由于廉价、与透明塑料薄膜的密接性优良而优选使用。在紫外线固化型树脂中，只要是在涂敷法(湿式涂敷法)中所用的感光性树脂即可，出于不会有损害所述氧化物微粉的分散性的情况等理由，而优选使用例如丙烯酸类树脂、丙烯酰氨基甲酸酯类树脂、硅类树脂、环氧类树脂等。
本发明中，防反射层中的硬质涂层例如可以通过将至少含有有机树脂成分、氧化物微粒、有机溶剂的硬质涂层形成用涂料涂布在透明基材上，并进行干燥、紫外线照射而形成。
所述透明硬质涂层形成用涂料例如可以作为如下的有机溶剂类涂料而获得，即，将所述氧化物微粒、树脂成分使用分散剂，以使用了超声波分散、均化器、砂磨机等的通常的方法，混合分散于有机溶剂中。所述的有机溶剂可以从醇类、二醇类、乙酸酯类、酮类等中选择，它们既可以使用单独一种，也可以混合使用两种以上。
此外，在透明基材的单面，涂布所述硬质涂层形成涂料，利用紫外线照射等将其交联固化，形成硬质涂层。该硬质涂层的膜厚优选0.5μm～20μm，更优选0.5～2μm。如果膜厚在0.5μm以下，则会有无法体现出足够的膜硬度的情况，另外，如果其在20μm以上，则会有透明基材的卷曲变大的情况。
而且，作为涂敷法，可以使用各种涂敷法，可以从绕线棒刮涂法、凹版印刷涂敷法、狭缝涂敷法、辊涂法、浸渍涂敷法等中适当地选择。
形成于硬质涂层上的导电性中折射率层最好具有导电性，并且含有中折射率的微粒和粘合剂成分。
导电性中折射率层中的所述导电性中折射率微粒的含量优选50质量％以上，特别是更为优选处于70～95％的范围。如果所述导电性中折射率微粒的含量小于50质量％，则会有导电性中折射率层的表面电阻值增大，导电性恶化，并且填充剂成分减少的情况，由此，就会有与硬质涂层的密接性变得不足的情况。另一方面，当所述导电性中折射率微粒的含量超过95质量％时，则由于粘合剂成分的含量相对地降低，因此无法在粘合剂矩阵(matrix)中保持足够量的所述导电性中折射率微粒，另外，在导电性中折射率层上涂布其他层之际，容易对膜造成损伤，从而有引起外观不良的情况。
作为所述导电性中折射率微粒，出于可以形成透明性及导电性优良的导电性中折射率层等理由，优选使用含锑氧化锡(以下称作ATO)、含锡氧化铟(以下称作ITO)、含铝氧化锌、金、银、钯等金属微粒等。
另外，所述导电性中折射率微粒的粒径优选平均粒径为1～100nm。如果平均粒径小于1nm，则在涂料化时容易引起凝聚，难以实现用于涂料化的均匀的分散，另外涂料的粘度增大，从而有产生分散不良之类的情况。另外，当导电性中折射率微粒的平均粒径超过100nm时，则由于所得的导电性中折射率层因瑞利散射而将光明显地散射，因此看上去发白，从而有透明性降低的情况。
作为粘合剂成分，优选由硅烷氧化物及/或水解生成物生成的物质。
本发明的滤光片中，导电性中折射率层可以通过使用至少含有导电性中折射率微粒、硅烷氧化物及/或其水解生成物、有机溶剂的导电性中折射率层形成用涂料，涂布于硬质涂层上，将其干燥而形成。
所述导电性中折射率层形成用涂料可以通过将所述的导电性中折射率氧化物微粒、硅烷氧化物及/或其水解生成物、根据情况而添加的其他的粒子，使用分散剂以使用了超声波分散机、均化器、砂磨机等的通常的方法分散于有机溶剂中，而作为有机溶剂类涂料获得。
作为所述硅烷氧化物，例如可以从四烷氧基硅烷类化合物、烷基三烷氧基硅烷类化合物等中选择，另外，作为所述的有机溶剂，可以从醇类、二醇类、乙酸酯类、酮类等中选择，它们既可以单独使用一种，也可以作为两种以上的混合物使用。
此外，将所述导电性中折射率层形成用涂料涂布于透明硬质涂层上，例如最好在70～130℃下干燥1分钟以上，将光学膜厚调整为140±30nm的范围。
对于干燥温度，当超过130℃时，则由于会因所使用的透明塑料薄膜而引起热变形，因此不够理想。另外，如果小于70℃，则固化速度变慢，无法体现强度。另外，如果固化时间小于1分钟，则由于膜强度不足，因此不够理想。
而且，作为涂敷方法，例如可以从绕线棒刮涂法、凹版印刷涂敷法、狭缝涂敷法、辊涂法、浸渍涂敷法等中适当地选择。
形成于导电性中折射率层上的高折射率层例如是含有高折射率的氧化物微粒和粘合剂成分的层。
高折射率层中的高折射率氧化物微粒的含量优选50质量％以上，特别是更优选60～95质量％。如果所述高折射率氧化物微粒的含量小于50％，则粘合剂成分的含量相对地增加，引起折射率的降低，无法获得充分的高折射率化，从而有反射率过度地增大的情况。另外，当所述高折射率氧化物微粒的含量超过95％时，则无法利用粘合剂成分将高折射率氧化物微粒充分地固定化，另外，在该透明高折射率层上涂布其他层之时容易带入损伤，进而会有引起外观不良的情况。
作为所述高折射率氧化物微粒，出于可以形成透明性优良的高折射率层的理由，优选使用氧化铈、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化钽等。
另外，高折射率氧化物微粉的粒径优选平均粒径为1～100nm。如果平均粒径小于1nm，则在涂料化时容易引起凝聚，难以实现用于涂料化的均匀的分散，另外涂料的粘度增大，从而有产生分散不良之类的情况。另外，当高折射率氧化物微粉的平均粒径超过100nm时，则由于所得的高折射率层因瑞利散射而将光明显地散射，因此看上去发白，从而有透明性变得不足的情况。
作为粘合剂成分，优选硅烷氧化物及/或来源于其水解生成物的氧化硅。
所述高折射率层可以通过使用至少含有高折射率氧化物微粒、粘合剂成分、有机溶剂的透明高折射率形成涂料，涂布于导电性中折射率层上，将其干燥而形成。
所述高折射率层形成用涂料可以通过将所述的高折射率氧化物微粉、硅烷氧化物及/或其水解生成物、根据情况而添加的其他的粒子使用分散剂以使用了超声波分散机、均化器、砂磨机等的通常的方法分散于有机溶剂中，而作为有机溶剂类涂料获得。
作为所述硅烷氧化物，例如可以从四烷氧基硅烷类化合物、烷基三烷氧基硅烷类化合物等中选择，另外，作为所述的有机溶剂，可以从醇类、二醇类、乙酸酯类、酮类等中选择，它们既可以单独使用一种，也可以作为两种以上的混合物使用。
此外，将所述高折射率层形成用涂料涂布于导电性中折射率层上，例如在70～130℃下干燥1分钟以上，形成高折射率层。其膜厚最好设定为低折射率层的光学膜厚的1.2～2.5倍。迄今为止，有关防反射的膜厚设计一般来说已知是将高折射率层、低折射率层的膜厚设定为显示所需的最低反射率的波长(以下称作底部波长)的1/4，然而在利用该方法制作了防反射膜的情况下，虽然底部波长下的反射率变为最低，然而在其长波长侧及低波长侧的反射率增大，该部分的反射色变强，呈现出从深蓝紫色到红紫色的反射色。另外，还会导致作为目视下的反射率的指标的可见度反射率的增大。为了抑制这些长波长侧及低波长侧的反射率的增大，进行了深入研究，结果发现，如前所述，通过设计为低折射率层的光学膜厚的1.2～2.5倍这样的比迄今为止的设计方法更厚的厚度，就可以解决。
对于干燥温度，当超过130℃时，则有时会根据所使用的透明塑料薄膜而引起热变形。另外，如果小于70℃，则固化速度变慢，从而有无法体现足够的强度的情况。另外，如果固化时间小于1分钟，则会有膜强度不足的情况。
而且，作为涂敷方法，例如可以从绕线棒刮涂法、凹版印刷涂敷法、狭缝涂敷法、辊涂法、浸渍涂敷法等中适当地选择。
层叠于高折射率层上的低折射率层是通过将例如含有硅烷氧化物及/或其水解生成物、硅油、有机溶剂的低折射率层形成用涂料涂布于高折射率层上，将其干燥而形成的。
该低折射率层的折射率优选比高折射率层的折射率小0.1以上。通过设置此种透明低折射率层，所得的防反射层就会显示出极为优良的防反射性。作为可以用作该低折射率层形成用涂料的硅烷氧化物，可以从四烷氧基硅烷类化合物、烷基三烷氧基硅烷类化合物等中适当地选择使用。
另外，作为所述硅油，可以从二烷基烷氧基硅烷化合物中适当地选择使用。另外，作为所述的有机溶剂，可以从醇类、二醇类、乙酸酯类、酮类中适当地选择使用，它们既可以单独使用一种，也可以混合两种以上使用。
当在透明折射率层形成用涂料中含有0.01～5.0质量％硅油时，则涂膜与水的接触角就会达到90°以上，体现出疏水性，变得容易滑动，带有防带电·防反射膜的透明薄膜的膜强度(特别是钢丝棉强度)提高，还可以对其赋予防污性。
如果所述硅油的含量小于0.01质量％，则硅油无法充分地浸润透明低折射率层的表面，与水的接触角小于90°，会有无法获得足够的疏水性，无法获得带有防带电·防反射膜的透明薄膜的膜强度提高及防污性的情况。另外，当含量超过5.0质量％时，由于硅油在透明低折射率层的表面变得过多，因此与水的接触角超过90°，虽然可以获得足够的疏水性，但是由于阻碍硅烷氧化物及/或其水解生成物的聚合固化反应，因此会有引起带有防带电·防反射膜的透明薄膜的膜强度降低的情况。
对于干燥温度，当超过130℃时，则根据所用的透明塑料薄膜会有引起热变形的情况。另外，如果小于70℃，则固化速度变慢，从而会有无法体现出强度的情况。另外，如果固化时间小于1分钟，则会有膜强度不足的情况。
而且，作为涂敷方法，例如可以从绕线棒刮涂法、凹版印刷涂敷法、狭缝涂敷法、辊涂法、浸渍涂敷法等中适当地选择。
利用所述方法制成的防带电·防反射膜具有如下等特征，即，具有良好的防带电效果、防反射性，膜强度强，具有防污性。其理由可以如下考虑。
通过使透明硬质涂层、透明导电性中折射率层及透明高折射率层中存在大量的无机化合物填充剂，就可以增大层的表面能而明显地提高各涂料向各层表面上的浸润性，利用该浸润性改善效果，层间的密接性提高，由此可以获得比以往更强的膜强度。
另外，在处于最外层的透明低折射率层中，含有硅油，与水的接触角超过90°，可以赋予疏水性。此外，该疏水效果即使是用棉布等擦拭，也可以充分地维持效果，可以获得比以往更高的防污性。对于维持防污性的理由，可以认为是因为，硅油被送入氧化硅矩阵中，从而不会轻易地渗出。
(复合层)本发明的滤光片中所含的复合层是接合在透明基材的另一面上的层，包括被相互层叠地接合的电磁波屏蔽层、近红外线屏蔽层，复合层的露出面需要具有粘接性。
(电磁波屏蔽层)本发明的滤光片中，对于形成于透明基材的另一面上的复合层中所含的电磁波屏蔽层的构成·组成等没有特别的限制，只要是以具有电磁波屏蔽性和图像的透过性的方式形成的层即可，例如可以使用金属网层、含有导电性物质的透明导电膜等。
例如，作为金属网层，可以使用在透明基材上用催化剂墨液印刷网状图案，对其实施金属镀敷而形成的层。另外，例如作为透明导电膜层，可以使用利用蒸镀、溅射等形成了银等导电性物质的层。
另外，电磁波屏蔽层的厚度优选1～10μm。在作为电磁波屏蔽层使用金属网层的情况下，当金属网层的厚度大于10μm时，则视场角度变窄，识认性降低。另外，即使将表面黑色化，在从斜向识认的情况下，金属网的深度方向也难以被黑色化，从而使金属的色调露出，对画面的色调造成不良影响。
另外，也可以将金属网层的两边的边缘端部设为满(ベタ)金属膜。
(近红外线屏蔽粘接层)本发明的滤光片中，复合层中所含的近红外线屏蔽粘接层的近红外线屏蔽性能最好对于波长800～1100nm区域的近红外线具有屏蔽性，例如优选在树脂矩阵中含有近红外线吸收色素。
作为近红外线吸收色素，只要是对800～1100nm区域的近红外线具有屏蔽性的色素，就没有特别限定，例如可以使用二亚氨鎓(diimmonium)类化合物、铝类化合物、酞菁类化合物、有机金属络合物类化合物、花青类化合物、偶氮类化合物、聚甲炔类化合物、醌类化合物、二苯基甲烷类化合物、三苯基甲烷类化合物、巯基萘酚类化合物等，另外它们既可以使用单一种类，另外也可以使用与无机物复合化的材料，或者也可以将两种以上适当地组合使用。
二亚氨鎓类化合物在波长850～1100nm的近红外线区域，具有摩尔吸光系数为10万左右的强吸收性，所以在近红外线屏蔽性方面优良。虽然二亚氨鎓类化合物在波长400～500nm的可见光区域具有一定的吸收，而呈现黄褐色的透过色，但是由于可见光透过性比其他的近红外线吸收色素更为优良，因此在本发明的滤光片中所用的近红外线吸收色素中，优选含有至少一种二亚氨鎓类化合物。
为了体现在实用上足够的近红外线屏蔽性，近红外线屏蔽粘接层对波长850～1000nm的近红外线的透过率优选在20％以下。近红外线屏蔽粘接层中的近红外线吸收色素的优选的配合量依赖于粘接层的厚度而变动。在使用二亚氨鎓类化合物，并且将粘接层的厚度设计为5～50μm左右的情况下，相对于作为基体使用的透明树脂100质量份，近红外线吸收性色素化合物的配合量优选设为0.5～5.0质量份左右。当近红外线吸收色素化合物相对于透明基体树脂100质量份的配合量超过5质量份时，则在所得的近红外线屏蔽层中，会有产生色素的偏析或产生可见光透明性的降低的情况。
在近红外线屏蔽粘接层中使用了二亚氨鎓类化合物的情况下，最好作为第二近红外线吸收色素，还并用在750～900nm具有吸收极大值，在可见光区域实质上没有吸收的一种以上的色素，例如其吸收极大值波长下的吸收系数与波长450nm(蓝色光的中心波长)、525nm(绿色光的中心波长)及620nm(红色光的中心波长)下的各个吸光系数的比都在5.0以上的一种或两种以上的近红外线吸收色素，所述第二近红外线吸收色素的所述吸光系数的比更优选在8.0以上。在所述吸光系数的比的某个小于5.0时，则会有实用上所必需的850～900nm的平均透过率在20％以下的情况，波长450nm(蓝色光的中心波长)、525nm(绿色光的中心波长)及620nm(红色光的中心波长)下的可见光线透过率的某个小于60％，从而有可见光区域的透过率在实用上不足的情况。
作为具有所述的特性的所述第二近红外线吸收色素用化合物，例如可以使用二硫酚镍络合物类化合物、吲哚鎓类化合物、酞菁类化合物、萘菁类化合物等。特别是酞菁类化合物及萘菁类化合物一般来说在耐久性方面优良，因而可以优选使用，然而由于萘菁类化合物更为昂贵，因此在实用上更优选使用酞菁类化合物。
本发明的滤光片中，在复合层包括接合在所述透明基材的所述另一面上的电磁波屏蔽层、形成于该电磁波屏蔽层上的近红外线屏蔽层的情况下，既可以是在该近红外线屏蔽层中含有粘接剂，因而近红外线屏蔽层的露出面为显示粘接性的面，另外也可以是在近红外线屏蔽层的露出面上形成含有粘接剂的粘接层，由此形成粘接性露出面。
另外，本发明的滤光片的复合层中，也可以是将近红外线屏蔽层形成于透明基材的所述另一面上，电磁波屏蔽层的一面借助含有粘接剂的表面粘接层与所述近红外线屏蔽层接合，并且在电磁波屏蔽层的另一面上，形成含有粘接剂的背面粘接层，利用该背面粘接层形成复合层的粘接性露出面。
所述具有粘接性的近红外线屏蔽层、形成于近红外线屏蔽层上的粘接层以及电磁波屏蔽层的表面、背面上所形成的表面及背面粘接层各自所含的粘接剂也可以是含有选自丙烯酸类树脂、聚酯类树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、蜜胺树脂、丙烯腈-丁二烯共聚物(NBR)及乙烯-醋酸乙烯共聚体(EVA)等中的一种以上的粘接剂。在近红外线屏蔽层中含有粘接剂的情况下，近红外线吸收色素与粘接剂的混合物中的近红外线吸收色素的浓度优选0.5～5质量％。
另外，本发明的滤光片中，其波长590nm的可见光的透过率最好比波长450nm、525nm、620nm的各自的可见光的透过率低10％以上。当如此设置时，则在使用本发明的滤光片的情况下，可以提高等离子体显示器等显示器的对比度，使得色调修正功能提高。为了使本发明的滤光片的波长590nm的可见光的透过率比波长450nm、525nm、620nm各自的可见光的透过率低10％以上，最好在近红外线屏蔽层中含有选择吸收性色材。在将波长590nm的可见光选择性地吸收的色材中，只要对所述二亚氨鎓类化合物的组成上的变质不会造成不良影响，就没有特别限制，例如优选使用喹吖酮颜料、偶氮甲碱类化合物、花青类化合物及卟啉化合物等。
本发明的滤光片的一个实施方式(1)被表示于图2中。图2-(a)是该滤光片的纵剖面说明图，图2-(b)是在方向A上看该滤光片时的主视图。图2-(a)及(b)中，滤光片1包括透明基材2、形成于其一面上的防反射层3、形成于透明基材2的另一面上的复合层4，在该复合层4中，电磁波屏蔽层5被形成于所述透明基材2上，在该电磁波屏蔽层5上，固定形成有近红外线屏蔽层6。
如图2-(a)及(b)所示，电磁波屏蔽层最好具有两个以上的接地电极连接部，该接地电极连接部最好被设于电磁波屏蔽层5的周缘部分7的相互分离的至少两个部位。为此，电磁波屏蔽层5的周缘部分7的至少一部分最好如图2-(a)及(b)所示，不被近红外线屏蔽层6覆盖而向外部露出。例如，如图2-(a)及(b)所示，在滤光片1具有四边形，特别是具有矩形的形状的情况下，在该四边当中的至少相面对的两边(即，上下两边或左·右两边)的边缘端部形成接地电极连接部形成用露出部7。
在图3所示的本发明的滤光片的方式中，在电磁波屏蔽层5的左·右两边的边缘端部8上，利用电镀或导电性胶带的粘接等处理，形成带状的满金属膜。由于此种电磁波屏蔽层5的上下两边的边缘端部7未被近红外线屏蔽层6覆盖，因此形成了所述满金属膜的左·右两边的边缘端部8的上下端部9在电磁波屏蔽层5的左·右·上·下四角未被覆盖而露出，可以将该露出的满金属膜部分9作为接地电极连接部利用。接地电极连接部7是可以有效地用于将电磁波屏蔽层所捕捉的电磁波作为电能取出而从滤光片中除去的部分。
图4中给出在图像显示装置的显示面，例如PDP(等离子体显示装置)模块的图像显示面上安装了本发明的滤光片的实施方式(1)的状态。图4中，在配置于图像显示装置10的筐体11中的图像显示玻璃12的表面上，滤光片1通过其复合层4的近红外线屏蔽层被利用其粘接性结合固定，并且以其防反射层3的边缘端部与筐体11接合，而被稳定地保持。滤光片1的防反射层3与识认方向V相面对。在电磁波屏蔽层5的上·下边缘端部形成有接地电极连接部，与之连接的接地极13既可以如图4所示，与筐体13直接连接，另外也可以借助曲臂或衬垫(未图示)而与接地机构导通。
本发明的滤光片的实施方式(1)中所含的近红外线屏蔽粘接层由近红外线吸收色素、粘接剂(包含胶粘剂)的混合物形成，作为粘接剂，可以使用选自丙烯酸类树脂、聚酯类树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、蜜胺树脂、丙烯腈-丁二烯共聚物(NBR)及乙烯-醋酸乙烯共聚体(EVA)等中的一种以上。该情况下，近红外线吸收色素与粘接剂的混合物中的近红外线吸收色素的浓度优选0.5～5质量％。
在制造本发明的滤光片时，在透明基材，最好在具有紫外线吸收性能的透明基材的一个表面上形成防反射层后，在其背面形成电磁波屏蔽层。继而在电磁波屏蔽层上形成近红外线屏蔽粘接层。此时，在形成接地电极取出部的部分上，最好不将近红外线屏蔽粘接层覆盖而使之露出。在形成了近红外线屏蔽粘接层后，最好对其实施脱泡而透明化的工序。作为脱泡法，可以利用加压或减压来进行，然而在进行连续的roll-to-roll层压的情况下，最好利用减压来进行。在该近红外线屏蔽粘接层中，也可以含有用于截除Ne光的波长区域的发光的染料及用于调整滤光片的色调及透过率的着色材料。
如果使用本发明的滤光片，则通过将其直接贴附在PDP模块的图像显示面玻璃上，与以往的使用了带有玻璃的滤光片的情况相比，在42英寸尺寸中可以实现约4kg的轻型化，在50英寸尺寸中可以实现约5kg的轻型化。另外，由于滤光片自身实质上由一片薄膜状叠层体构成，因此与迄今为止的由两片薄膜构成的滤光片相比，可以实现约30％的轻型化和将滤光片的厚度减薄约40％。
另外，可以将成为基材的薄膜设为最小限度的1片，还可以削减在贴合中所用的胶粘剂使用量，实现成本的大幅度削减。
在图5-(a)及(b)中所示的本发明的滤光片的实施方式(2)中，在滤光片1的透明基材2的一面上形成防反射层3，在透明基材2的另一面上形成复合层4，将复合层4中的电磁波屏蔽层5与透明基材2的另一面接合，在电磁波屏蔽层5上形成近红外线屏蔽层6，复合层4的粘接性露出面4a被形成于近红外线屏蔽层6上，由含有粘接剂(包含胶粘剂)的粘接层21形成。这些成分层被接合为一体化的薄膜状，电磁波屏蔽层5的周缘部例如如图5-(b)所示，上下面边缘端部未被近红外线屏蔽层6及粘接层21覆盖而露出，在该边缘端部可以设置接地电极连接部。近红外线屏蔽层6可以利用印刷法(优选网板印刷法)形成，粘接剂层21可以利用凹版印刷法等直接涂敷法形成，或通过将无载体薄膜(non-carrierfilm)层压而形成，接地电极取出部可以有效地用于将从等离子体面板等显示器中泄露，由电磁波屏蔽层捕捉的电磁波变换为电流，将其经由显示器的筐体等接地。
本发明的滤光片中，形成于近红外线屏蔽层上的粘接剂层由透明的粘接剂(包含胶粘剂)形成，作为此种粘接剂，可以使用丙烯酸类树脂。在粘接剂层由胶粘剂形成的情况下，其与近红外线屏蔽层之间的粘接强度在初期阶段，优选1～10N/25mm，更优选4～8N/25mm。当粘接强度处于1～10N/25mm的范围内时，在将滤光片粘接在显示器的显示表面上时，可以在实用上充分地保持粘接，而且在需要将滤光片剥离时，可以在实用上没有很大困难地剥离，可以继续使用高价的显示器主体，并且可以将剥离了的滤光片再利用。另外，所述粘接强度随时间推移而上升，达到平衡的时刻的粘接强度优选10～15N/25mm。
本发明的滤光片中，形成于近红外线屏蔽层上的粘接层最好在从585nm到600nm的波长区域中具有极大吸收峰。用于形成此种粘接层的粘接剂例如可以从丙烯酸类树脂中选择。
另外，本发明的滤光片中，最好粘接剂层在从585nm到600nm的波长区域中具有极大吸收峰，从585nm到600nm的波长区域中的可见光的透过率比波长450nm、525nm、620nm各自的可见光的透过率低10％以上。当如此设置时，在使用了本发明的滤光片的情况下，可以赋予所谓的氖截除功能，提高等离子体显示器等显示器的对比度，色调修正功能提高。为了使本发明的滤光片的从波长585nm到600nm的波长区域中的可见光的透过率比波长450nm、525nm、620nm各自的可见光的透过率低10％以上，在近红外线屏蔽层中最好含有选择吸收性色材。在将波长590nm的可见光选择性地吸收的色材中，只要是对所述二亚氨鎓类化合物的组成上的变质不造成不良影响的材料，就没有特别限制，例如优选使用喹吖酮颜料、偶氮甲碱类化合物、花青类化合物及卟啉化合物等。
本发明的滤光片的实施方式2可以如下所示地制造。在透明基材，最好在具有紫外线吸收性能的透明基材的一个表面上形成了防反射层后，在其背面形成电磁波屏蔽层。继而在电磁波屏蔽层上利用网板印刷法等印刷法形成近红外线屏蔽层。此时，在设置接地电极取出部的部分上，最好不将近红外线屏蔽层及粘接剂层覆盖而使之露出。在作为电磁波屏蔽层使用金属网的情况下，通过在该金属网层上，利用网板印刷法等印刷法印刷含有形成近红外线屏蔽层的色素的墨液，可以省略对所得的近红外线屏蔽层的脱泡处理及透明化处理。在该近红外线屏蔽层及粘接层中，为了调整滤光片的色调及透过率，也可以还含有着色材料。粘接层最好在从585nm到600nm的波长区域中具有极大吸收峰。
图6所示的本发明的滤光片的实施方式(2)中，电磁波屏蔽层5的左·右两边的边缘端部8也可以利用电镀或导电带等处理以带状满金属膜化。在该具有被满金属膜化了的左·右带状边缘端部8的电磁波屏蔽层5上，也可以将其上·下两边的边缘端部7露出残留地形成近红外线屏蔽层6(未图示)。该情况下，可以将在被满金属膜化了的左·右带状边缘端部8的左·右·上·下四角露出的满金属膜部9作为接地电极取出部利用。
图7中给出在图像显示装置的显示面，例如PDP模块的图像显示面上安装了本发明的滤光片的实施方式(2)的状态。图7中，被直接贴合在图像显示面上，例如PDP模块10的图像显示玻璃12的表面，将其周缘部接合保持在模块10的筐体11上。在电磁波屏蔽层5的上·下边缘端部形成有接地电极取出部，安装有接地极13，接地极13既可以如图7所示，与筐体11直接连接，另外也可以借助接线柱、曲臂或衬垫(未图示)而与接地机构导通。
在图8-(a)及(b)所示的本发明的滤光片的实施方式(3)中，滤光片1由透明基材2、形成于其一面上的防反射层3、形成于透明基材2的另一面上的复合层4构成，在该复合层中，近红外线屏蔽层6被形成于透明基材2的另一面上，在该近红外线屏蔽层6上接合形成有电磁波屏蔽层5，复合层的粘接性露出面由形成于电磁波屏蔽层5上的粘接层22形成。这些成分层被接合为一体化的薄膜状，在电磁波屏蔽层5的周缘部，最好形成有用于形成接地电极连接部的露出部分7。
在本发明的滤光片的实施方式(3)中，近红外线屏蔽层6可以利用与实施方式(1)及(2)相同的方法形成。另外，电磁波屏蔽层也可以利用与实施方式(1)及(2)相同的方法、尺寸、形状，使用金属网层或含有导电性物质的透明导电膜等形成。
例如，金属网层可以使用将金属网层压在近红外线屏蔽层上，或对镀覆铜等金属而形成的金属层实施蚀刻而以网状图案的形状形成的层；以及在近红外线屏蔽层上，以网状图案的形状印刷了含有钯等催化剂的糊状物(墨液)，在其上镀上金属的层等。另外，例如作为透明导电膜层，可以使用利用蒸镀、溅射等形成了银等导电性物质的层。
本发明的滤光片的实施方式(3)的复合层中所含的粘接层被形成于电磁波屏蔽层上，形成复合层的粘接性露出面。该粘接层是具有与所述实施方式(2)的粘接层相同的组成、尺寸、形状、特性的层。另外，本发明的滤光片中，粘接层最好在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰，另外，最好具有从585nm到600nm的波长的可见光的透过率比波长450nm、525nm、620nm各自的可见光的透过率低10％以上。当如此设置时，在使用了本发明的滤光片的情况下，可以赋予所谓的氖截除功能，提高等离子体显示器等显示器的对比度，色调修正功能提高。为了使本发明的滤光片的具有从波长585nm到600nm的波长的可见光的透过率比波长450nm、525nm、620nm各自的可见光的透过率低10％以上，在近红外线屏蔽层中最好含有选择吸收性色材。在将波长590nm的可见光选择性地吸收的色材中，只要是对所述二亚氨鎓化合物的组成上的变质不造成不良影响的材料，就没有特别限制，例如优选使用喹吖酮颜料、偶氮甲碱类化合物、花青类化合物及卟啉化合物等。
在形成本发明的滤光片的实施方式(3)时，在透明基材，最好在具有紫外线吸收性能的透明基材的一个表面上形成了防反射层后，在其背面形成复合层。在复合层的形成中，是在透明基材的背面形成近红外线屏蔽层，继而在近红外线屏蔽层上利用网板印刷法等印刷法形成电磁波屏蔽层，在电磁波屏蔽层上形成粘接剂层，形成粘接性露出面。此时，在电磁波屏蔽层的形成接地电极连接部的部分上，最好不将粘接剂层覆盖而使之露出。
图9所示的本发明的滤光片的实施方式中，电磁波屏蔽层5的左·右两边的边缘端部8也可以利用电镀或导电带等处理以带状满金属膜化。在该具有被满金属膜化了的左·右带状边缘端部8的电磁波屏蔽层5上，也可以将其上·下两边的边缘端部7露出残留地覆盖形成粘接层22。该情况下，可以将在被满金属膜化了的左·右带状边缘端部8的上·下四角分别露出的满金属膜部9作为接地电极连接部利用。
图10中给出在图像显示装置的显示面，例如PDP模块的图像显示面上安装了本发明的滤光片的实施方式(3)的状态。图10中，被直接贴合在图像显示面上，例如PDP模块10的图像显示玻璃12的表面，将其周缘部接合保持在模块10的筐体11上。在电磁波屏蔽层5的上·下边缘端部形成有接地电极连接部，安装有接地极13，接地极13既可以如图10所示，与筐体11直接连接，另外也可以借助接线柱、曲臂或衬垫(未图示)而与接地机构导通。
图11所示的本发明的滤光片的实施方式(4)中，在滤光片1的透明基材2的一面上形成防反射层3，在透明基材2的另一面上接合有复合层4，在复合层4中，近红外线屏蔽层6被形成于所述透明基材2的所述另一面上，在该近红外线屏蔽层6上，夹隔表面粘接层23接合有电磁波屏蔽层5，复合层4的粘接性露出面4a由形成于电磁波屏蔽层5的背面的背面粘接层24形成。这些成分层被接合为一体化的薄膜状。特别优选将表面粘接层23与背面粘接层24经由形成电磁波屏蔽层5的金属网的开口部相互连结。为了在电磁波屏蔽层5的周缘部设置接地电极连接部，最好形成未被覆盖而露出的部分7。
本发明的滤光片中，形成于电磁波屏蔽层的表背两面上的表面及背面粘接剂层分别由透明的粘接剂(包含胶粘剂)形成，作为此种粘接剂，可以使用硅类树脂或丙烯酸类树脂等。在表面及背面粘接剂层由胶粘剂形成的情况下，它们的粘合强度在初期阶段优选1～10N/25mm，更优选4～8N/25mm。当粘合强度处于1～10N/25mm的范围内时，在将滤光片粘合在PDP面板表面上时，可以在实用上充分地粘合保持，而且在需要将滤光片剥离时，可以在实用上没有很大困难地剥离，可以继续使用高价的显示器主体，并且可以将剥离了的滤光片再利用。另外，所述粘接强度随时间推移而上升，达到平衡的时刻的粘接强度优选10～15N/25mm。在电磁波屏蔽材料层由金属网形成时，表面及背面粘接剂层各自的一部分最好浸入金属网的开口部中而相互连结。
如图12所示，在电磁波屏蔽层的周缘部7，最好形成未被表面粘接层23覆盖而露出的部分。背面粘接层24将电磁波屏蔽层5的背面的全面覆盖，形成粘接性露出面4a。表面及背面粘接层23及24最好经由形成电磁波屏蔽层5的金属网的开口部而相互连结。
本发明的滤光片的实施方式(4)的俯视图如图13所示，在电磁波屏蔽层5及背面粘接层24上，以使其周缘部7露出的方式，层叠有防反射层3、透明基材2、近红外线屏蔽层6及表面粘接层23，被一体化为薄膜状。
既可以如图14所示，电磁波屏蔽层5的周缘部被满金属膜化，形成满金属膜部8，或者也可以如图15所示，满金属膜部8仅形成于电磁波屏蔽层5的相互面对的左右两边的边缘端部。最好在图14及图15所示的满金属膜部8的相互分离的两个部位以上，例如四个角部设置接地电极连接部。
在制造本发明的滤光片的实施方式(4)时，在透明基材，最好在含有紫外线吸收剂的透明基材上形成了防反射层后，在其背面形成了近红外线屏蔽层的薄膜上，以电磁波屏蔽层的表面作为薄膜侧层压该电磁波屏蔽层，该电磁波屏蔽层表面在除去电极部以外的部分具有粘接层，并且在其背面的全面具有粘接层。电磁波屏蔽层无论是全面网，还是周壁部为满金属膜部都可以，然而相当于接地电极部的部分未被粘接剂覆盖。粘接层由于不是夹隔PET薄膜等薄膜，而是直接形成于金属网上，因此就不需要以往在使用了金属网薄膜的情况下所必需的利用加压或真空进行脱泡、透明化的工序。
如果使用本发明的滤光片，则通过将其直接贴附在PDP面板前面玻璃上，就可以实施PDP的大幅度的轻型化。另外，由于实质上由一片薄膜构成，因此可以实现成为基材的薄膜或贴合中所用的胶粘剂等的削减，从而可以实现大幅度的成本的削减和节省资源化。
图16中给出将本发明的透明薄膜状滤光片的实施方式(4)搭载于PDP上时的构成(剖面)。本发明的滤光片被夹隔背面粘接剂层24直接贴附在PDP面板10的显示面12上。未被表面粘接剂层覆盖的接地电极连接部7被借助将电极取出的接地极13或衬垫(未图示)等形成导通地安装。
实施例利用下述实施例对本发明的滤光片进行进一步说明。
对于下述实施例的滤光片，进行了下述的测定及评价。
(1)总光线透过率使用浊度仪(日本电色公司制)测定。
(2)浊度值使用浊度仪(日本电色公司制)测定。
(3)视觉反射率使用分光光度计(日本分光公司制V-570)，依照JIS R 3106测定。
(4)铅笔硬度将防反射层面设为上，依照JIS K 5600-5-4测定了在1kg载荷下不形成伤痕的最小铅笔硬度。
(5)钢丝棉强度将防反射层面设为上，测定了在#0000钢丝棉上加载了250g/cm2的载荷的同时在防反射层面的上面上往复运动10次后所产生的伤痕的数目。
(6)密接性依照JIS D 0202将防反射层面设为上，在膜表面的1cm见方的区域，在其纵横各边上以1mm间隔平行地加入切口，测定了对其表面实施了粘接胶带的剥离试验后的残存的格子的数目。
(7)分光透过率使用分光光度计(日本分光(株)制V-570)，测定了各试样的波长850nm、950nm、1000nm下的透过率。
(8)可靠性(i)在设定为80℃的恒温器中，加入各试样，测定了1000小时后的分光透过率。
(ii)在设定为60℃-相对湿度90％的恒温恒湿试验器中，加入各试样，测定了1000小时后的分光透过率。
(9)电磁波屏蔽性依照KEC法(社团法人关西电子工业振兴中心法)进行了测定。
实施例1作为透明基材使用含有紫外线吸收剂的厚度100μm的PET薄膜，在其单面以约1μm的厚度形成含有50重量％的氧化硅填充剂的紫外线固化树脂层，而形成硬质涂层，在其上，形成由含有85重量％的含锑氧化锡的氧化硅层构成并且具有约140nm的厚度的导电性中折射率层，在其上形成由含有65重量％的氧化钛的氧化硅层构成并且具有约110nm的厚度的高折射率层，在其上，形成仅由氧化硅构成并且具有约90nm的厚度的低折射率层，从而形成防反射层，在其表面层压了PET制保护薄膜。然后，在所述PET薄膜的相反面使用具有L/S＝30/270(μm)的格子状(网状)的图案的网板印刷含有钯胶体的糊状物，将其浸渍于非电解铜镀液中，实施非电解镀铜，接下来实施电解镀铜，继而实施Ni-Sn合金的电镀，形成了网状电磁波屏蔽层。然后，在该电磁波屏蔽层的表面，形成近红外线屏蔽粘接层(厚度25μm)，该近红外线屏蔽粘接层以质量比2∶1含有包含具有以下述化学式(CH3SO2)2N-表示的平衡离子的二亚氨鎓化合物的二亚氨鎓类色素、酞菁类色素(商标イ—エクスカラ—IR-10A，日本催化剂公司制)，另外相对于所述色素的合计质量含有250倍(质量)的丙烯酸树脂类粘接剂。
对所述叠层体，在真空室内实施1小时透明化处理，制作了滤光片。
利用所述方法测定并评价了所得的滤光片的「总光线透过率」、「浊度值」、「视觉反射率」、「铅笔硬度」、「铅笔硬度」、「钢丝棉强度」、「密接性」、「分光透过率(近红外部)」、「可靠性试验(高温·高湿下的1000小时后的近红外部的透过率变化)」、「电磁波屏蔽性」。将评价结果表示于表1中。
表1

从表1中可以清楚地看到，本发明的滤光片具有优良的透光率、低浊度值、低反射性、优良的电磁波屏蔽性及近红外线屏蔽性，而且具有在实用上足够的硬度、密接性、使用耐久性、可视图像的识认性及轻质性。
实施例2作为透明基材使用厚度100μm的含有紫外线吸收剂的PET薄膜，在其单面与实施例1相同地形成由硬质涂层、导电性中折射率层、高折射率层、低折射率层构成的防反射层，在其表面层压了PET制保护薄膜。然后，在所述PET薄膜的相反面使用具有L/S＝30/270(μm)的格子状(网状)的图案的网板印刷含有钯胶体的糊状物，将其浸渍于非电解铜镀液中，实施非电解镀铜，接下来实施电解镀铜，继而实施Ni-Sn合金的电镀，形成了网状电磁波屏蔽层。然后，在该电磁波屏蔽层的表面，利用网板印刷法印刷如下的墨液，该墨液以质量比2∶1含有包含具有以下述化学式(CH3SO2)2N-表示的平衡离子的二亚氨鎓化合物的二亚氨鎓类色素、酞菁类色素(商标イ—エクスカラ-IR-10A，日本催化剂公司制)，另外该墨液相对于所述色素的合计质量含有200倍(质量)的甲基丙烯酸酯类树脂，另外，该墨液作为溶剂含有乙酸丁酯、环己酮及甲苯，将该墨液干燥，形成了近红外线屏蔽层。另外，在所述近红外线屏蔽层上涂布形成粘接剂层，制作了滤光片。
将所得的滤光片实施了所述测定评价。将评价结果表示于表2中。
表2

从表2中可以清楚地看到，本发明的滤光片具有优良的透光率、低浊度值、低反射性、优良的电磁波屏蔽性及近红外线屏蔽性，而且具有在实用上足够的硬度、密接性、使用耐久性、可视图像的识认性。
实施例3作为透明基材，使用含有紫外线吸收剂的厚度100μm的PET薄膜，在其单面与实施例1相同地形成由硬质涂层、导电性中折射率层、高折射率层、低折射率层构成的防反射层，在其表面层压了PET制保护薄膜。然后，在所述PET薄膜的相反面使用具有L/S＝30/270(μm)的格子状(网状)的图案的网板印刷含有钯胶体的糊状物，将其浸渍于非电解铜镀液中，实施非电解镀铜，继而实施电解镀铜，继而实施Ni-Sn合金的电镀，形成了网状电磁波屏蔽层。然后，在该电磁波屏蔽层的表面，利用网板印刷法印刷如下的墨液，该墨液以质量比2∶1含有包含具有以下述化学式(CH3SO2)2N-表示的平衡离子的二亚氨鎓化合物的二亚氨鎓类色素、酞菁类色素(商标イ—エクスカラ-IR-10A，日本催化剂公司制)，另外该墨液相对于所述色素的合计质量含有250倍(质量)的甲基丙烯酸酯类树脂，另外，该墨液作为溶剂含有乙酸丁酯、环己酮及甲苯，将该墨液干燥，形成了近红外线屏蔽层。另外，在所述近红外线屏蔽层上涂布含有0.1％的卟啉化合物染料的丙烯酸树脂，形成粘接层，制作了滤光片。
将所得的滤光片实施了所述测定评价。将评价结果表示于表3中。
表3

从表3中可以清楚地看到，本发明的滤光片具有优良的透光率、低浊度值、低反射性、优良的电磁波屏蔽性及近红外线屏蔽性，而且具有在实用上足够的硬度、密接性、使用耐久性、可视图像的识认性，而且轻质。另外，在制造方法中，通过将近红外线屏蔽层、对从585nm到600nm的波长的光的选择吸收层即粘接层作为分立的层配置，构成构件的处置就变得更为容易，例如作为等离子体显示装置等显示装置的滤光片具有很高的实用性。
实施例4作为透明基材使用厚度100μm的含有紫外线吸收剂的PET薄膜，在其单面与实施例1相同地形成由硬质涂层、导电性中折射率层、高折射率层、低折射率层构成的防反射层，在其表面层压了PET制保护薄膜。然后，在所述PET薄膜的相反面涂敷如下的墨液，其含有包含具有以化学式(CH3SO2)2N-表示的平衡离子的作为二亚氨鎓化合物的二亚氨鎓类色素和酞菁类色素((株)日本催化剂制，商标イ—エクスカラ-IR-10A)、透明树脂(甲基丙烯酸酯类、纤维素类)、溶剂(甲苯、甲基乙基酮、乙酸乙酯等)，形成了近红外线屏蔽层。在该近红外线屏蔽层上，使用具有L/S＝30/270(μm)的格子状(网状)的图案的网板掩模印刷含有钯胶体的糊状物，将其浸渍于非电解铜镀液中，实施非电解镀铜，接下来实施电解镀铜，继而实施Ni-Sn合金的电镀，形成了黑色的电磁波屏蔽层。在该电磁波屏蔽层上涂敷含有胶粘剂的粘接剂层，制作了滤光片。
将所得的滤光片实施了所述测定评价。将评价结果表示于表4中。
表4

从表4中可以清楚地看到，本发明的滤光片具有优良的透光率、低浊度值、低反射性、优良的电磁波屏蔽性及近红外线屏蔽性，而且具有在实用上足够的强度、耐久性、使用耐久性、可视图像的识认性、轻质性。
实施例5作为透明基材，使用含有紫外线吸收剂的厚度100μm的PET薄膜，在其单面与实施例1相同地形成由硬质涂层、导电性中折射率层、高折射率层、低折射率层构成的防反射层，在其表面层压了PET制保护薄膜。然后，在所述PET薄膜的相反面涂敷如下的墨液，其含有包含具有以化学式(CH3SO2)2N-表示的平衡离子的作为二亚氨鎓化合物的二亚氨鎓类色素和酞菁类色素((株)日本催化剂制，商标イ—エクスカラ-IR-10A)、透明树脂(甲基丙烯酸酯类、纤维素类)、溶剂(甲苯、甲基乙基酮、乙酸乙酯等)，形成了近红外线屏蔽层。在该近红外线屏蔽层上，使用具有L/S＝30/270(μm)的格子状(网状)的图案的网板掩模印刷含有钯胶体的糊状物，将其浸渍于非电解铜镀液中，实施非电解镀铜，接下来实施电解镀铜，继而实施Ni-Sn合金的电镀，形成了黑色的电磁波屏蔽层。在该电磁波屏蔽层上涂敷含有0.1％卟啉化合物染料的丙烯酸树脂，形成粘接层，制作了滤光片。
将所得的滤光片实施了所述测定评价。将评价结果表示于表5中。
表5

从表5中可以清楚地看到，本发明的滤光片具有优良的透光率、低浊度值、低反射性、优良的电磁波屏蔽性及近红外线屏蔽性，而且具有在实用上足够的强度、使用耐久性、可视图像的识认性及轻质性。
另外，在制造方法中，通过将近红外线屏蔽层、对具有从585nm到600nm的波长的光的选择吸收层即粘接层作为分立的层配置，构成构件的处置就变得更为容易，例如作为等离子体显示装置等显示装置的滤光片具有很高的实用性。
实施例6作为透明基材使用含有紫外线吸收剂的厚度100μm的PET薄膜，在其单面形成含有30重量％的含锑氧化锡、具有约1μm的厚度的UV固化树脂层，而形成硬质涂层，在其上，以100nm的厚度形成含氟氧化硅层，形成了防反射层。然后，在所述PET薄膜的相反面，使用在溶剂中溶解或分散所述的近红外线吸收色素和基体树脂而得的溶液，形成近红外线屏蔽层，制成了防反射·近红外线屏蔽薄膜。然后，对将铜箔进行蚀刻处理而得的网状箔进行氧化处理，将表面黑色化，另外，由于将表面的一部分作为电极来确保，因此在除去该部分以外的部分贴合由非载流子(non-carrier)胶粘剂构成的表面粘接剂层，在背面整体也贴合由非载流子胶粘剂构成的背面粘接剂层，制成了含有电磁波屏蔽层的叠层体。将这些含有防反射·近红外线屏蔽层的复合薄膜与含有电磁波屏蔽层的叠层体使用叶片式层压机贴合一体化，制作了滤光片。
对所得的滤光片实施了所述测定评价。将评价结果表示于表6中。
表6

根据表6中记载的测定评价结果可知，本发明的滤光片具有优良的透光率、低反射性、电磁波屏蔽及近红外线屏蔽性和强度，另外还轻质，在耐久性及可视图像的识认性方面也优良。
工业上的利用可能性本发明的滤光片及其制造方法在防反射性、近红外线屏蔽性、电磁波屏蔽性方面优良，在使用耐久性、可视图像的识认性方面也优良，而且轻质，容易制造及处置，例如可以作为等离子体显示装置等显示装置的滤光片使用，具有很高的实用性。
权利要求
1.一种滤光片，包括透明的基材，和形成于所述透明基材的一面上的防反射层，和形成于所述基材的另一面上，并且包括被相互层叠的电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的复合层，它们被制成一体化的薄膜状，并且所述复合层的未与所述透明基材接合的露出面具有粘接性。
2.根据权利要求1所述的滤光片，其中，在所述复合层中，电磁波屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，另外，所述近红外线屏蔽层被形成于所述电磁波屏蔽层上，并且该近红外线屏蔽层具有粘接性能，形成所述粘接性露出面。
3.根据权利要求1所述的滤光片，其中，在所述复合层中，所述电磁波屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，另外，所述近红外线屏蔽层被形成于所述电磁波屏蔽层上，所述粘接性露出面由形成于所述近红外线屏蔽层的另一面上的粘接剂层形成。
4.根据权利要求3所述的滤光片，其中，形成于所述近红外线屏蔽层上的粘接剂层在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰。
5.根据权利要求1所述的滤光片，其中，在所述复合层中，所述近红外线屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，所述电磁波屏蔽层的一面被形成于所述近红外线屏蔽层上，并且所述粘接性露出面由形成于所述电磁波屏蔽层的另一面上的粘接剂层的露出面形成。
6.根据权利要求5所述的滤光片，其中，形成于所述电磁波屏蔽层上的粘接剂层在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰。
7.根据权利要求1所述的滤光片，其中，在所述复合层中，所述近红外线屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上，所述电磁波屏蔽层的一面被夹隔表面粘接剂层粘接在所述近红外线屏蔽层上，并且所述粘接性露出面由形成于所述电磁波屏蔽层的另一面上的背面粘接剂层的露出面形成。
8.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片，其中，所述电磁波屏蔽层由金属网构成。
9.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片，其中，所述电磁波屏蔽层具有两个以上的接地电极连接部，所述接地电极连接部被设于所述电磁波屏蔽层的周缘部分的相互分离的两个部位。
10.根据权利要求1、2、3及5中任意一项所述的滤光片，其中，所述电磁波屏蔽层由通过在所述近红外线屏蔽层上以网状印刷催化剂墨液，在其上实施金属镀敷处理而形成的金属层构成。
11.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片，其中，所述电磁波屏蔽层的表面被黑色金属覆盖。
12.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片，其中，所述透明基材具有紫外线吸收性能。
13.根据权利要求1、2及3中任意一项所述的滤光片，其中，所述近红外线屏蔽层是在所述电磁波屏蔽层上利用印刷法形成的层。
14.根据权利要求7所述的滤光片，其中，所述表面粘接剂层在所述电磁波屏蔽层的所述一面上，除了使其接地电极接合部露出以外，将其他的全面覆盖，并且该表面粘接剂层与所述近红外线屏蔽层粘接，所述背面粘接剂层将所述电磁波屏蔽层的所述另一面的全面覆盖。
15.一种滤光片的制造方法，是用于制造权利要求1所述的滤光片的方法，包括在透明的基材的一面上形成防反射层，在所述透明基材的另一面上形成包括被相互层叠了的电磁波屏蔽层与近红外线屏蔽层的复合层(其中，该复合层的未与所述透明基材接触的面具有粘接性)，将它们制成一体化的薄膜状。
16.根据权利要求15所述的滤光片的制造方法，其中，在所述电磁波屏蔽层的周缘部分的相互分离的至少两个部位，设置未被覆盖而露出的接地电极连接部。
全文摘要
本发明提供一种滤光片，其在透明的基材(例如PET薄膜)的一面上形成防反射层，在其相反面上，接合有包括电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的复合层，该复合层的露出面具有粘接性，是一体化的薄膜状滤光片。本发明的滤光片轻质而容易制造及处置，在使用耐久性、可视图像的识认性方面优良，例如可以用作等离子体显示装置的显示面用滤光片。
文档编号G09F9/00GK101061399SQ200580039998
公开日2007年10月24日 申请日期2005年11月22日 优先权日2004年11月25日
发明者饭岛智彦, 石川真章, 和气正知 申请人:住友大阪水泥股份有限公司