一种透明显示面板及其制备方法和显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术：

近年来，显示装置正以日益多样化和新颖的形式出现在市场和人们的日常生活中。

这些显示装置包括如今技术已经相当成熟的lcd(liquidcrystaldisplay，液晶显示)装置，以及广泛应用于手机、平板电脑等便携设备的中小尺寸oled(organiclight-emittingdiode，有机发光二极管)显示装置，以及日趋成熟的用于电视机的大尺寸oled显示装置等。

与此同时，透明显示装置由于其显示面板本身具有一定程度的穿透性，能够清楚地显示面板后方的背景，获得了良好的用户体验，具有广阔的市场前景。

技术实现要素：

本发明的主要目的在于，提供一种透明显示面板及其制备方法和显示装置。能够减小透明显示面板的整体应力，防止透明显示面板在吸附过程中发生弯曲，进而便于封装的顺利进行。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供一种透明显示面板，包括：透明衬底以及设置于所述透明衬底上且位于显示区的多个亚像素；每个所述亚像素均包括发光区和透明区，设置于所述透明衬底上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素内至少在所述透明区的边缘设有凹陷。

可选的，所述至少一层绝缘层选自缓冲层、层间绝缘层和钝化层。

可选的，设置于所述透明衬底上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素内在所述透明区的边缘设有凹陷；所述亚像素呈阵列形式排列；所述透明显示面板还包括多条栅线和数据线，相对所述数据线，所述栅线更靠近所述透明衬底；设有所述凹陷的所述至少一层绝缘层位于所述栅线靠近所述透明衬底的一侧，且所述栅线和数据线在所述透明衬底上的正投影与所述凹陷在所述透明衬底上的正投影重叠；和/或，设有所述凹陷的所述至少一层绝缘层位于所述栅线远离所述透明衬底的一侧，且在所述凹陷位置处，所述至少一层绝缘层中每层绝缘层的厚度均大于0；所述栅线和数据线在所述透明衬底上的正投影与所述凹陷在所述透明衬底上的正投影重叠。

可选的，所述栅线的条数为n条，所述数据线的条数为m条，所述n和m均为大于或等于2的正整数；所述发光区和所述透明区在亚像素内沿数据线方向上下分布，在n条栅线中，除第一条栅线以外，第i条栅线在透明衬底上的正投影与第i-1行亚像素中的透明区边缘的凹陷中，靠近第i行亚像素的沿行方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠，每一条数据线在透明衬底上的正投影与每一列亚像素中透明区边缘的凹陷中，沿列方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于2且小于等于n的正整数；或者，所述透明区和所述发光区在亚像素内沿数据线方向上下分布，在n条栅线中，除最后一条栅线以外，第i条栅线在透明衬底上的正投影与第i+1行亚像素中的透明区边缘的凹陷中，靠近第i行亚像素的沿行方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠，每一条数据线在透明衬底上的正投影与每一列亚像素中透明区边缘的凹陷中，沿列方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于1且小于等于n-1的正整数；或者，所述发光区和所述透明区在亚像素内沿栅线方向左右分布，每一条栅线在透明衬底上的正投影与每一行亚像素中透明区边缘的凹陷中，沿行方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠内，在m条数据线中，除第一条数据线以外，第i条数据线在透明衬底上的正投影与第i-1列亚像素中的透明区边缘的凹陷中，靠近第i列亚像素的沿列方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于2且小于等于m的正整数；或者，所述透明区和所述发光区在亚像素内沿栅线方向左右分布，每一条栅线在透明衬底上的正投影与每一行亚像素中透明区边缘的凹陷中，沿行方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠，在m条数据线中，除最后一条数据线以外，第i条数据线在透明衬底上的正投影与第i+1列亚像素中的透明区边缘的凹陷中，靠近第i列亚像素的沿列方向延伸的凹陷在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于1且小于等于m-1的正整数。

可选的，所述至少一层绝缘层包括所述层间绝缘层和所述钝化层，且所述层间绝缘层和所述钝化层在位于所述透明区的位置无覆盖。

可选的，所述多层绝缘层还包括平坦层，所述平坦层的材质包括玻璃上的硅材料。

可选的，所述平坦层为双层结构，包括第一子平坦层和设置在所述第一子平坦层远离所述透明衬底一侧的第二子平坦层；所述第一子平坦层的材质为树脂材料，所述第二子平坦层的材质为玻璃上的硅材料。

可选的，所述层间绝缘层和所述钝化层的厚度之和，与所述平坦层的厚度之间的差值大于或等于0.8微米。

另一方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括如上所述的透明显示面板。

可选的，还包括盖板，所述盖板包括彩色滤光层和黑矩阵；所述黑矩阵包括遮光条和由遮光条围成的多个网格，所述遮光条设置于与所述透明显示面板的发光区的边缘对应的区域，每个所述彩色滤光层设置于一个所述网格内。

再一方面，本发明实施例提供一种透明显示面板的制备方法，包括：在透明衬底上划分出显示区，在显示区形成多个亚像素，每个所述亚像素均包括发光区和透明区，设置于所述透明衬底上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素内至少在所述透明区的边缘设有凹陷。

可选的，所述至少一层绝缘层选自缓冲层、层间绝缘层和钝化层。

可选的，设置于所述透明衬底上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素内在所述透明区的边缘设有凹陷；所述亚像素呈阵列形式排列；所述制备方法还包括形成多条栅线和数据线，相对所述数据线，所述栅线更靠近透明衬底；设有所述凹陷的所述至少一层绝缘层位于所述栅线靠近所述透明衬底的一侧，且所述栅线和所述数据线在所述透明衬底上的正投影与所述凹陷在所述透明衬底上的正投影重叠；和/或，设有所述凹陷的至少一层绝缘层位于所述栅线远离透明衬底的一侧，且在所述凹陷位置处，所述至少一层绝缘层中每层绝缘层的厚度均大于0；所述栅线和所述数据线在所述透明衬底上的正投影与所述凹陷在所述透明衬底上的正投影重叠。

可选的，通过半色调掩膜技术形成所述层间绝缘层和钝化层，以在所述层间绝缘层和所述钝化层在所述透明区的边缘形成所述凹陷，使得在所述凹陷对应位置处，所述层间绝缘层和所述钝化层的厚度均大于0。

本发明的实施例提供一种透明显示面板及其制备方法和显示装置，通过在每个亚像素内至少在透明区的边缘设置凹陷，能够去除部分绝缘层材料，从而能够减轻透明显示面板的重量；另一方面，针对多层绝缘层中至少一层绝缘层，通过至少透明区的边缘设置凹陷，能够将该至少一层绝缘层的应力通过分割进行消减，从而能够减小透明显示面板的整体应力，防止透明显示面板在吸附过程中发生弯曲，进而便于封装的顺利进行。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种透明显示装置的俯视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种透明显示装置的剖视结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种透明显示装置的剖视结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种透明显示装置的剖视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种基于图5的a-a’方向的剖视结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种基于图6的b-b’方向的剖视结构示意图；

图9为本发明实施例提供的一种对透明显示面板和盖板进行封装时，对透明显示面板进行吸附的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一种基于图5的a-a’方向的剖视结构示意图；

图11为本发明实施例提供的另一种基于图6的b-b’方向的剖视结构示意图；

图12为本发明实施例提供的另一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种基于图12的c-c’方向的剖视结构示意图；

图14为本发明实施例提供的另一种基于图12的c-c’方向的剖视结构示意图；

图15为本发明实施例提供的另一种基于图12的c-c’方向的剖视结构示意图；

图16为本发明实施例提供的另一种基于图12的c-c’方向的剖视结构示意图；

图17为本发明实施例提供的另一种基于图12的c-c’方向的剖视结构示意图；

图18为本发明实施例提供的另一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图19为本发明实施例提供的另一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图20为本发明实施例提供的另一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图21为本发明实施例提供的缓冲层和层间绝缘层上均未设置凹陷的剖视结构示意图；

图22为本发明实施例提供的再一种透明显示面板的俯视结构示意图；

图23为本发明实施例提供的一种显示装置的俯视结构示意图；

图24为本发明实施例提供的一种盖板的剖视结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

如图1所示，该透明显示装置可以划分出显示区(activearea，aa)a和位于显示区a周边的周边区s；周边区s用于布线，也可以设置驱动电路(如栅极驱动电路等)。显示区a设置有多个亚像素p。

每个亚像素p均包括发光区b和透明区c，该发光区b设置有发光器件和用于驱动该发光器件发光的像素驱动电路，用以显示彩色图像。透明区c是指设置于透明区c的各膜层均为透明膜层，也就是说，透明区c整体呈透明。

示例性的，该发光器件可以为自发光器件，如oled发光器件或者光致发光器件等。其中该自发光器件可以为顶发光型发光器件、底发光型发光器件或者双面发光型发光器件。

以该自发光器件为顶发光型发光器件为例，如图2所示，该透明显示装置可以包括透明显示面板1和盖板2，该盖板2可以为玻璃盖板。

如图1和图2所示，该透明显示面板1包括透明衬底11，以及设置于透明衬底11上且位于每个亚像素p的发光区b的像素驱动电路。该像素驱动电路包括多个薄膜晶体管，其中一个该薄膜晶体管12为驱动晶体管，该驱动晶体管的漏极121与该发光器件13的阳极131电连接。

该透明衬底11可以为任意呈透明的基板，例如玻璃基板、石英基板、塑胶基板或其他透明的硬质或者可挠式基板等。

如图2所示，该薄膜晶体管12可以包括依次层叠设置于该透明衬底11上的有源层122、栅绝缘层123、栅极124、层间绝缘层125、源极126和上述的漏极121，其中源极126与漏极121同层设置。

该透明衬底11和该驱动晶体管12之间还可以设置有缓冲层14。

该发光器件13除包括上述的阳极131外，还可以包括发光功能层132和阴极133，在该发光器件13为顶发光型发光器件的情况下，阳极131呈不透明，可以为ito(indiumtinoxides，氧化铟锡)/ag/ito的层叠结构，阴极133呈透明或半透明，可以为厚度较薄的金属银。

在一些实施例中，发光功能层132包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层132除包括发光层外，还包括电子传输层(electiontransportinglayer，简称etl)、电子注入层(electioninjectionlayer，简称eil)、空穴传输层(holetransportinglayer，简称htl)以及空穴注入层(holeinjectionlayer，简称hil)中的一层或多层。

另外，如图3和图4所示，该像素驱动电路还可以包括电容元件cst，该电容元件cst的第一极和第二极可以位于发光区b，也可以位于透明区c。示例的，驱动晶体管的栅极可以和电容元件cst的第一极电性连接。电源线与驱动晶体管的源极可以和电容元件cst的第二极电性连接，用以传送一电压信号，该多个薄膜晶体管和该电容元件cst共同驱动该发光器件13发光。

其中，当该电容元件cst的第一极和第二极位于透明区c时，该第一极和第二极为整体呈透明的膜层。

在上述基础上，示例性的，继续参见图2，该透明显示面板1还可以包括设置在该驱动晶体管和阳极131之间的钝化层15和平坦层16。钝化层15的材料为无机材料，平坦层16的材料为有机材料。

此外，再示例性的，如图2所示，该透明显示面板1还可以包括位于发光区b的像素界定层17，该像素界定层17包括多个开口区，一个发光器件13设置在一个开口区中。

另外，继续参见图2所示，该透明显示面板1还可以包括封装层18，该封装层18可以为封装薄膜，也可以为封装玻璃。

在上述基础上，为了提高透明的显示效果，可在保证正常显示的情况下，尽可能地使透明区c的面积最大化，或者采用透明度较高的材料。

本发明的一实施例中，如图5、图6、图7和图8所示，设置于透明衬底11上的多层绝缘层(如缓冲层14、层间绝缘层125、钝化层15、平坦层16等绝缘层)中至少一层绝缘层，在每个亚像素p内至少在该透明区c的边缘设有凹陷18。

本领域技术人员明白，多层绝缘层均至少位于透明衬底11的显示区a。示例的，无机材料的绝缘层既位于显示区a，也位于周边区s。有机材料的绝缘层可只位于显示区a。

需要说明的是，该凹陷18可以为贯穿绝缘层的沟槽，也可以在绝缘层上具有一保留厚度，在此不做具体限定。图7以绝缘层在透明区c的边缘设有凹陷18，且该凹陷18为贯穿绝缘层的沟槽为例进行示意。

在每一个亚像素p中，如图5-图8所示，通过至少在透明区c的边缘设置凹陷18，使得至少具有该凹陷18的绝缘层的应力通过凹陷18的分割进行了消减。

如图2所示，在透明显示面板1未设置上述的凹陷的情况下。在将透明显示面板1和盖板进行封装过程中，对该透明显示面板进行吸附时，如图9所示，在两侧支撑轴的支撑作用下，该透明显示面板的中部受到各层绝缘层的拉力较大，从而使得透明显示面板容易发生弯曲而不利于吸附。如图5-图8所示，本发明实施例提供的透明显示面板1，通过在每个亚像素p内至少在透明区c的边缘设置凹陷18，能够去除部分绝缘层材料，从而能够减轻透明显示面板1的重量；另一方面，针对多层绝缘层中至少一层绝缘层，通过至少在透明区c的边缘设置凹陷18，能够将该至少一层绝缘层的应力通过分割进行消减，从而能够减小透明显示面板1的整体应力，防止透明显示面板1在吸附过程中发生弯曲，进而便于封装的顺利进行。

可选的，设置于透明衬底11上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素p内在透明区c的边缘设有凹陷18。通过在透明区c的边缘设置凹陷18，使得至少具有该凹陷18的绝缘层的应力通过凹陷18的分割进行了消减，从而能够减小透明显示面板1的整体应力。

在本发明的实施例中，设置在透明衬底11上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素p内至少在透明区c的边缘设有凹陷18，具有如下几种可能的实现方式。

第一种可能的实现方式中，只有一层绝缘层在透明区c的边缘设置凹陷18。

示例的，多层绝缘层中的缓冲层14、层间绝缘层125、钝化层15和平坦层16中的任意一层，在该透明区c的边缘设有凹陷18。这样一来，具有该凹陷18的绝缘层的应力通过凹陷18的分割进行了消减，从而能够减小透明显示面板的整体应力，便于吸附。

示例的，如图7示出了多层绝缘层中缓冲层14在该透明区c的边缘设有凹陷18的情况。

第二种可能的实现方式中，至少两层绝缘层在透明区c的边缘设置凹陷18。

示例的，该多层绝缘层中缓冲层14、层间绝缘层125、钝化层15和平坦层16中至少两层绝缘层在该透明区c的边缘均设有凹陷18。这样一来，具有该凹陷18的至少两层绝缘层的应力通过凹陷18的分割均进行了消减，与一层绝缘层中的应力被消减相比，能够进一步减小整体应力，便于吸附。

示例的，如图10示出了多层绝缘层中层间绝缘层125和钝化层15在该透明区c的边缘设有凹陷18的情况。

第三种可能的实现方式中，只有一层绝缘层在位于透明区c的位置无覆盖。

示例的，该多层绝缘层中缓冲层14、层间绝缘层125、钝化层15和平坦层16中的任意一层，在位于该透明区c的位置无覆盖。即任意一层绝缘层在位于透明区c的位置被完全刻蚀掉。在此情况下，其上层的绝缘层与其下层的绝缘层直接接触，以层间绝缘层125在位于该透明区c的位置无覆盖为例，如图8示出了多层绝缘层中层间绝缘层125在位于该透明区c的位置无覆盖的情况，此时，其上层的钝化层15和缓冲层14直接接触。可使设置凹陷18的绝缘层能够达到减少其面积的目的，使得绝缘层的应力进行了消减。并能够明显减小整体重量，便于吸附。

其中，需要说明的是，在图8中，由于层间绝缘层125在位于透明区c的位置无覆盖，钝化层15与缓冲层14直接接触，因此，与位于发光区b的位置处的绝缘层相比，位于透明区c的位置处的绝缘层的总厚度减小了，还能够达到增加透过率的技术效果。

还需要说明的是，在实际应用中，每一层绝缘层在发光区b和透明区c的厚度应该是相同的，这样一来，以图8为例，钝化层15在位于透明区c的位置体现在图中应该有凹陷。

而在本发明实施例中，在图8中钝化层15其实是没有凹陷的，因此，以下未设有凹陷的区域均采用上表面为平面的方式进行作图，避免与设有凹陷的区域发生混淆。

示例的，在图8中，为了表示钝化层15未设有凹陷，钝化层15位于透明区c的厚度大于该钝化层15位于发光区b的厚度，但是，本领域技术人员应该明白，钝化层15位于透明区c的厚度与位于发光区b的厚度实际上应该是相同的。

第四种可能的实现方式中，至少两层绝缘层在位于该透明区c的位置均无覆盖。

示例的，该多层绝缘层中缓冲层14、层间绝缘层125、钝化层15和平坦层16中至少两层绝缘层在位于该透明区c的位置均无覆盖。即至少两层绝缘层在位于透明区的位置均被完全刻蚀掉。在此情况下，可使设置凹陷18的绝缘层能够达到减少其面积的目的，使得至少两层绝缘层的应力进行了消减。与一层绝缘层的应力被消减相比，能够进一步减小整体应力和重量，更便于吸附，且能够进一步增大透过率。

示例的，如图11示出了多层绝缘层中层间绝缘层125和钝化层15在位于透明区c的位置均无覆盖的情况。

在以上这四种可能的实现方式中，由于平坦层16起到平坦化的作用，因此，可选的，平坦层16至少覆盖显示区，且厚度均匀设置。

基于此，该至少一层绝缘层选自缓冲层14、层间绝缘层125和钝化层15。

在本发明的一些实施例中，如图11所示，该至少一层绝缘层包括层间绝缘层125和钝化层15，且该层间绝缘层125和钝化层15在位于透明区c的位置均无覆盖。能够尽可能大地减小重量和应力，并能够使过刻部分由缓冲层14阻挡吸收，同时还能够防止外部杂质进入基板内。

在以上层间绝缘层125和钝化层15通过干刻工艺被刻蚀掉时，往往会造成缓冲层14表面的粗糙问题。

基于此，本发明的又一些实施例中，如图11所示，该多层绝缘层中的平坦层16的材质包括sog(silicononglass，玻璃上的硅)材料。sog材料指通过机械或化学方法将硅(单晶、多晶、多孔)与玻璃进行粘合后形成的层合材料。通过设置平坦性较好的sog材料作为平坦层16，能够解决以上缓冲层表面粗糙所带来的问题。

在实际应用中，可以对平坦层16的厚度进行控制，即选择能够起到平坦化作用的最小厚度，能够控制应力，并同时增加透过率。

如该平坦层16的厚度可以为0.15-0.25微米，如0.15微米、0.2微米或0.25微米等。

其中，该平坦层16可以为单层结构，也可以为双层结构，即可以在之前的树脂结构之上增加一层包括sog材料的平坦结构。

本发明的一实施例中，如图11所示，该平坦层16为双层结构，包括第一子平坦层161和设置在该第一子平坦层161远离该透明衬底11一侧的第二子平坦层162；该第一子平坦层161的材质为树脂材料，该第二子平坦层162的材质包括sog材料。

通过增加平坦性较好的sog材料作为第二子平坦层162，能够弥补原有树脂材料作为平坦层容易出现微孔，从而所带来的阳极和阴极短接的问题，同时，通过对第二子平坦层162的厚度进行控制，即选择能够起到平坦化作用的最小厚度，同样能够控制应力，增加透过率。

如该第一子平坦层161和第二子平坦层162的总厚度可以为0.4-0.6微米，如0.4微米、0.45微米、0.5微米、0.55微米或0.6微米等。

本发明的又一实施例中，该层间绝缘层125和钝化层15的厚度之和，与该平坦层16的厚度的差值大于或等于0.8微米。能够最大程度上控制应力，增加透过率。

在本发明的一些实施例中，如图12所示，该亚像素p呈阵列形式排列，该透明显示面板1还包括多条栅线10和数据线20，相对数据线20，栅线10更靠近透明衬底11的情况下，第一种可能的实现方式中，如图12和图13所示，设有该凹陷18的该至少一层绝缘层位于栅线10靠近透明衬底11的一侧，且该栅线10和数据线20在该透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。

示例的，在缓冲层14在透明区c的边缘设置凹陷18，此时，在该凹陷18对应位置处，缓冲层14的厚度可以为0，也可以大于0。

如图13示出了在缓冲层14在透明区c的边缘设有凹陷18，且在该凹陷18对应位置处，缓冲层14的厚度大于0的情况。

由于栅线10和数据线20在透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠，因此，如图12和图13所示，可将该部分栅线10设置在凹陷18内，并将部分数据线20设置在凹陷18对应位置处，能够使数据线20和栅线10在交叉位置处爬坡更容易，并能够有效降低该透明显示面板1底层的段差，有利于后续平坦化的进行。

第二种可能的实现方式中，如图12和图14所示，设有该凹陷18的该至少一层绝缘层位于栅线10远离透明衬底11的一侧，且在该凹陷18对应位置处，该至少一层绝缘层中每层绝缘层的厚度均大于0，栅线10和数据线20在该透明衬底11上的正投影与该凹陷18在该透明衬底11上的正投影重叠。

示例的，在层间绝缘层125和/或钝化层15在透明区c的边缘设置凹陷18，此时，在凹陷18对应位置处，该层间绝缘层125和钝化层15的厚度均大于0。

如图14示出了在层间绝缘层125在透明区c的边缘设有凹陷18的情况，如图15示出了在钝化层15在透明区c的边缘设有凹陷18的情况，如图16示出了在层间绝缘层125和钝化层15在透明区c的边缘设有凹陷18的情况。

由于部分栅线10和数据线20在透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠，且由于层间绝缘层125设置于栅线10的上方，钝化层15设置在数据线的上方，因此，在层间绝缘层125在透明区c的边缘设有凹陷18，与在钝化层15在透明区c的边缘设有凹陷18相比，除了可以有效降低该透明显示面板1底层的段差之外，还可将部分数据线20设置在层间绝缘层125中的凹陷18内，能够使数据线20和栅线10在交叉位置处爬坡更容易。

同时，如图16所示，通过在该层间绝缘层125和钝化层15在透明区c的边缘均设有凹陷18，且在凹陷18对应位置处，该层间绝缘层125和钝化层15的厚度均大于0。还能够使层间绝缘层125和钝化层15起到应有的绝缘和保护作用。

第三种可能的实现方式中，设有该凹陷18的该至少一层绝缘层位于栅线10靠近透明衬底11的一侧，以及位于栅线10远离透明衬底11的一侧，且在该凹陷18对应位置处，设有该凹陷18的该至少一层绝缘层位于栅线10远离透明衬底11的一侧的每层绝缘层的厚度均大于0，栅线10和数据线20在透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。

示例的，如图17所示，在缓冲层14、以及层间绝缘层125和钝化层15在透明区c的边缘均设置该凹陷18，此时，在该凹陷18对应位置处，缓冲层14的厚度可以为0，也可以大于0，层间绝缘层125和钝化层15的厚度均大于0。

由于栅线10和数据线20在透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠，因此，可将该部分栅线10设置缓冲层14的凹陷18内，将部分数据线20设置在层间绝缘层125的凹陷18内，能够使数据线20和栅线10在交叉位置处爬坡更容易，并能够有效降低该透明显示面板1底层的段差，有利于后续平坦化的进行。

同时，由于层间绝缘层125设置于栅线10的上方，钝化层15设置在数据线20的上方，因此，通过在凹陷18对应位置处，使层间绝缘层125和钝化层15的厚度均大于0，还能够使层间绝缘层125和钝化层15起到应有的绝缘和保护作用。

示例的，如图12所示，该栅线10的条数可以为n条，数据线20的条数可以为m条，且栅线10和数据线20交叉设置，其中n和m均为大于或等于2的正整数。

在此情况下，发光区b和透明区c在亚像素p内的位置关系可以有以下几种。

第一种，如图12所示，该发光区b和透明区c在亚像素p内沿数据线20方向上下分布。

第二种，如图18所示，该透明区c和发光区b在亚像素内沿数据线20方向上下分布。

第三种，如图19所示，该发光区b和透明区c在亚像素p内沿栅线10方向左右分布。

第四种，如图20所示，该透明区c和发光区b在亚像素p内沿栅线10方向左右分布。

针对以上四种位置关系，该栅线10和数据线20在该透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠的情况可如下所示：

针对以上第一种位置关系，如图12所示，在n条栅线10中，除第一条栅线10(即与第一行亚像素p连接的栅线，图12中的g1)以外，第i条栅线10(即与第i行亚像素p连接的栅线)在透明衬底11上的正投影与第i-1行亚像素p中的透明区c边缘的凹陷18中，靠近第i行亚像素p的沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。在m条数据线20中，第j条数据线20在透明衬底11上的正投影与第j列亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。i为大于等于2且小于等于n的正整数；j为大于等于1且小于等于m的正整数。

针对以上第二种位置关系，如图18所示，在n条栅线中，除最后一条栅线10(即与最后一行亚像素p连接的栅线，图18中的gn)以外，第i条栅线10(即与第i行亚像素p连接的栅线)在透明衬底11上的正投影与第i+1行亚像素p中的透明区c边缘的凹陷18中，靠近第i行亚像素p的沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。在m条数据线20中，第j条数据线20在透明衬底11上的正投影与第j列亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。i为大于等于1且小于等于n-1的正整数；j为大于等于1且小于等于m的正整数。

针对以上第三种位置关系，如图19所示，在n条栅线中，第i条栅线10在透明衬底11上的正投影与第i行亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠。在m条数据线20中，除第一条数据线20(即与第一列亚像素p连接的数据线，图19中的d1)以外，第j条数据线20(即与第j列亚像素p连接的数据线)在透明衬底11上的正投影与第j-1列亚像素p中的透明区c边缘的凹陷18中，靠近第j列亚像素p的沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠；i为大于等于1且小于等于n的正整数；j为大于等于2且小于等于m的正整数。

针对以上第四种位置关系，如图20所示，在n条栅线中，第i条栅线10在透明衬底11上的正投影与第i行亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠。在m条数据线中，除最后一条数据线20(即与最后一列亚像素p连接的数据线，图20中的dn)以外，第j条数据线20(即与第j列亚像素p连接的数据线)在透明衬底11上的正投影与第j+1列亚像素p中的透明区c边缘的凹陷18中，靠近第j列亚像素p的沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于1且小于等于n的正整数；j为大于等于1且小于等于m-1的正整数。

在以上这几种设置方式中，如图13所示，将全部或者大部分栅线10设置于缓冲层14的凹陷18内，与如图21所示，栅线10设置在未设有凹陷18的缓冲层14上相比，本发明将全部或者大部分栅线10设置于缓冲层14的凹陷18内，能够使数据线20和栅线10在交叉位置处爬坡更容易；如图14和图16所示，将全部或者大部分数据线设置于层间绝缘层125的凹陷18内，与如图21所示，数据线设置在未设有凹陷18的层间绝缘层125上相比，本发明将全部或者大部分数据线20设置于层间绝缘层125的凹陷18内，能够使数据线20和栅线10在交叉位置处爬坡更容易；如图17所示，将全部或者大部分栅线设置于缓冲层14的凹陷18内，并将全部或者大部分数据线设置于层间绝缘层125的凹陷18内，与如图21所示，将栅线10设置在未设有凹陷18的缓冲层14上，以及将数据线20设置在未设有凹陷18的层间绝缘层125上相比，能够使数据线20和栅线10在交叉位置处爬坡更容易。另外，以上这几种设置方式中，通过在栅线10和数据线20对应位置处设置凹陷18，均能够有效降低该透明显示面板1底层的段差，有利于后续平坦化的进行。

当然，在本发明的另一些实施例中，该发光区b和透明区c在亚像素p内还可以沿对角方向分布。如图22示出了发光区b和透明区c在亚像素p内沿对角方向分布的一种示例，相应地，通过将部分栅线10合理设置于相应的凹陷18内，同样也能够达到有利于数据线20爬坡，并有效降低该透明显示面板1底层的段差的技术效果，在此不再赘述。

本发明的实施例提供一种透明显示面板的制备方法，如图5和图6所示，包括：

在透明衬底上划分出显示区a，在显示区a形成多个亚像素p，每个亚像素p均包括发光区b和透明区c，设置于透明衬底上的多层绝缘层中的至少一层绝缘层，在每个亚像素内至少在该透明区c的边缘设有凹陷18。

这里，以该多层绝缘层包括缓冲层14、层间绝缘层125、钝化层15和平坦层16，该至少一层绝缘层选自缓冲层14、层间绝缘层125和钝化层15为例，对该透明显示面板1的制备方法进行详细说明。

实施例一

步骤1)在透明衬底11上通过溅射或者沉积形成缓冲层14，通过曝光、刻蚀工艺在该缓冲层14在透明区c的边缘形成凹陷18。具有该凹陷18的绝缘层的应力通过凹陷18的分割进行了消减，进而便于吸附。

步骤2)在透明衬底11上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管12、钝化层15、平坦层16，并在平坦层16上形成发光器件13，得到如图7所示的结构。

实施例二

步骤1)与实施例一中的步骤1)完全相同。

不同的是，在步骤2)中，针对多个亚像素p呈阵列形式排列，且在该透明衬底11上形成n条沿亚像素p的行方向延伸的栅线10和m条沿亚像素p的列方向延伸的数据线20，栅线10和数据线20交叉设置，其中n和m均为大于或等于2的正整数的情况，在通过构图工艺形成薄膜晶体管12中的层间绝缘层125和钝化层15时，在层间绝缘层125和钝化层15中的至少一层中在每个亚像素内在透明区c的边缘形成凹陷18，且在凹陷18对应位置处，该层间绝缘层125和钝化层15的厚度均大于0，具有以下几种可能的实现方式。

第一种可能的实现方式中，如图12所示，该发光区b和该透明区c在亚像素p内沿数据线20方向上下分布，在n条栅线10中，除第一条栅线10(即与第一行亚像素p连接的栅线，图12中的g1)以外，第i条栅线10(即与第i行亚像素p连接的栅线)在透明衬底上的正投影与第i-1行亚像素p中的透明区c的边缘的凹陷18中，靠近第i行亚像素p的沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠，每一条数据线20在透明衬底上的正投影与每一列亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于2且小于等于n的正整数。

第二种可能的实现方式中，如图18所示，该透明区c和发光区b在亚像素p内沿数据线20方向上下分布，在n条栅线10中，除最后一条栅线10(即与最后一行亚像素p连接的栅线，图18中的gn)以外，第i条栅线10(即与第i行亚像素p连接的栅线)在透明衬底上的正投影与第i+1行亚像素中的透明区的边缘的凹陷18中，靠近第i行亚像素p的沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠，每一条数据线20在透明衬底上的正投影与每一列亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于1且小于等于n-1的正整数。

第三种可能的实现方式中，如图19所示，该发光区b和透明区c在亚像素p内沿栅线10方向左右分布，每一条栅线10在透明衬底上的正投影与每一行亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠，在m条数据线20中，除第一条数据线20(即与第一列亚像素p连接的数据线，图19中的d1)以外，第i条数据线20(即与第i列亚像素p连接的数据线)在透明衬底上的正投影与第i-1列亚像素中的透明区c边缘的凹陷18中，靠近第i列亚像素p的沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于2且小于等于m的正整数。

第四种可能的实现方式中，如图20所示，该透明区c和发光区b在亚像素p内沿栅线10方向左右分布，每一条栅线10在透明衬底上的正投影与每一行亚像素p中透明区c边缘的凹陷18中沿行方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠，在m条数据线20中，除最后一条数据线20(即与最后一列亚像素p连接的数据线，图20中的dn)以外，第i条数据线20(即与第i列亚像素p连接的数据线)在透明衬底上的正投影与第i+1列亚像素p中的透明区c边缘的凹陷18中，靠近第i列亚像素p的沿列方向延伸的凹陷18在透明衬底上的正投影重叠；i为大于等于1且小于等于m-1的正整数。

在这四种可能的实现方式中，通过设置凹陷18，均能够减小底部段差，有利于后续平坦化工艺的进行。凹陷18仅设置在层间绝缘层125中或者该凹陷18设置在层间绝缘层125和钝化层15中时，在通过构图工艺形成数据线20以及源漏极时，可将全部数据线20或者大部分数据线20设置在层间绝缘层125中的凹陷18内，与凹陷18仅设置在钝化层15中相比，有利于数据线20爬坡。

实施例三

步骤1)与实施例一中的步骤1)可以完全相同，也可以不在缓冲层14在透明区c位于周边的位置形成凹陷18。

步骤2)中，在透明衬底11上通过构图工艺形成薄膜晶体管12中的层间绝缘层125时，还可以包括在该层间绝缘层125在透明区c的边缘形成凹陷18。和/或，在通过构图工艺形成钝化层15时，还可以包括在该钝化层15在透明区c的边缘形成凹陷18。

其中，由于层间绝缘层125位于栅线10的上方，钝化层15位于数据线20的上方，因此，为了使层间绝缘层125和钝化层15能够起到应有的绝缘和保护作用，可选的，可以采用半色调掩膜技术形成层间绝缘层125和钝化层15，以在该层间绝缘层125在该透明区c的边缘形成凹陷18，且在该凹陷18对应位置处，使该层间绝缘层125和该钝化层15的厚度均大于0，而过孔部分完全刻蚀掉，获得如图10所示的结构。

实施例四

步骤1)与实施例一中的步骤1)可以完全相同，也可以如图8所示，不在缓冲层14在透明区c的边缘形成凹陷18。

步骤2)中，如图8所示，在透明衬底11上通过构图工艺形成薄膜晶体管12中的层间绝缘层125时，还可以包括将该层间绝缘层125位于透明区c的位置完全刻蚀掉。和/或，如图11所示，在通过构图工艺形成钝化层15时，还可以包括将该钝化层15在位于透明区c的位置完全刻蚀掉。

实施例五

在实施例四的基础上，如图11所示，在该层间绝缘层125和钝化层15位于透明区c的位置完全刻蚀掉的情况下，在透明衬底11上形成平坦层16时，还可以包括在原有的第一子平坦层161的基础上，形成第二子平坦层162。其中第一子平坦层161的材质为树脂材质，该第二子平坦层162包括sog材料。由于树脂材料作为平坦层时，通常会有一些微孔缺陷，从而会造成阳极和阴极短接，通过增加平坦性较好的sog材料作为平坦层，能够防止以上不良。

本发明的实施例提供一种显示装置，包括如上所述的透明显示面板1。

本发明实施例提供的显示装置的有益效果与上述技术方案提供的透明显示面板的有益效果相同，在此不再赘述。

可选的，如图23所示，该显示装置还包括盖板2，该盖板2包括彩色滤光层21和黑矩阵22；该黑矩阵22包括遮光条和由遮光条围成的多个网格，该遮光条设置于与该透明显示面板的发光区b的边缘对应的区域，每个该彩色滤光层设置于一个该网格内。

彩色滤光层21包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案三种基色的滤光图案。其中，每个第一基色滤光图案、每个第二基色滤光图案、每个第三基色滤光图案分别位于一个亚像素p中。

通过在盖板2上形成彩色滤光层21和黑矩阵22，可使该透明显示面板用于大尺寸的显示器。

其中，该遮光条的宽度可以根据实际情况进行灵活调节，以起到遮光作用。

示例的，在以上设置于所述透明衬底11上的多层绝缘层中的所述至少一层绝缘层，在每个亚像素p内在透明区c的边缘设有凹陷18，且栅线10和数据线20在透明衬底上的正投影与凹陷18在透明衬底11上的正投影重叠的情况下，可以适当增大遮光条的宽度，使得该遮光条在透明衬底11上的正投影与该凹陷18在透明衬底11上的正投影相交叠。

可选的，如图24所示，该盖板2还包括辅助阴极23，辅助阴极23与透明显示面板1上的透明阴极133电连接。在此基础上，辅助阴极23在透明衬底11上的正投影被黑矩阵22在透明衬底11上的正投影覆盖，这样可避免降低开口率。

辅助阴极23的材料为金属材料。辅助阴极23的形状可与黑矩阵2相同，即，辅助阴极23的形状为网格形状。

通过在盖板2上设置辅助阴极23，并使辅助阴极23与透明显示面板1上的透明阴极133电连接，可降低透明阴极133上的电压压降。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。