显示面板的制作方法

文档序号:8473744阅读:183来源:国知局
显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本揭露是有关于一种显示面板。
【背景技术】
[0002]为适应移动装置面板的发展趋势,目前显示面板的解析度(Resolut1n)和像素密度(Pixels per inch ;PPI)都愈来愈高。由于像素密度愈来愈高,导致每个子像素(Subpixel)的尺寸愈来愈小。然而子像素中主动元件的尺寸无法适应子像素缩小而微缩的情况之下,会导致子像素中的透光区域下降,进而使得面板的开口率(Aperture rat1 ;AR)下降,而开口率下降会导致面板的穿透率下降,进而严重影响显示器的亮度。
[0003]在降低面板开口率的因素中,其中一个具有代表性的因素就是黑色矩阵圆角(Black matrix rounding ;BM rounding)对面板开口率所带来的冲击。在黑色矩阵的显影及蚀刻工艺(Photolithography process)时,由于光学绕射和工艺限制,会导致黑色矩阵于图案化后在开口区域的角落无法形成直角,而会在开口区域的角落形成圆角区域(Rounding area)。当有圆角区域形成时,会降低开口率。当像素密度提高时,黑色矩阵圆角区域占开口区域的比例会愈来愈高,进而降低面板开口率。
[0004]先前技术解决圆角区域的方式,是利用光罩及曝光补偿的方式来降低圆角区域的影响,通过光学模拟来决定补偿的范围和程度。然而此种解决方式常因黑色矩阵材料与工艺的限制,使得光学模拟的结果与实际产品有相当大的差异,因此需要通过不断的模拟及试验,以确认符合产品设计的规格。这个过程需要耗费大量的成本及时间。因此,如何有效的降低成本及时间,实为一重要的课题。

【发明内容】

[0005]本发明的一方面是在于提供一种显示面板,用以改善以上先前技术所提到的问题。
[0006]根据本发明一或多个实施方式,一种显示面板包括主动元件阵列基板、子像素、黑色矩阵图案、遮光金属层、对向基板与显示介质。子像素设置于主动元件阵列基板上。子像素包括切换元件与像素电极。像素电极电性连接切换元件。黑色矩阵图案包括本体部以及岛部,并具有多个开口区域,本体部部分围绕开口区域,本体部与岛部之间具有断开区域,开口区域与像素电极至少部分相对应。遮光金属层在主动元件阵列基板上的正投影,与断开区域在主动元件阵列基板上的正投影至少部分重叠。对向基板相对主动元件阵列基板设置。显示介质设置于主动元件阵列基板与对向基板之间。
[0007]在本发明的一或多个实施方式中,上述的黑色矩阵图案设置于对向基板。
[0008]在本发明的一或多个实施方式中,上述的黑色矩阵图案设置于主动元件阵列基板。
[0009]在本发明的一或多个实施方式中,上述的遮光金属层电性连接切换元件,作为数据线用。
[0010]在本发明的一或多个实施方式中,上述的显示面板还包括数据线,此数据线电性连接切换元件。上述的遮光金属层与数据线至少部分重叠。
[0011 ] 在本发明的一或多个实施方式中,上述的遮光金属层为浮动电位。
[0012]在本发明的一或多个实施方式中,上述的断开区域的数量为多个,且遮光金属层一并与断开区域重叠。
[0013]在本发明的一或多个实施方式中,上述的断开区域的数量为多个。上述的遮光金属层的数量亦为多个。遮光金属层分别与断开区域重叠。
[0014]在本发明的一或多个实施方式中,上述的本体部至少与切换元件重叠。上述的岛部至少与数据线重叠。
[0015]在本发明的一或多个实施方式中,上述的遮光金属层的宽度大于或等于岛部的宽度。
[0016]根据本发明一或多个实施方式,一种显示面板包括主动元件阵列基板、多个子像素、黑色矩阵图案、遮光金属层、对向基板与显示介质。子像素设置于主动元件阵列基板上。每一子像素均包括切换元件与像素电极。像素电极电性连接切换元件。黑色矩阵图案具有多个开口区域。开口区域分别与像素电极至少部分相对应,且任两相邻的开口区域之间具有至少一连通区域以连通两者。遮光金属层在主动元件阵列基板上的正投影,与连通区域在主动元件阵列基板上的正投影至少部分重叠。对向基板相对主动元件阵列基板设置。显示介质设置于主动元件阵列基板与对向基板之间。
[0017]在本发明的一或多个实施方式中,上述的黑色矩阵图案设置于对向基板。
[0018]在本发明的一或多个实施方式中,上述的黑色矩阵图案设置于主动元件阵列基板。
[0019]在本发明的一或多个实施方式中,上述的遮光金属层电性连接多个切换元件其中至少之一,作为数据线用。
[0020]在本发明的一或多个实施方式中,上述的显示面板还包括数据线,此数据线电性连接多个切换元件其中至少之一。上述的遮光金属层与数据线至少部分重叠。
[0021]在本发明的一或多个实施方式中,上述的遮光金属层为浮动电位。
[0022]在本发明的一或多个实施方式中,两相邻的开口区域之间的连通区域的数量为多个,且遮光金属层一并与连通区域重叠。
[0023]在本发明的一或多个实施方式中,两相邻的开口区域之间的连通区域的数量为多个。遮光金属层的数量也为多个。遮光金属层分别与连通区域重叠。
[0024]在本发明的一或多个实施方式中,上述的黑色矩阵图案包括本体部与岛部。本体部至少与切换元件重叠。岛部与本体部分开,使得本体部与岛部之间存在连通区域。
[0025]在本发明的一或多个实施方式中,上述的遮光金属层的宽度大于或等于岛部的宽度。
[0026]本发明将黑色矩阵图案断开为本体部与岛部。由于黑色矩阵图案被断开为本体部与岛部,因此在工艺中,黑色矩阵图案可以被过度曝光(over dosing)或过度蚀刻(overetching),让后续黑色矩阵图案的圆角区域可大幅减少,并让开口区域的面积增加,进而提升显不面板的开口率。
【附图说明】
[0027]图1绘示依照本发明一实施方式的显示面板的局部俯视图。
[0028]图2绘示沿图1的线段2-2的剖面图。
[0029]图3绘示依照本发明另一实施方式的显示面板的剖面图,其剖面位置与图2相同。
[0030]图4绘示依照本发明另一实施方式的显示面板的局部俯视图。
[0031]图5绘示沿图4的线段5-5的剖面图。
[0032]图6绘示依照本发明另一实施方式的显示面板的剖面图,其剖面位置与图5相同。
[0033]图7绘示依照本发明另一实施方式的显示面板的局部俯视图。
[0034]图8绘示沿图7的线段8-8的剖面图。
[0035]图9绘示依照本发明另一实施方式的显示面板的剖面图,其剖面位置与图8相同。
[0036]其中,附图标记说明如下:
[0037]2-2:线段
[0038]5-5:线段
[0039]8-8:线段
[0040]100:显示面板
[0041]110:主动元件阵列基板
[0042]120:子像素
[0043]122:切换元件
[0044]124:像素电极
[0045]126:扫描线
[0046]128:数据线
[0047]130:黑色矩阵图案
[0048]132:本体部
[0049]134:岛部
[0050]140:对向基板
[0051]150:显示介质
[0052]160:保护层
[0053]170:彩色光阻
[0054]180:共同电极
[0055]190:遮光金属层
[0056]C:通道层
[0057]D:漏极
[0058]G:栅极
[0059]G1:栅介电层
[0060]Il:正投影
[0061]12:正投影
[0062]L:断开区域
[0063]LD:双箭头
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