一种陶瓷饰品制作工艺方法与流程

文档序号:14538785阅读:4693来源:国知局
一种陶瓷饰品制作工艺方法与流程

本发明涉及陶瓷工艺技术领域,尤其涉及一种陶瓷饰品制作工艺方法。



背景技术:

随着社会的高速发展,人民生活水平的提高,各种各样的饰品的到了广大人民的喜爱,现代陶瓷首饰造型设计有独立的视觉艺术语言,具有自成体系的造型方法和特殊的表现形式。由于陶瓷材料的特殊性,陶瓷首饰的造型设计主要是面和体块的设计,陶瓷首饰的造型设计主要包括陶瓷首饰的块体组合设计、陶瓷首饰面的变化、陶瓷首饰的边线设计、陶瓷首饰表面装饰的设计等几方面,我国陶瓷制品源远流长,现有的传统陶瓷首主要为两类,一类是有色珠串,通过运用不同颜色的釉彩进行创作和搭配;另一类是绘画瓷片,通过在平滑的瓷面上用不同的釉彩和图案进行创作,例如青花瓷片,这两类都是在平整的泥坯上通过色彩构成不同的图案或是花纹。

然而目前陶瓷饰品的形态比较单一,创作空间受限,无法实现立体感,对于某些图案无法有效的进行表现,存在重大的缺陷,另在烧制方法上,目前所采用的一种方法为平烧,这导致了底面不能上釉,粗糙的质地将导致佩戴时皮肤不舒适,且限制了陶瓷的美观度和精致度,显得廉价;另一种方法为挂烧,即在泥坯上预留小孔或吊耳等形状,用高温钨丝穿过该形状将泥坯吊挂起来,再放入窑中进行烧制,吊烧能够实现双面上釉,但因为泥坯烧制过程中会有收缩变形,因此吊烧尺寸形状控制会有难度,此外由于通常用来起到悬挂作用的钨丝在高温时会有变形,承重力有限,因此无法烧制尺寸较大的陶瓷,而且烧制过程中釉质融化会往下滴淌,导致釉色不均,另外容易破损成品率也较低。

因此,有必要提供一种新的陶瓷饰品制作工艺方法解决上述技术问题。



技术实现要素:

本发明解决的技术问题是提供一种成品率高的陶瓷饰品制作工艺方法。

为解决上述技术问题,本发明提供的一种陶瓷饰品制作工艺方法,包括以下步骤:

s1、预制陶瓷饰品坯体:通过成型技术将设计的图案和造型立体地表达在坯体上;

s2、制模:将步骤s1预制的陶瓷饰品坯体以正反面的中间位置作为分模面,将图案导出到正反两片石膏模上;

s3、制坯:包括灌浆、压坯和开模;

s4、阴干:将s3取出的泥坯背阴放置2~3天;

s5、修坯:在阴干过程中,对泥坯有缺陷的地方通过补泥或者用雕刻工具修整形状,使其纹路清晰;

s6、素烧:将制好的泥坯放置温度为600~800°的燃烧炉中烧制7~8h;

s7、上釉:取出s6素烧坯进行吹釉,正面吹釉5~7次,反面吹釉3~5次;

s8、擦底:将反面花纹凸出的底面的釉质擦除;

s9、放琉璃:对于部分需要制作冰裂效果的产品,将琉璃碎成米粒大小的颗粒,放置于一定位置;

s10、高温烧:将素烧坯正面朝上、反面朝下放置于硼板之上,然后在温度为1200~1380°下高温烧制18~22h;

s11、磨底:取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品。

所述s3中的制坯包括以下步骤:

灌浆、将陶瓷专用泥浆灌注于s2中的石膏模当中;

压坯、将陶泥分别填充于两片石膏模中,并合模压紧;

开模、将步骤2)压坯成型之后的泥坯取出。

在本发明提供的陶瓷饰品制作工艺方法的较佳实施例中,所述s1中的成型技术采用雕刻、机床铣削、3d打印或其他成型方法。

在本发明提供的陶瓷饰品制作工艺方法的较佳实施例中,所述陶瓷饰品正面为平整形状或者凸出花纹中的一种。

与相关技术相比较,本发明提供的陶瓷饰品制作工艺方法具有如下有益效果:

1、本发明提供一种陶瓷饰品制作工艺方法,本发明提供的陶瓷饰品制作工艺方法能够实现双面花纹,双面上釉,能够解决陶瓷烧制普通烧制方式无法支撑尺寸大、重量重制品的弊端;

2、素烧的使用解决了双面上釉、陶瓷变形、釉质不均、成平率低等问题;

3、通过本发明制作的瓷品,作为首饰可双面佩戴,具有很高的美观度和佩戴舒适度,通过所设计的特殊形状,预制陶瓷饰品坯体、开模、制坯、阴干、修坯、素烧、上釉、擦底、放琉璃、高温烧及磨底等工艺,制成具有双面立体图案、双面挂釉的陶瓷饰品,具有极高的美观度和精致度,具有良好的社会效益和经济效益,适合推广使用。

附图说明

图1为本发明提供的陶瓷饰品制作工艺方法的流程图;

图2为采用本发明制作的一种陶瓷饰品的正视图;

图3为采用本发明制作的一种陶瓷饰品的剖视图;

图4为采用本发明制作的一种陶瓷饰品的结构示意图;

图5为采用本发明制作的一种陶瓷饰品放置在硼板上结构示意图。

图中标号:1、固定孔,2、陶瓷饰品正面,3、陶瓷饰品反面,4、硼板。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。

请结合参阅图1、图2、图3、图4及图5,其中,图1为本发明提供的陶瓷饰品制作工艺方法的流程图;图2为采用本发明制作的一种陶瓷饰品的正视图;图3为采用本发明制作的一种陶瓷饰品的剖视图;图4为采用本发明制作的一种陶瓷饰品的结构示意图;图5为采用本发明制作的一种陶瓷饰品放置在硼板上结构示意图。本发明提供的一种陶瓷饰品制作工艺方法,包括以下步骤:

s1、预制陶瓷饰品坯体:通过成型技术将设计的图案和造型立体地表达在坯体上;

s2、制模:将步骤s1预制的陶瓷饰品坯体以正反面的中间位置作为分模面,将图案导出到正反两片石膏模上;

s3、制坯:包括灌浆、压坯和开模;

s4、阴干:将s3取出的泥坯背阴放置2~3天;

s5、修坯:在阴干过程中,对泥坯有缺陷的地方通过补泥或者用雕刻工具修整形状,使其纹路清晰;

s6、素烧:将制好的泥坯放置温度为600~800°的燃烧炉中烧制7~8h;

s7、上釉:取出s6素烧坯进行吹釉,正面吹釉5~7次,反面吹釉3~5次;

s8、擦底:将反面花纹凸出的底面的釉质擦除;

s9、放琉璃:对于部分需要制作冰裂效果的产品,将琉璃碎成米粒大小的颗粒,放置于一定位置;

s10、高温烧:将素烧坯正面朝上、反面朝下放置于硼板5之上,然后在温度为1200~1380°下高温烧制18~22h;

s11、磨底:取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品。

其中,所述s1中的成型技术采用雕刻、机床铣削、3d打印或其他成型方法。所述陶瓷饰品正面为平整形状或者凸出花纹中的一种。

实施例一:

当应用于制作正面为平整形状、反面为凸出花纹的陶瓷饰品时,选取反面字样为“陶妃反面”的,均经过素烧,首先通过雕刻与机床铣削结合将设计的图案和造型立体地表达在坯体上预制成陶瓷饰品坯体,制作100个泥坯,基于前序坯体制作双面模具,双面模具以正反面的中间位置的作为分模面,将图案导出到正反两片石膏模上,通过将注浆、压坯、以及其他制坯方式制成泥坯;将陶瓷胚料背阴放置2~3天;然后对于有缺陷的地方进行修补,在修坯时,对于有缺陷的地方通过补泥或者用雕刻工具修整形状,使其纹路清晰再将修补后的坯料,在温度为600°的燃烧炉中烧制7小时,取出素烧坯进行吹釉,在陶瓷饰品正面与陶瓷制品反面吹釉,在上釉过程中正面吹釉5次,反面吹釉3次,将反面花纹凸出的底面的釉质擦除,将琉璃碎成米粒大小的颗粒,放置于部分需要制作冰裂效果的产品,将素烧坯正面朝上、反面朝下放置于硼板4之上,然后进行高温烧制,高温烧制的温度为1200°,高温烧制的时间为18小时;最后取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品,检测成品率为97%。

实施例二:

与实施例一区别在于素烧温度为800°,时间为8小时;高温烧温度为1380°,时间为22小时;最后取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品,检测成品率为98%。

实施例三:

与实施例一区别在于素烧温度为750°,时间为7.5小时;高温烧温度为1300°,时间为20小时;最后取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品,检测成品率为99%。

实施例四:

当应用于制作正面为凸出花纹、反面为凸出花纹的陶瓷饰品时,选取反面字样为“陶妃正面、陶妃反面”的,不经过素烧,首先通过雕刻与机床铣削结合将设计的图案和造型立体地表达在坯体上预制成陶瓷饰品坯体,制作100个泥坯,基于前序坯体制作双面模具,双面模具以正反面的中间位置的作为分模面,将图案导出到正反两片石膏模上,通过将注浆、压坯、以及其他制坯方式制成泥坯;将陶瓷胚料背阴放置2~3天;然后对于有缺陷的地方进行修补,在修坯时,对于有缺陷的地方通过补泥或者用雕刻工具修整形状,使其纹路清晰再将修补后的坯料,进行吹釉,在陶瓷饰品正面与陶瓷制品反面吹釉,在上釉过程中正面吹釉5次,反面吹釉3次,将反面花纹凸出的底面的釉质擦除,将琉璃碎成米粒大小的颗粒,放置于部分需要制作冰裂效果的产品,将素烧坯正面朝上、反面朝下放置于硼板4之上,然后进行高温烧制,高温烧制的温度为1200°,高温烧制的时间为18小时;最后取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品,检测成品率为93%。

实施例五:

与实施例四区别在于高温烧温度为1380°,时间为22小时;最后取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品,检测成品率为93%。

实施例六:

与实施例四区别在于高温烧温度为1300°,时间为20小时;最后取出成瓷,将未上釉及有毛刺之处进行打磨,制成成品,检测成品率为94%。

该种陶瓷饰品包括陶瓷饰品正面2、陶瓷饰品反面3和硼板4,以及设置在陶瓷饰品正面2、陶瓷饰品反面3上面的固定孔1。

经过实施例一、实施例二、实施例三、实施例四、实施例五和实施例六可以看出,通过本发明中的加工工艺方法可以防止陶瓷饰品高温烧制变形,解决上釉不均问题,大大提高了成品率,同时减小了制作时间,提高了生产效率,且制作的陶瓷饰品具有双面可佩带的优点。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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