：锡=95 : 5(摩尔比）），利用DC磁控溅镀（条件：基材的温 度为250°C、氩气压为0. 13Pa、氧气压为O.OlPa)而形成厚度为40nm的IT0薄膜，获得形成 有透明电极层的前面板（前面板A)。IT0薄膜的表面电阻为80 0/口。
[0500] <蚀刻用转印膜E1的制备>
[0501] 在比较例5的转印材料的制备中，将黑色着色液1替换为包含下述配方E1的蚀刻 用光硬化性树脂层用涂布液，未使用白色着色液1，除此以外与所述比较例5的转印材料的 制备同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层（隔氧膜）、蚀刻用光硬化性树 脂层及保护膜成为一体的蚀刻用转印膜E1。蚀刻用光硬化性树脂层的膜厚为2. 0ym。
[0502](蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液：配方El)
[0503] ?甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物
[0504](共聚物组成（质量％ ) :31/40/29、质量平均分子量为60000、
[0505]酸值为 163mgK0H/g) :16 质量份
[0506] ?单体1 (商品名：BPE_500、新中村化学工业股份有限公司制造）：5. 6质量份
[0507] ?六亚甲基二异氰酸酯的四环氧乙烷单
[0508] 甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物：7质量份
[0509] ?在分子中具有1个聚合性基的化合物的环己烷二
[0510] 甲醇单丙烯酸酯：2. 8质量份
[0511] ? 2-氯-N- 丁基吖啶酮：0. 42质量份
[0512] ? 2, 2-双（邻氯苯基）-4,4'，5, 5'-四苯基
[0513] 联咪唑：2. 17质量份
[0514] ?隐色结晶紫：0. 26质量份
[0515] ?吩噻嗪：0? 013质量份
[0516] ?表面活性剂（商品名：美佳法（Megafac)F-780F、大日本油墨股份有限公司制造） :〇. 03质量份
[0517] ?甲基乙基酮：40质量份
[0518] ? 1-甲氧基-2-丙醇：20质量份
[0519] <第一透明电极图案的形成>
[0520] 对上述前面板A进行清洗，层压除去了保护膜的蚀刻用转印膜E1 (基材温度： 130°C、橡胶辊温度为120°C、线压为lOON/cm、搬送速度为2. 2m/min)。将临时支撑体剥离 后，将曝光掩模（具有透明电极图案的石英曝光掩模）面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之 间的距离设定为200ym，以50mJ/cm2(i射线）的曝光量进行图案曝光。
[0521] 其次，使用三乙醇胺系显影液（含有三乙醇胺30质量％、利用纯水将商品名： T-PD2 (富士胶片股份有限公司制造）稀释10倍而成的液体）而在25°C下进行100秒处理， 使用含有表面活性剂的清洗液（利用纯水将商品名：T_SD3(富士胶片股份有限公司制造） 稀释10倍而成的液体）而在33°C下进行20秒的处理，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行热 塑性树脂层与中间层的残渣除去。继而，进行130°C、30分钟的后烘烤处理，获得形成有白 色层、遮光层、透明电极层、及蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板（前面板B)。
[0522] 将前面板B浸渍于放入有IT0蚀刻剂（盐酸、氯化钾水溶液。液温为30°C)的蚀 刻槽中，进行100秒的处理，将未被蚀刻用光硬化性树脂层覆盖的所露出的区域的透明电 极层溶解除去。如上所述而获得带有白色层、遮光层及蚀刻用光硬化性树脂层图案的带有 透明电极层图案的前面板（前面板C)。
[0523] 其次，将前面板C浸渍于放入有抗蚀剂剥离液（N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、 表面活性剂（商品名：萨非诺尔（Surfynol)465、空气产品公司（AirProducts)制造）液 温为45°C)的抗蚀剂剥离槽中，进行200秒的处理，将蚀刻用光硬化性树脂层除去。如上所 述而获得形成有白色层、遮光层、横跨前面板的非接触面及遮光层的非接触面侧的面的双 方区域而设置的第一透明电极图案（参照图1A)的前面板（前面板D)。
[0524]《绝缘层的形成》
[0525] <绝缘层形成用转印膜W1的制备>
[0526] 在比较例5的转印材料的制备中，将黑色着色液1替换为包含下述配方W1的绝缘 层形成用涂布液，未使用白色着色液1，除此以外与所述比较例5同样地进行而获得临时支 撑体、热塑性树脂层、中间层（隔氧膜）、绝缘层用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的绝 缘层形成用转印膜W1。绝缘层用光硬化性树脂层的膜厚为1.4ym。
[0527](绝缘层形成用涂布液：配方W1)
[0528] ?粘合剂3(甲基丙烯酸环己酯（a)/甲基丙烯酸甲酯（b)/甲基丙烯酸共聚物（c) 的甲基丙烯酸缩水甘油酯加成物（d)(组成（质量％ ) :a/b/c/d= 46/1/10/43、质量平均 分子量：36000、酸值为66mgK0H/g)的1-甲氧基-2-丙醇、甲基乙基酮溶液（固体成分： 45%)) :12.5 质量份
[0529] *0?撤（二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化药股份有限公司制造）的丙二醇单甲醚乙 酸酯溶液（76质量％ ) :1. 4质量份
[0530] ?氨基甲酸酯系单体（商品名：NK欧力高（NK01igo)UA_32P、新中村化学股份有 限公司制造；不挥发成分为75%、丙二醇单甲醚乙酸酯：25% ):0. 68质量份
[0531] ?三季戊四醇八丙烯酸酯（商品名：V#802、大阪有机化学工业股份有限公司制造） :1. 8质量份
[0532] ?二乙基噻吨酮：0. 17质量份
[0533] *2_(二甲基氨基）-2_[(4_甲基苯基）甲基]-1-[4-(4_吗啉基）苯基]-1-丁酮 (商品名：艳佳固（Irgacure)379、巴斯夫制造）：0.17质量份
[0534] ?分散剂（商品名：素司潘斯（Solsperse) 20000、阿维西亚（Avecia)制造）：0?19 质量份
[0535] ?表面活性剂（商品名：美佳法（Megafac)F-780F、大日本油墨制造）：0?05质量份
[0536] ?甲基乙基酮：23. 3质量份
[0537] ?MMPGAc(大赛璐化学股份有限公司制造）：59. 8质量份
[0538] 另外，绝缘层形成用涂布液W1的除去溶剂后的100°C的粘度为4000Pa?sec。
[0539] 对前面板D进行清洗，层压除去了保护膜的绝缘层形成用转印膜W1 (基材温度： l〇〇°C、橡胶辊温度为120°C、线压为lOON/cm、搬送速度为2. 3m/min)。将临时支撑体剥离 后，将曝光掩模（具有绝缘层用图案的石英曝光掩模）面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之 间的距离设定为100yrn，以30mJ/cm2(i射线）的曝光量进行图案曝光。
[0540] 其次，使用三乙醇胺系显影液（含有三乙醇胺30质量％、利用纯水将商品名： T-PD2(富士胶片股份有限公司制造）稀释10倍而成的液体）而在33°C下进行60秒的处 理，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液（利用纯水将商品名：T_CD1(富士胶片股份有限公司 制造）稀释5倍而成的液体）而在25°C下进行50秒的处理，使用含有表面活性剂的清洗 液（利用纯水将商品名：T-SD3(富士胶片股份有限公司制造）稀释10倍而成的液体）而在 33°C下进行20秒的处理，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去。其次，进行230°C、60 分钟的后烘烤处理，获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案及绝缘层图案的前面板 (前面板E)。
[0541]《第二透明电极图案的形成》
[0542] <透明电极层的形成>
[0543] 与第一透明电极图案的形成同样地进行，对前面板E进行DC磁控溅镀处理（条 件：基材的温度为50°C、氩气压为0. 13Pa、氧气压为0.OlPa)而形成厚度为80nm的IT0 薄膜，获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案及透明电极层的前面板 (前面板F)。IT0薄膜的表面电阻为110Q/口。
[0544] 与第一透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用转印膜E1而获得形成有白 色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、透明电极层及蚀刻用光硬化性树脂层图案 的前面板（前面板G)。在130°C下进行30分钟的后烘烤处理。
[0545] 进一步与第一透明电极图案的形成同样地进行，进行蚀刻（30°C、50秒）而将蚀刻 用光硬化性树脂层除去（45°C、200秒）。如上所述地进行而获得形成有白色层、遮光层、第 一透明电极图案、绝缘层图案、横跨前面板的非接触面及遮光层的非接触面侧的面的双方 区域而设置的第二透明电极图案（参照图1A)的前面板（前面板H)。
[0546]《与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的形成》
[0547] 与第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行，对前面板H进行DC 磁控溅镀处理，获得形成有厚度为200nm的铝（A1)薄膜的前面板（前面板I)。
[0548] 与第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用转印膜 E1而获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、铝薄 膜及蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板（前面板J)(后烘烤处理；130°C、30分钟）。
[0549] 进一步与第一透明电极图案的形成同样地进行，进行蚀刻（30°C、50秒），将蚀刻 用光硬化性树脂层除去（45°C、200秒），由此获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图 案、绝缘层图案、第二透明电极图案、及导电性要素的前面板（前面板K)。
[0550]《透明保护层的形成》
[0551] 与绝缘层的形成同样地进行，在前面板K上层压除去了保护膜的绝缘层形成用转 印膜W1，将临时支撑体剥离后，未介隔曝光掩模而以50mJ/cm2(i射线）的曝光量进行前曝 光，进行显影、后曝光（lOOOmJ/cm2)、后烘烤处理。如上所述地进行而获得以覆盖白色层、遮 光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、及导电性要素的全部的方式层 叠有绝缘层（透明保护层）的前面板（前面板L)(参照图1A)。将所得的前面板L作为实 施例1~实施例8的触摸屏。
[0552]《信息显示装置的制作》
[0553] 在利用日本专利特开2009-47936公报中所记载的方法而制造的液晶显示元件上 贴合前面板L(实施例1~实施例8的触摸屏），利用公知的方法制作包含触摸屏作为构成 要素的实施例1~实施例8的信息显示装置。
[0554]《前面板及信息显示装置的整体评价》
[0555] 前面板L(实施例1~实施例8的触摸屏）在开口部、及背面并无污垢，容易清洗， 且并无其他构件的污染。
[0556] 而且，在白色层中并无针孔，且白度、不均也无问题。在遮光层中同样地无针孔，遮 光性优异。
[0557] 而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及导电性要素的各自的导电性中也 无问题。而且，在第一透明电极图案与第二电极图案之间具有绝缘性。
[0558] 另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的信息显示装置。
[0559] 符号的说明
[0560]1 :前面板
[0561]la:非接触面
[0562] 2:转印层（装饰材）
[0563] 2a:白色层
[0564] 2b:遮光层
[0565] 3:第一透明电极图案
[0566] 4:第二电极图案
[0567] 5:绝缘层
[0568] 6:导电性要素
[0569] 7 :透明保护层
[0570] 8:开口部
[0571] 10:触摸屏
[0572] 11 :临时支撑体
[0573] 12 :剥离层
[0574] 13 :保护膜
[0575] 20 :转印材料
[0576] 30 :刀
[0577] 101a:玻璃基材
[0578] 101b:膜基材
【主权项】
1. 一种转印材料，其特征在于：依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜， 在自所述转印材料剥下所述保护膜的情况下，所述保护膜自所述转印层剥离，且所述 转印层残留于所述剥离层侧， 在将所述转印层转印至包含玻璃的被转印基材、或包含选自三乙酰纤维素、聚对苯二 甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上之后，剥下所述临时支撑体的 情况下，所述剥离层与所述临时支撑体一同剥离。2. 根据权利要求1所述的转印材料，其中，自所述转印材料剥下所述保护膜时的所述 保护膜与所述转印层间的剥离力是10mN/m~200mN/m。3. 根据权利要求1或2所述的转印材料，其中，自转印至所述被转印基材上的所述转印 层剥离所述剥离层及所述临时支撑体的层叠体时的剥离力为40mN/m~400mN/m。4. 根据权利要求1至3中任一项所述的转印材料，其中，所述剥离层包含消光剂，所述 消光剂自所述剥离层隆起150nm~500nm。5. 根据权利要求1至4中任一项所述的转印材料，其中，所述剥离层包含选自烷二醇与 2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树脂、及烯烃树脂的聚合物。6. 根据权利要求1至5中任一项所述的转印材料，其中，所述剥离层包含选自烷二醇与 2官能以上的异氰酸酯的缩聚物及烯烃树脂的聚合物。7. 根据权利要求1至6中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少一层以 上， 所述转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种。8. 根据权利要求1至7中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层， 所述转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种， 所述转印层中的其他层包含粘合树脂。9. 根据权利要求7或8所述的转印材料，其中，所述转印层中的至少一层中所含的所述 粘合树脂具有硅氧烷键。10. 根据权利要求7至9中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层中的至少一层包 含选自黑色颜料、黑色染料、及白色颜料的至少一种颜料或染料作为所述颜料或染料。11. 根据权利要求1至10中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层， 所述转印层中的与所述剥离层邻接的层包含至少一种选自黑色颜料及黑色染料的颜 料或染料， 所述转印层中的与所述保护膜邻接的层包含白色颜料。12. 根据权利要求1至11中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层， 所述转印层中，越是所述剥离层侧的层光学密度越大。13. 根据权利要求1至12中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层， 所述转印层中的与所述剥离层邻接的层的光学密度为I. 〇~6. 0。14. 根据权利要求1至13中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层， 所述转印层中的与所述剥离层邻接的层的膜厚为〇. 5 y m~3. 0 y m。15. 根据权利要求1至14中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层， 所述转印层中的与所述保护膜层邻接的层的膜厚为5. 0 y m~50. 0 y m。16. 根据权利要求1至15中任一项所述的转印材料，其中，所述临时支撑体包含选自聚 酯树脂、三酰基纤维素树脂、及环烯烃树脂的树脂。17. 根据权利要求1至16中任一项所述的转印材料，其中，所述保护膜是聚烯烃膜。18. 根据权利要求1至17中任一项所述的转印材料，其中，所述被转印基材包含玻璃。19. 根据权利要求1至17中任一项所述的转印材料，其中，所述被转印基材包含环烯烃 聚合物膜。20. -种转印材料的制造方法，其是根据权利要求1至19中任一项所述的转印材料的 制造方法，包含以下的（1)~（3)的步骤： (1) 准备具有所述剥离层的所述临时支撑体； (2) 在所述临时支撑体的所述剥离层侧形成所述转印层； (3) 在所述转印层侧贴合所述保护膜。21. -种带有转印层的基材的制造方法，其使用根据权利要求1至19中任一项所述的 转印材料，并且包含以下的步骤： (11) 自所述转印材料剥离所述保护膜； (12) 将所述转印材料的所述转印层侧转印至所述包含玻璃的被转印基材、或包含选自 三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上； (13) 自所述转印层同时剥离所述剥离层与所述临时支撑体。22. 根据权利要求21所述的带有转印层的基材的制造方法，其中，将所述转印层转印 至所述被转印基材上时的所述被转印基材的温度为40°C~150°C。23. -种带有转印层的基材，其是利用根据权利要求21或22所述的带有转印层的基材 的制造方法而制造。24. 根据权利要求23所述的带有转印层的基材，其中，25°C下的所述转印层的表面电 阻为LOXIOiqQ/ □以上。25. -种触摸屏的制造方法，其使用根据权利要求23或24所述的带有转印层的基材， 并且包含以下的步骤： (21) 在所述带有转印层的基材的所述转印层侧形成导电层； (22) 将所述导电层的一部分除去，形成电极图案。26. -种触摸屏，其包含根据权利要求23或24所述的带有转印层的基材。27. -种信息显示装置，其包含根据权利要求26所述的触摸屏。
【专利摘要】本发明提供转印层的转印性良好、并无转印层的剥离、剥离层并未残留于转印层侧且无需显影步骤的转印材料。转印材料依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜，其中在自转印材料剥下上述保护膜时，上述保护膜自上述转印层剥离，且上述转印层残留于上述剥离层侧，将上述转印层转印至上述包含玻璃或者选自三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上，剥离上述临时支撑体时，在所剥离的上述临时支撑体侧具有上述剥离层。
【IPC分类】B32B27/00, G06F3/041, G06F3/044, B44C1/17
【公开号】CN105142925
【申请号】CN201480022977
【发明人】并河均
【申请人】富士胶片株式会社
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2014年4月23日
【公告号】WO2014175312A1