专利名称：使复制光线分布图最佳化的方法
技术领域：
本发明涉及在照相复制机中于复制照相原件过程中使照相复制品的复制光线分布图最佳化的方法，以及具有用于将照相原件复制到光敏材料上的最佳化的复制光线分布图的照相复制机。本申请特别是涉及在一个复制机中使复制光线分布图最佳化的方法，该复制机包括一个局部透视调制器，例如一个液晶矩阵。本发明进一步涉及在一个照相复制机中使用这种局部透视调制器以达到最佳化。
用于复制照相原件且特别是透明原件如底片(正片，负片)的复制机设备是公知的，如参见DE 4308864、DE 4040498或DE 19703063。这些文献中描述的复制机采用一个LC矩阵(液晶矩阵)以便对曝光过程中使用的复制光线产生影响。LC矩阵用于使复制件的某些区域变亮或变暗，以便按所需的方式控制照相原件的复制件。LC矩阵的控制所根据的蒙片取源于照相原件并因此由各自的图象数据而定。
在复制设备中采用高照度装置和光学传导装置如反光镜、椭圆镜、透镜、光阑、滤光片、混光器、快门等以便使尽可能不变的复制光分布图(它意味着复制光的强度或复制光密度)尽可能最佳地照射原件。
但实际上，所达到的复制光线分布图不是最佳化的。例如，这可能是由于光传导装置不十分协调或者由于光传导装置使复制光发生不希望的改变所引起的。例如，有可能出现环形结构。
本申请的发明人注意到，在一个相应的复制机的操作过程中，一个局部透射调制器，如一个LC矩阵或者一个可控散射矩阵，不仅可用于根据一个给定的原件对复制件进行控制，同时还可用以对一个特定的复制机的复制性能进行改进，而与将要分别复制的原件无关。
本发明的目的是提供一种方法和设备，采用这种方法和设备可以使在一个复制设备中的复制光线分布图达到最佳化。进而，根据本发明，采用一个局部透射调制器以达到这种最佳化。
本发明的目的通过如下特征来达到
一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，使复制光线分布图最佳化的方法，其中该复制机至少包括以下部分一个为复制过程产生复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿着光路从光源经过照相复制原件导向一个复制材料并照射透过照相原件同时将透过原件的光投影到光敏复制材料上；以及一个局部透射调制器，在复制光对复制材料曝光之前，借助光导装置使复制光通过该调制器，该调制器的透射率是局部可控的，以便产生一个透射分布图，该调制器的透射分布图是根据待复制的照相原件为复制过程预先选定的，本方法包括以下步骤a)在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图，b)划分成很细的区域测量由步骤a)所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，c)为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤b)中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。
一种照相复制机，它具有用于将照相原件复制到光敏材料上的最佳化的复制光线分布图，该复制机包括一个用于产生复制过程中使用的复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿光路从光源经照相原件导向复制材料，并用于照射透过照相原件同时将透过照相原件的光线投影到光敏复制材料上，以及一个局部透射调制器，借助光传导装置在复制光照射到复制材料上之前，将复制光导向通过该局部透射调制器，该调制器的透射率是局部可控制的以便根据一个透射矩阵产生一个透射分布图，以及一个计算单元，该单元由一个存储的补偿矩阵和一个为复制过程预选的复制矩阵的结合计算出所述透射矩阵，其中，补偿矩阵是这样确定的，使得利用一个特定的原件和一个相关的特定复制矩阵在复制材料上生成一个具有所需亮度分布图的复制件。
一个局部透射调制器在照相晒图机中的用途，其中，局部透射调制器用于根据待复制的照相原件控制复制件的亮度分布图，该局部透射调制器进一步用于以如下方式使复制光线的分布图最佳化，即，当在待复制的照相原件不在光路中时，产生一个所期望的复制光线分布图或者生成一个复制平面。
根据从属权利要求，优选实施例是显而易见的。
十分有利的是，利用复制设备中已有的局部透射调制器可以使复制光分布图实现成本低效果大的最佳化，从而可使用于校准光学元件的价格昂贵的最佳化过程得以简化。同时，它进一步使得采用具有大加工公差的廉价光学元件成为可能，因为可利用根据本发明的方法补偿由这些偏差引起的不均匀性。
根据本发明的方法可应用于例如欧洲专利申请号99101595.9和美国、日本、加拿大及中国的相应专利申请中所述的照相复制机中，上述专利公开在本申请中引用为参考文献。这种复制机设备利用至少一个光源，例如卤素灯或LED(发光)二极管，产生复制光。所产生的复制光在复制机设备中通过一系列光学光导装置，例如通过快门、透镜、反射镜、半透射镜、光束分光器、透镜、漫射器、棱镜等，沿着光束路径(光学轴)经照相原件被导向复制材料。在光线到达照相原件之前，最好通过一个均匀化装置如散射圆盘，使光线变得均匀。照相原件是透明的，例如可以是一个负片或一个正片。复制材料如是一张照相纸。使光线透过照相原件，将透过原始图象的光投射到复制材料上。
当复制光线分布图具有所希望的形状时，则认为该复制光线分布图是最佳化的。复制光线分布图最好以如下方式(在复制平面内)形成，即，当照相原件是基于一个均匀的(例如均匀灰色)图象的照相记录(例如用一个照相机)产生的情况下，照相原件复制的结果产生一个均匀的复制件(例如均匀的灰色)。假如照相记录是完美的话，则照相原件也将是均匀的，因此人们也将期望获得一个均匀的复制光线分布图。但是，照相机的透镜会使曝光强度从中心起向边缘降低。从而，只有当不仅能够降低由光传导装置引起的复制光线离散而且至少能够部分地补偿这种曝光强度的下降时，才认为一个复制光线分布图是最佳的。由一个照相机所记录的均匀照片从而被一个至少近似均匀的复制体所复制。
在一个照相复制设备中，一个局部透射调制器最好位于原件的邻近处，或置于其前面或置于其后面。复制光通过该局部透射调制器。局部透射调制器可改变其透射性能，它最好是电控的。这种透射性变化最好是在空间上详细划分开来(局部)发生的，这意味着在不同的位置(透射调制器的元件)处可调制成不同的透射性。如结合现有技术所述的那样，在透射调制器上调制成一个特定的透射分布图，以便为复制一个照相原件根据原件的图象数据控制复制件的亮度分布图。这种透射分布图在以后将称作用于复制过程中的透射分布图。根据现有技术，如果不打算进行复制件处理，预选一个均匀的透射分布图。在现有技术中，它相当于如当照相原件是一个均匀照片的情形。
按照根据本发明的过程，根据一个给定的(真实的)和一个所期望的(标称的)复制光线分布图来改变局部透射调制器的用于复制过程的预选的透射分布图。复制光线分布图例如可被描述为复制光强度的分布图或者复制光的光学密度，或者复制光的照度或者这些变量的函数。在复制一个假定是代表一个均匀的图片的原件的过程中，透射分布图以如下的方式改变，使得复制件的不均匀性被除掉或至少是将其减弱。
为以使复制光线分布图最佳化的方式来改变透射分布图，需要几个步骤。首先，在一个复制设备中必须测量给定的复制光线分布图。这种复制光分布图与所使用的光学元件(光源；光传导装置；光散射装置，例如LC矩阵，散射圆盘；光吸收装置，例如滤光片或LC矩阵)有关，并与复制设备的种类有关，甚至对于同一种类型的复制设备，不同的复制机之间也会发生变化。按每一区域详细划分的复制光线分布图描述在复制平面上横截光路的复制光的强度(例如，以强度或光学密度表示)。为对其进行测量，主要需要两个步骤。在第一个步骤中创造一个用于测量复制光线分布图的确定的测量环境。为此最好将一个已知透射分布图的透明元件插入到光路中取代任何一个任意的照相原件。例如，它可以是一个测试滤光片，其光谱透明度适合于一个普通照相原件的光谱。该透明元件最好位于原件与复制平面之间，特别是最好在投射透镜附近，例如在投射透镜的光谰平面内或直接位于投影透镜之下。该透明元件的位置也可以位于在正常复制操作过程中(但不是在复制光线分布图测量过程中)照相原件所处的位置上，或在该位置附近。该透明元件可以是一个以适当方式曝光的照相原件，它具有一个特别顺滑或均匀的透射分布图。该透明元件也可以是一个照相原件，该原件通过对一个均匀的灰色图象进行照相记录制成并具有典型的边缘透明度衰减，就象利用典型的照相机制作照片时所发生的那样。在这种情况下，在复制平面内所需的标称分布图是均匀的。所需的复制光线分布图(标称分布图)最好与待复制的照相原件的内容无关。
该透明元件例如也可以是一个灰色滤光片。或者可替换的，在光路中不加透明元件或加一个完全透明的元件。在后面可替换的情况下，在测量复制光线分布图时只采用一个很短的测量时间。
在最佳化过程之前，为对测量环境进一步进行评价，最好提供一个专门用于局部透射调制器的透射分布图。对于局部透射调制器的每一个透明元件，依赖于控制变量(控制电压)的透明特性是已知的。专门用于测量的透射分布图最好是顺滑的或均匀的。
如果如上所述，创造了一个用于测量复制光线分布图的确定的测量环境，与复制过程相反，在复制设备的光路中不存在(透明度未知的)照相原件，借此，在下一步骤中测量复制光线以便确定复制光线分布图。这种测量最好是在复制光线已经通过透明元件或在最后一个光学元件(例如最后一个光学传导装置)之后进行。在复制平面上或在复制平面附近测量复制光学分布图最为有利。例如，可将一个传统复制材料(照相纸)固定复制平面上，然后检验曝光的复制材料的亮度变化，必须借此评价复制材料的粒度。可利用一个带有校准的灰度标的扫描仪或黑度计对已曝光的复制材料进行扫描，以便对利用复制材料(照相纸)材料测量的复制光线分布图进行数字化。或者可利用其它按区域详细划分的光学探测装置，例如二极管阵列来测量复制光学分布图。这种测量复制光学分布图的探测器可置于例如复制面内或者在其附近，以便不与正常的复制机的操作进行干扰(例如，旋入)或者对于这一测量步骤可将复制平面借助一个投射镜片或一个反射镜投射到复制光探测器上。
如果用上面所述的方式确定了复制光线分布图，特别是当将其数字化时，可根据所确定的分布图(例如强度分布图，光学密度分布图)改变局部透射调制器的透射分布图。例如，如果已经测定复制光线分布图中的某些区域比其余的区域更亮，最好以如下方式局部地降低局部透射调制器的透射光分布图，使这些较亮的区域变暗到其余区域的亮度。在液晶矩阵的情况下，与这一区域相联系的液晶元件的透射率以一种适当的方式降低。在照相纸的情况下，复制光线分布图的亮区导致照相纸上的暗区。
为在复制照相原件的过程中使复制光线分布图最佳化，最好改变为复制过程预选的透射光分布图，以便产生一个复制件，该复制件相当于一个用具有最佳化的复制光线分布图的复制机所获得的复制件。从而，最好将为复制过程预选的透射光分布图改变，使得随着用于测量复制光线分布图的特定的透射光分布图的相应改变，人们将检测到一个最佳化的复制光线分布图。最佳化是这样的，根据对于复制光线分布图的进一步的测定，使得所测定的复制光线分布图相对于所需复制光线分布图的偏离变小或最小的。可以进行这种重复的测定和测量以便检验最佳化。但这并非绝对必要的。同样，通过几次测定或测量过程并据此改变透射光分布图可以获得最佳结果的一种重复的近似。从而最好对局部透射调制器加以控制使得产生一个透射调制器在复制平面上的聚焦的投影。但是，要防止一个透射调制器在复制平面上的未聚焦的投影进行重复近似。
为获得理想的复制光线分布图，最好确定在所需的复制光线分布图和测定的(测量)的复制光线分布图之间的数学关系式和/或所需的与测定的复制光线分布图之间的偏差或差别，依此，改变为一个复制过程预选的局部透射调制器的透射光分布图。
例如，在聚焦投影的局部透射调制器上的一个区域(元件)i根据光学投影几何学与复制平面上的一个区域i′相关，并且，如果在区域(元件)i中局部透射调制器具有透射率Ti(在最佳化之前)，在复制平面内的区域i′内的复制光线分布图，则例如由复制光的强度Ii′表示。对于这种情况，局部透射调制器的透射率Ti最好被变换成一个最佳透射率Topti。从而，透射率和光强之间的表达式为Topti＝Ti×(Inomi′/Ii′)其中，Ii′是在区域i′测得的光强，Inomi′是在区域i′的标称强度，Ti是透射调制器的元件i的透射率，Topti是元件i的最佳化的透射率。
为复制一个原件，局部透射调制器的透射矩阵最好不聚焦地投影到复制平面上，以便在复制件上造成任何可以看得见的明显亮边。但是，为测量复制光线分布图则最好进行聚焦投影。因此，可将透射调制器设计成在聚焦的位置和不聚焦的位置之间变化。
一旦测量和确定了一个复制光线分布图，最好在许多复制过程中，特别是对于不同的照相原件，用它来改变透射光分布图。
在复制光线通过至少大量的光学元件(光散射器，分选光的装置及光传导装置)之后来测量复制光线分布图是十分有利的，以便在复制光测量过程中检测主要的不均匀性或复制偏差。当光线通过一个局部透射调制器之后，进行复制光线分布图则更为有利。从而特别是由局部透射调制器所导致的那些不均匀性可以被考虑在内。
如果在一个复制机内，例如一个依据原件或底片型的复制机，采用不同光谱成分的复制光(不同颜色的复制光)，或者用不同的颜色进行相继曝光时，则最好对于分别采用的(一个特定颜色的)复制光线来确定复制光线分布图，并根据复制光的光谱成分(颜色)来改变局部透射调制器的透射光分布图。当在一个复制过程中，即，在把一个原件投影到一个复制材料上而相继采用不同光谱成分(颜色)的复制光时，最好是以相应的时间顺序根据复制光的光谱成分(颜色)，特别是根据对每一个(特定颜色的)复制光所测得的复制光线分布图来改变局部透射调制器的透射分布图。
最好由所确定的复制光线分布图确定一个补偿矩阵(见图2)，在每一个复制过程中将它存储起来并用于改变透射分布图。透射分布图的变化最好根据数字计算过程来进行。从而表示透射分布图的透射矩阵最好根据上述的补偿矩阵算出来。而对于每一复制过程特定的复制矩阵参与到透射矩阵中的计算中去。复制矩阵特别是从照相原件的图象数据确定，这是因为，例如照相原件是在复制之前进行光学探测或扫描的。如果复制矩阵和补偿矩阵的元件分别描述光学密度，则例如可通过简单地将复制矩阵和补偿矩阵相加，就可得到透射矩阵。
当在一个复制机中按照不同的放大率采用不同的投影透镜时，可将每个投影透镜的补偿矩阵存储起来，并根据所使用的投影透镜分别加以应用。这是特别有益的，因为不同的透镜对复制光的强度从中心向边缘具有不同的衰减特性。从而，对于每种所需要的放大率(投影透镜)均可获得一个最佳的复制光。
根据本发明，在一个照相复制机中可永久性地配备一个用于测量复制件或光线分布图的透明元件，例如一个灰色滤光片或一个曝光适当的照相原件。该透明元件例如在测量时可被移动到光路中(例如，旋转到光路中)，而对于正常的复制过程则最好从光路中被移出。相反地，任何一个未知透射分布图照相原件，例如一个待复制的标准原件最好从光路中移出以便进行复制光线分布图测量。此外，一个光线测量器件，例如一个光电二极管阵列可永久性地设置在复制机中，用以测量复制光线分布图。该测量器件，例如，可设置在纸张平台内。透明元件最好以这样的方式安装，使得要进行复制光线分布图测量时它可被自动地插入到光路中。对于复制光线分布图所需的变化，可以按这样的方式，例如在某一操作时间间隔内，进行检测，并进行补偿。此外，可设置一个输入器件，用于由一个已测量过复制光线光线分布图并根据该图计算出补偿矩阵的维修人员输入补偿矩阵。
通过下面对实施例的描述本发明的进一步的优点和特征将变得更加清楚。不同实施例的各种特征可相互结合起来。
图1a表示在一个照相复制机的照明装置中光路的第一部分；图1b表示在该照相复制机的投影装置中图1a的光路的延续；以及图2表示对局部透射调制器进行透射矩阵测定时的顺序。
在下文中，相同的标号表示相同的部分或器件。
图1a表示在一个照相复制机中光学元件配置的示意概图。由灯401发射出的复制光线被椭圆反射器404反射并形成光束，然后被导向第一个散射透镜406。在该透镜之前设置一个防热滤光片405，该滤光片不让红外辐射通过。标号110、111、112表示铰接的用于洋红、青蓝和黄色的彩色滤光片，它们可被转向光路，并且只允许在特定波长范围内的光通过。
进而设置一个(黑色的)快门115，它可以打开和关闭照明光线。设置一个与快门115相结合的衰减轮118。该衰减轮包含有不同透射率的灰色滤光片。通过将快门与彩色滤光片相接合，可获得所需的照明。特别是，可在一个特定的范围内保持照明时间。在衰减轮之后设置所谓的梳状滤光片120和平衡滤光片122。梳状滤光片120允许在三个限定的预先选定的光谱区内的光线通过。这些光谱区适合于照相纸的光谱灵敏度，以便在照相纸上产生彩色。除了复制光线的光谱适应性之外，同时借助平衡滤光片使光线的强度相匹配以便对所有三种颜色的照明时间相互平衡。后者保证由梳状滤光片120所分离出来的三个波长区的每一个都以合适的强度照射到照相纸上。
130表示一个准直仪，用于使光线平行于两个透镜132，两个积光板134和另一个透镜136。积光透镜也称作蜂窝状透镜或积光板。在这里所述的情况下，设置两个积光板134。
从透镜136射出的照明光然后由分光器140反射并被下引向下一个透镜142。然后光线从这里射出并进入透镜151、液晶矩阵(局部透射调制器)20以及散射圆盘160。
反射镜140是半透明的，只有一部分光线被光线测量系统145所探测。借此来校准照明装置。
所述液晶矩阵20设置在光导管的下端。光导管的下端被一个散射圆盘160所封闭。
设置一个图中未示出的接口用于控制液晶矩阵，它与一个控制器件连接并提供用于控制液晶矩阵的控制信号。
液晶矩阵20是这样设置的，即它仅以不聚焦的方式叠加在照相原件(底片)200上。底片200借助图1b中所示的透镜30投影到照相纸42上。在投影透镜30的后面设置第二个快门以保护照相纸不受到外来光线的干扰。所述的透明元件(图中未示出)例如可设置在该位置处。最好，将一个已知透射分布图的透明元件，即，例如一个均匀曝光的底片或者具有平均透射率的均匀灰色滤光片放置在光路中，用于测量复制光线分布图，例如将其放置在前面所说的位置处。将底片200从光路中移出。进而，最好在光路中照相纸42所处的位置处设置一个光感器(探测器)，该光感器可以测量按区域详细划分开来的光线。该复制光测量器件可以是一个光电二极管阵列或者简单地是一张照相纸。为获得确定复制光线分布图的一个限定的测量环境，最好对液晶矩阵20进行控制，使得对于液晶矩阵可达到一个均匀的透射分布图。如果透射分布图偏离一个均匀的分布图，它可以通过复制光线分布图测量被识别出来，然后可同其它不均匀性一起加以补偿。如果该测量借助照相纸来进行，则例如利用黑度计或扫描仪局部测量其色调或黑度，借此考虑纸的的等级来确定复制光线分布图。
如果对于每个独立的矩阵单元在透射矩阵的控制与复制平面上的不同区域内所测得的复制光之间产生一个非线性关系，可将特性曲线存储在例如一个表内，然后再适当地加以考虑。
所测得的复制光线分布图最好进行数字化。在复制光线分布图是用照相纸测量的情况下，这是一种由光学方法记录的，例如，借助扫描仪进行数字化。
如图2所示，是在将复制光线分布图最佳化之前以便进行相继的复制过程之前，对复制光线分布图进行测量的。最好从确定的复制光线分布图推导出一个补偿矩阵将其存储起来。最好计算出补偿矩阵使得在上述测量中产生一个最佳的复制光线分布图或者在根据补偿矩阵在控制液晶矩阵的过程中形成复制平面。
为在照相原件的各个复制过程中模拟一个最佳复制光线分布图的存在，在正常的复制过程中同时也考虑补偿矩阵(见图2)。在正常的复制操作过程中，最好根据一个透射矩阵控制液晶矩阵，透射矩阵的元素描述液晶矩阵单个元素的透射度。为复制一个照相原件，可以期望复制件的亮度分布图被复制，这意味着液晶矩阵的透射分布图不应是均匀的。这种所预期的复制由一个复制矩阵来描述。在根据现有技术的复制操作中，透射矩阵应与复制矩阵相吻合。但是，根据本发明，透射矩阵是根据补偿矩阵以及复制矩阵计算出来的。如果这些矩阵描述光学密度的话，对于一个以上述方式确定的补偿矩阵，补偿矩阵和复制矩阵最好相加。
复制矩阵的元素最好从待复制的原件的图象数据推导出来。因此，在复制过程之前，通过一个光学扫描过程检测出待复制的照相原件的图象数据。
从补偿矩阵和复制矩阵对透射矩阵的计算，可根据待复制的原件的特定图象数据，对它们的分析或它们的类别而改变。例如，在复制件的某些区域所预期的颜色和/或亮度也可参考到计算公式中。
最好采用一个计算单元如CPU或ASIC进行矩阵的计算。液晶矩阵(局部透射调制器)可用于传统的复制机中，以便使复制光线分布图最佳化。因此，该复制机装备有，例如一个附加的计算单元，该计算单元与一个液晶矩阵控制器耦合，或者有一个已经存在的计算单元，或者该控制器是可重新编程的。
权利要求
1.一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，使复制光线分布图最佳化的方法，其中该复制机至少包括以下部分一个为复制过程产生复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿着光路从光源经过照相复制原件导向一个复制材料并照射透过照相原件同时将透过原件的光投影到光敏复制材料上；以及一个局部透射调制器，在复制光对复制材料曝光之前，借助光导装置使复制光通过该调制器，该调制器的透射率是局部可控的，以便产生一个透射分布图，该调制器的透射分布图是根据待复制的照相原件为复制过程预先选定的，本方法包括以下步骤a)在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图，b)划分成很细的区域测量由步骤a)所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，c)为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤b)中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，改变为达到最佳化而预选的局部透射调制器的透射分布图，使得随着根据步骤b)对复制光线分布图所进行的并非绝对必要的重复测定，在步骤a)中对专门用于测量的透射分布图作相应的改变，其结果将会使所确定的复制光线分布图相对于所希望的复制光线分布的偏差降低或最小化。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，复制光线分布图的测量是在复制光线通过多个光传导装置之后进行的。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤b)中所进行的复制光线的测量是在复制光通过局部透射调制器之后进行的。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤b)中对复制光线的测量至少是在靠近复制过程中复制材料所在的平面附近进行的。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，利用一个具有已知和/或均匀透射分布图的灰色滤光片或一个透明原件作为透明元件。
7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，专门用于测量的透射分布图是均匀的。
8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述局部透射调制器包括多个透射单元，其透射度根据一个透射矩阵进行控制，所述透射矩阵是通过将一个补偿矩阵和一个复制矩阵相结合计算出来的，所述复制矩阵对应于为各个复制过程预先选定的透射分布图，所述补偿矩阵是通过将步骤b)测得的复制光线分布图与所期望的复制光线分布图进行比较推导出来的。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述复制矩阵是由表示待复制的照相原件的数字化照相图象数据计算出来的。
10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤b)中采用复制材料或光探测器测量复制光线的强度。
11.一种照相复制机，它具有用于将照相原件复制到光敏材料上的最佳化的复制光线分布图，该复制机包括一个用于产生复制过程中使用的复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿光路从光源经照相原件导向复制材料，并用于照射透过照相原件同时将透过照相原件的光线投影到光敏复制材料上，以及一个局部透射调制器，借助光传导装置在复制光照射到复制材料上之前，将复制光导向通过该局部透射调制器，该调制器的透射率是局部可控制的以便根据一个透射矩阵产生一个透射分布图，以及一个计算单元，该单元由一个存储的补偿矩阵和一个为复制过程预选的复制矩阵的结合计算出所述透射矩阵，其中，补偿矩阵是这样确定的，使得利用一个特定的原件和一个相关的特定复制矩阵在复制材料上生成一个具有所需亮度分布图的复制件。
12.如权利要求11所限定的复制机，其特征在于，所述补偿矩阵已根据权利要求1的过程确定，从而根据步骤c)达最佳化。
13.一个局部透射调制器在照相晒图机中的用途，其中，局部透射调制器用于根据待复制的照相原件控制复制件的亮度分布图，该局部透射调制器进一步用于以如下方式使复制光线的分布图最佳化，即，当在待复制的照相原件不在光路中时，产生一个所期望的复制光线分布图或者生成一个复制平面。
14.如权利要求13所述的用途，其特征在于，用于复制光线改变的局部透射调制器的用途通过权利要求1的方法来实现。
全文摘要
一种在照相复制机中内,于复制照相原件的过程中,使复制光线分布图最佳化的方法,其中,本方法包括以下步骤:a)在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件,令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图,或者在光路中不设置透明元件,从而,没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中,并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图,b)划分成很细的区域测量由步骤a)所产生的复制光,测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较,c)为将照相原件复制到复制材料上,根据步骤b)中的比较,使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。
文档编号G03B27/72GK1264847SQ00104539
公开日2000年8月30日 申请日期2000年1月28日 优先权日1999年1月29日
发明者瓦尔特·克拉夫特, 马克斯·纽斯保梅尔 申请人:戈莱泰格成像贸易股份公司