专利名称：高反射镜膜系的制作方法
技术领域：
本实用新型与反射镜有关，特别与高反射镜膜系有关。
背景技术：
申请号00130782的专利公开了一种反射镜，在抛光的玻璃基体上依次沉积Al、MgF2、TiO2层来形成反射膜。众所周知，氟化美(MgF2)的靶材制作十分困难，成本很高，同时因氟化美(MgF2)为绝缘材料，只能采用射频溅射工艺方法沉积，由于射频电源的功率不可能大(目前最大限度为10KW)，且对人体危害较大，元器件匹配也很难，因此射频溅射沉积速度低，生产效率低，成本高，不能实现大规模生产。
实用新型内容鉴于上述情况，本实用新型的目的是为了克服以上不足，提供一种沉积速度快、易于实现大规模生产、降低生产成本的高反射镜膜系。
本实用新型的目的是这样来实现的本实用新型高反射镜膜系，包括基体，其特征是有沉积在基体上的Al层，沉积在Al层上的SiO2层，沉积在SiO2层上的TiO2层。
上述的基体是玻璃或塑料。
上述的Al层的厚度为40～120nm。
上述的SiO2层、TiO2层的厚度为λ/4，其中的λ为设计主波长。
本实用新型反射膜系沉积速度快、能采用中频电源以磁控溅射方式和等离子体发射谱强度监测器闭环平衡控制装置(PEM)控制在基体上依次沉积有Al层、SiO2层和TiO2层的高反射镜膜系，可简化制造工艺和设备的复杂程度，更容易实现大规模工业生产，提高生产效率，降低生产成本。
图1为本实用新型高反射镜膜系结构示意图。
具体实施方式
图1是本实用新型高反射镜膜系实施方案的结构剖视图。参见图1，先经清洗机清洗并经冷、热风吹干和/或热箱烘干的玻璃基体1，Al层2是高反射镜膜系的主金属反射层，采用直流DC电源溅射，膜厚为90nm，以保证Al层具有最佳的反射率；SiO2层3和TiO2层4组成增强反射膜系，SiO2层沉积在Al层之上，TiO2层沉积在SiO2层之上，达到提高反射率之目的，SiO2和TiO2层均采用孪生中频反应磁控溅射来制备，SiO2的膜层厚度为λ/4(λ为主设计波长，如λ为500)，TiO2膜层的厚度为λ/4(λ为主设计波长，如λ为500)，通过改变SiO2和TiO2膜层厚度的不同组合，可以改变高反射膜的光学反射特性曲线，使其满足所需要的反射值。用以上的膜层结构和膜厚可以满足对红、黄、蓝光有选择性反射要求的高反射镜的生产，特别适合背投彩电的高反射镜的使用。该膜系对各种光波长可以得到的反射率见表
权利要求1.高反射镜膜系，包括基体，其特征在于有沉积在基体上的Al层，沉积在Al层上的SiO2层，沉积在SiO2层上的TiO2层。
2.如权利要求1所述的高反射镜膜系，其特征在于所述的基体是玻璃或塑料。
3.如权利要求1或2所述的高反射镜膜系，其特征在于Al层的厚度为40～120nm。
4.如权利要求1或2所述的高反射镜膜系，其特征在于SiO2层、TiO2层的厚度为λ/4，其中λ为设计主波长。
5.如权利要求3所述的高反射镜膜系，其特征在于SiO2层、TiO2层的厚度为λ/4，其中λ为设计主波长。
专利摘要本实用新型提供了一种高反射镜膜系，包括基体，其特征在是沉积在基体上的Al层，沉积在Al层上的SiO
文档编号G02B5/08GK2641668SQ0325286
公开日2004年9月15日 申请日期2003年9月23日 优先权日2003年9月23日
发明者甘国工 申请人:甘国工