专利名称：基体涂布装置、涂布法及由该法制造的感光体和有该感光体的照相装置的制作方法
背景技术：
1发明领域本发明涉及对圆筒状基体的涂布液涂布装置和涂布方法，以及由该方法制造出的电子照相感光体和具有该感光体的电子照相装置2现有技术的说明在现有技术中，对圆筒状基体进行涂布液涂布的技术已在各种领域中使用，然而，在以下的本文中以电子照相感光体的制作为例进行说明。但是也不限定于电子照相领域，对圆筒状基体进行涂布液的涂布不仅仅在电子照相感光体，而且在带电辊、转印辊、定影辊等的制作中也得到应用。
在电子照相感光体中，作为以铝等构成的中空圆筒状基体的外围表面上的电子照相感光体用涂料，是通过依次涂布底涂层用涂料、电荷产生层用涂料、电荷输送层用涂料，形成层叠的感光体。对感光体不仅要求其具有薄而均匀的厚度，并且也强烈要求其低成本，因此，一直对生产性优异的涂布方法进行开发研究。
作为在圆筒状基体的外围面上涂布电子照相感光体用涂料、形成感光层的方法，现有技术中已知的有喷雾涂布法、浸渍涂布法、刮刀涂布法等。但是，在现有的涂布法中，不能获得均匀的涂膜、或者存在生产效率差的问题。
例如，在喷雾涂布法中，如果在电子照相感光体用涂料中使用沸点低的溶剂，则在涂料到达基体的外围面的途中，涂料中所含的溶剂挥发，涂料的固体成分浓度增大，因此，在涂料到达基体时，在基体的外围面上不能充分扩展，使得涂膜表面凹凸不平，不能得到平滑的涂膜表面，存在不能形成具有均匀膜厚的涂膜的问题。
相反，在使用沸点高的溶剂时，当涂料附着在基体的外围面上后，尽管可表现出膜厚的均匀化作用(以后称为流平作用)，但是，由于溶剂的挥发较慢，因此，涂膜的固定被延迟。当在这种涂膜的固定化不足的状态下进行连续涂布时，在所需要的膜厚较厚的情况下，仍然存在引起涂料塌边，不能获得具有均匀膜厚的涂膜的问题。为了避免该问题，最好分成数次进行涂料涂布，但是，由于涂布及干燥必须反复进行，直至达到手指接触的干燥状态(干燥至即使用手指接触也不会残留痕迹的程度)获得所需要的厚度，因此，存在所需的制造时间长，并且该工序极其繁杂的问题。
采用浸渍涂布法，尽管可改善涂膜表面的平滑性，但是仅在基体的内部至端面上形成涂膜。由于基体的内部和端面上形成的涂膜成为基体上安装凸缘时的障碍，因此，在将内部和端面上形成涂膜的基体作为电子照相感光体用基体时，存在着不得不剥离基体内部和端面上形成的涂膜的问题。此外，在剥离基体内部和端面上形成的涂膜时，由于需要剥离工序，因此，成为阻碍生产性的重要原因。而且，由于涂膜的膜厚受涂膜物理性能和浸渍后提升速度的影响大，所以，在以等速度提升时，基体的上端和下端产生膜厚差。为消除这种膜厚差，需要控制提升速度，但是这种控制又非常困难，并且为了形成均匀的膜厚，还存在着不能减慢浸渍后的提升速度的问题，不能获得较高的生产效率。
刮刀涂布法是一种通过在与基体长度方向上接近的位置处配置刮刀，向刮刀供给涂料，在基体旋转1次后，使刮刀后退的涂布方法。采用刮刀涂布法时，可获得高的生产性，但是在使刮刀后退时，由于涂料的表面张力使得基体上涂布的涂膜的一部分发生隆起现象，该隆起现象造成膜厚不均匀的问题。
此外，除了上述方法以外，还存在辊涂法。作为被涂布物的基体，其为圆筒状，辊涂法因此具有其特殊性，即，作为被涂布物的圆筒状基体在旋转时，由于已经涂布了的面经过几次反复，返回至涂布部分，从而产生了涂料堆积现象，存在发生膜厚不均匀的问题。
在避免发生该涂料堆积现象的现有技术中，存在着一种通过基体旋转1次对该外围表面全面地涂布涂料的时间点，使基体从辊分离的技术(参照特开平3-12261号公报)。但是，在特开平3-12261号公报中公开的现有技术中，在基体仅旋转1次的情况下，难以形成均匀的涂膜，并且，在使基体从辊分离时，存在着残留涂料的接缝问题。此外，在特开平3-12261号公报中还公开了通过使基体旋转1次以上，在涂布完成后使基体从涂料供给辊分离，并继续使基体旋转，以使涂膜面流平的方法。但是，在该方法中，必须预先估计应流平的涂料堆积量，进行精密的膜厚控制，此外，仅在流平所需的时间内，必须保持基体旋转，故存在生产效率低的问题。
另外，根据现有技术中采用的凹版胶印法，尽管作为精度良好地形成具有一定图案的方法具有其优异性，但是其与作为形成均匀涂膜的所谓“涂布”是根本不同的技术，在圆筒状基体上形成涂膜时，存在着残留版的图案，形成接缝的问题。
发明概述本发明的目的是提供一种对圆筒状基体进行涂布液涂布的涂布装置和涂布方法，由此可以较高的生产效率获得不会产生膜厚不均和接缝问题的均匀性优异的涂膜。
此外，本发明的另一目的是提供一种具有无膜厚不均和接缝问题的均匀性优异的感光层的电子照相感光体和具有该感光体的电子照相装置。
本发明涉及一种对圆筒状基体进行涂布液涂布的涂布装置，在该装置中，包含以与圆筒状基体相接触的方式设置的对圆筒状基体进行涂布液涂布的涂布辊；和，向涂布辊供给涂布液的涂布液供给辊，该辊在周向长度的至少一部分上，形成具有多个细微凹处的细微凹部，并且在细微凹部的周向的两个端部的附近处，随着细微凹部的周向远离中央，细微凹部以深度减小的方式形成；以及控制附着在涂料供给辊面上涂料量的涂液量控制构件。其特征在于(a)涂布液在频率6.28弧度/秒处，作为损失模量(G”)和贮藏模量(G’)比的损失正切tanδ(＝G”/G’)在1以上～10以下；(b)在涂布液供给辊的细微凹部中，形成深度几乎相等的细微凹部的部分的周向长度L1和以深度减小的方式形成的部分之一的周向长度L2之和L(＝L1+L2)为圆筒状基体的周长Lc的n倍(n为1以上的整数)。
此外，本发明的特征在于细微凹部形成4角锥状。
此外，本发明的特征在于圆筒状基体为电子照相感光体用基体。
此外，本发明涉及一种对圆筒状基体进行涂布液涂布的方法，其特征在于，在对圆筒状基体进行涂布液涂布的方法中，包括准备涂布液，该涂布液在频率6.28弧度/秒处具有损失模量(G”)和贮藏模量(G’)之比的损失正切tanδ(＝G”/G’)在1以上～10以下；将涂布液附着在涂布液供给辊的表面，该涂布液供给辊包括具有多个细微凹处的细微凹部，其至少在周向并且在细微凹部的周向两个端部的附近处，随着细微凹部周向远离中央，细微凹部的深度以减小的方式形成，以及在涂布液供给辊的细微凹部中，所形成的深度几乎相等的细微凹部的部分的周向长度L1和以深度减小的方式形成的部分的周向长度L2之和L(＝L1+L2)为圆筒状基体的周长Lc的n倍(n为1以上的整数)；将附着在涂布液供给辊表面上的涂布液量控制到预定量；从已控制涂布液量的涂布液供给辊向涂布辊供给涂布液；从涂布辊以与圆筒状基体接触转印的方式涂布涂布液。
此外，本发明涉及一种电子照相感光体，其特征在于，圆筒状基体为电子照相感光体用基体，并且根据对上述圆筒状基体的涂布液涂布方法制造而成。
此外，本发明涉及的电子照相装置，其特征为具有前述电子照相感光体。
根据本发明，可实现一种对圆筒状基体进行涂布液涂布的涂布装置，其通过将涂布液的损失正切值设定在适当的范围内，根据预定条件在表面上设置形成了多个细微凹部的涂布液供给辊，从该涂布液供给辊向涂布辊供给上述涂布液，从涂布辊向圆筒状基体接触转印涂布液，由此可在圆筒状基体的表面上形成无膜厚不均和接缝现象的均匀性优异的涂膜。
此外，根据本发明，由于形成4角锥状形状的细微凹部，从供给辊向涂布辊供给涂布液的操作可有效地实施。
此外，根据本发明，由于将圆筒状基体作为电子照相感光体用基体，所以，在电子照相感光体用基体的表面上通过涂布感光体用涂布液，可提供具有无膜厚不均和接缝现象的均匀性优异的感光层的电子照相感光体。
此外，根据本发明，可实现生产效率高、形成无膜厚不均和接缝现象的均匀性优异涂膜的对圆筒状基体进行涂布液涂布的涂布方法。
此外，根据本发明，通过将圆筒状基体作为电子照相感光体用基体，可以较高的生产效率，制造出具有无膜厚不均和接缝现象的均匀性优异的感光层的电子照相感光体。
此外，根据本发明，由于具备形成有无膜厚不均和接缝现象的均匀性优异的感光层的电子照相感光体，因此可实现图像品质优异的电子照相装置。
附图的简要说明通过以下的详细说明以及附图，可进一步明确本发明以及本发明的上述目的和其它目的、特点、优点。
图1简略地示出了作为本发明一实施形式的对圆筒状基体进行涂布液涂布的涂布装置结构的侧面图。
图2示出了涂料供给辊构成的截面图。
图3示出了涂料供给辊表面附近的周向展开图。
图4为在涂料供给辊表面上形成的细微凹部的放大立体图。
图5为说明涂布装置操作的图。
图6为说明涂布装置操作的图。
图7为说明涂布装置操作的图。
图8为说明涂布装置操作的图。
图9为简略示出了电子照相感光体结构的部分截面图。
图10为简略示出了具有本发明电子照相感光体的电子照相装置结构的配置侧面图。
图11A和11B为实施例1的电子照相感光体中周向的膜厚图。
图12A和12B为比较例1的电子照相感光体中周向的膜厚图。
图13A和13B为比较例2的电子照相感光体中周向的膜厚图。
图14A和14B为比较例3的电子照相感光体中周向的膜厚图。
图15A和15B为比较例4的电子照相感光体中周向的膜厚图。
图16为涂布液供给辊表面附近的周向的展开图。
图17A和17B为比较例5的电子照相感光体中周向的膜厚图。
优选实施方案的详细说明以下参照附图对本发明的优选实施方案进行详细说明。
图1简略地示出了作为本发明一实施方案的对圆筒状基体的涂布液涂布装置1结构的侧面图。对圆筒状基体的涂布液涂布装置1(以下简称为涂布装置1)含有涂布辊4、涂布液供给辊5、涂布液量控制构件6和涂布液贮存槽7。涂布辊4以与圆筒状基体2相接触的方式设置，对圆筒状基体2进行涂布液3的涂布。涂布液供给辊5向涂布辊4提供涂布液3。涂布液控制构件6控制附着在涂布液供给辊5表面上的涂布液量。涂布液贮存槽7贮存涂布液3。
在圆筒状基体2、涂布辊4和涂布液供给辊5上可分别设置作为驱动设备的例如电动机和与电动机相连的减速齿轮系列，以形成可旋转驱动的结构，但是在图示中省略了驱动设备。此外，涂布辊4和涂布液供给辊5还可自由旋转地支撑在例如节流阀上，使得圆筒状基体2可旋转自如并且装卸自如地支撑在支撑构件上，但是在图1中省略了对这些支撑构件的图示。
涂布装置1用于对圆筒状基体2进行涂布液3的涂布。对于该涂布装置1中所用的涂布液3，将其在频率6.28弧度/秒处的损失模量(G”)和贮藏模量(G’)之比的损失正切tanδ(＝G”/G’)设定在1以上～10以下。
在此所述的损失正切tanδ指的是将该物质本身的硬度作为复弹性率(G*)，在复平面上将该矢量分解成实数轴上的贮存模量(G’)，虚数轴上的损失模量(G”)时，与该物质粘性成分相当的损失模量(G”)以及与该物质的弹性成分相当的贮存模量(G’)之比(＝G”/G’)。
损失正切tanδ是表示物质动作特性的一个指标，损失正切tanδ越小，表明该物质(在此为涂布液)的弹性动作倾向性强，相反，损失正切tanδ越大，表明该物质(涂布液)的粘性动作倾向性强。
损失正切tanδ，在类似涂布液的液状物质的情况下，可根据例如表1所示的旋转型触变计量器和条件进行测定。
表1
表1
以下对涂布液3的损失正切tanδ的范围限定理由进行说明。当损失正切tanδ超过10时，粘性(液体)的性质过强，因此，一部分涂布液不能从涂布辊转印到圆筒状基体上，涂布辊上残留有涂布液。由于不能控制涂布辊上残留的涂布液量，所以，实质上不能对圆筒状基体上形成的涂布膜的厚度进行控制，产生膜厚不均匀现象。
当损失正切tanδ不足1时，弹性(固体)的性质过强，因此，在涂布液全部转印至圆筒状基体上后，涂布液不能流平。因此，在涂膜上形成接缝和/或膜厚不均匀现象。
当损失正切tanδ在1以上～10以下时，弹性(固体)的性质和粘性(液体)的性质均显示适度，因此，在涂布辊和圆筒状基体接触旋转时，由接触部分的剪切力使得涂布液实质上全部从涂布辊转印至圆筒状基体上，同时在涂布液被转印后，可充分进行流平，并且形成无接缝和/或无膜厚不均现象的均匀涂膜。即，实现了从涂布辊向圆筒状基体的转印性能和在圆筒状基体上的流平性能的平衡性均良好的涂布液。
圆筒状基体2是被涂布物，可使用下述的电子照相感光体用基体等的各种感光体。
涂布辊4由橡胶等弹性体构成。如果考虑提高涂布辊4表面上的涂布液转印到圆筒状基体2上时的效率，则优选在涂布辊4的材料中使用硅橡胶等表面能量较小的材料。
图2为涂布液供给辊5的结构截面图，图3为涂布液供给辊5表面附近的周向展开图，图4为涂布液供给辊5表面上形成的细微凹部的放大立体图。
涂布液供给辊5由金属等硬质材料构成。涂布液供给辊5至少在周向长度的一部分上具有细微凹部8，该凹部8形成有多个细微凹处8a。细微凹部8的两个端部附近，具有凹部深度减少的部分9a、9b，其在细微凹部8的周向上随着远离中央的方向，以细微凹部8a的深度减小的方式形成。
在此，按照如下方式对细微凹部8的有效长度L进行定义。在细微凹部8中，将形成深度几乎相等的细微凹处8a的部分周向长L1和以细微凹处8a深度减小的方式形成的一凹处深度减少部分9a的周向长度L2之和L(L1+L2)作为有效长度L。涂布液供给辊5的有效长度L形成为圆筒状基体2周长Lc的n倍(n为1以上的整数)，即，以圆筒状基体2的半径为R时，以有效长度L满足下式L＝2nπR(π圆周率)的方式形成细微凹部8。
通过将有效长度L和圆筒状基体2的周长Lc之比(＝L/Lc)设定为1以上的整数倍，使得在圆筒状基体2的周向上，从细微凹部8向供给涂布液3的部分和不供给涂布液3的部分不产生差异，从而在圆筒状基体2的周向上形成膜厚均匀的涂膜。在实际的涂布过程中，凹部深度减少部分9a和凹部深度减少部分9b具有周向长度L2的宽度而重叠，因此，通过将上述比值(L/Lc)设定为整数倍，吸收所产生的微妙的位置偏置，可实质上达到防止发生接缝的效果。凹部深度减少部分9a和9b周向上的长度L2，优选设定为圆筒状基体2周长(＝2nπR)的1/20～1/2。
因此，在细微凹部8周向的两个端部形成凹部深度减少部分9a和9b，同时使得涂布液供给辊5的有效长度L成为圆筒状基体2周长(＝2nπR)的整数倍，则可在圆筒状基体2的表面上形成膜厚均匀的涂膜。
另外，在本实施方案中，细微凹处8a形成为4角锥状。4角锥的底边长度为10～100微米，4角锥的高度即细微凹部8a的深度为10～100微米，由此形成细微凹部8a是优选的。这种细微凹部8a的形成，例如可通过对金属制成的辊进行电解蚀刻实现。
4角锥状的细微凹部8a，在与涂布辊4表面相接触的4角锥底面部分面积最大，随着远离涂布辊4的表面，其截面积减小。因此，保持在细微凹处8a中的涂布液，涂布辊4和涂布液供给辊5的细微凹部8相接触时，涂布液的表面张力增强，致使涂布液向涂布辊4一侧移动，而不保持在涂布液供给辊一侧，所以，使得涂布液向涂布辊4的移动更加有效地进行。
涂布液量控制构件6由橡胶或硬质塑料等材料构成，通过将其与涂布液供给辊5压接进行设置，对附着在涂布液供给辊5上的涂布液量进行控制。涂布液存储槽7例如为不锈钢制成的箱型容器，在其内部空间存储涂布液3。涂布液3可在其它容器中进行制作，也可以通过手工操作注入到涂料存储槽7中，或者从其它容器通过配管由泵等压送注入至涂料存储槽7中。涂布液供给辊5可这样配置，即使其一部分浸渍在存储于涂料存储槽7的涂布液3中，并通过使浸渍在涂布液3中的部分附着涂布液3进行涂布。
以下，采用涂布装置1对圆筒状基体2的涂布液3的涂布方法进行说明。图5～图8为说明涂布装置1的操作的图。在本实施方案的涂布装置1中，将涂布辊4与圆筒状基体2压接，将涂布液供给辊5与涂布辊4压接，并将涂布液量控制构件6与涂布液供给辊5压接进行配置。圆筒状基体2和涂布液供给辊5按照箭头11、12所示的逆时针方向旋转，涂布辊4按照箭头13所示的时针方向旋转。涂布速度，即圆筒状基体2、涂布辊4和涂布液供给辊5的周速度为1m/分～800m/分，优选为10m/分～300m/分的范围。涂布速度慢时，生产性低，而涂布速度过快时，由于涂布液3的飞散等，容易造成涂膜不均现象的发生。
在图5中，随着一部分浸渍在涂布液存储槽7内的涂布液3中的涂布液供给辊5的旋转，向涂布液供给辊5表面的细微凹部8中供给涂布液3a。供给涂布液供给辊5表面的涂布液3a，通过涂布液量控制构件6限定所希望的涂布液量，使达到具有均匀厚度的涂布液3b。
在图6中，涂布液3b向与涂布液供给辊5压接设置的涂布辊4的表面移动，变成涂布液3c。
在图7中，通过涂布辊4和涂布液供给辊5继续旋转，使得附着在涂布液供给辊5的细微凹部8中的涂布液3b全部移动到涂布辊4上。此后，涂布液供给辊5的旋转停止，解除涂布液供给辊5与涂布辊4之间的压接状态。涂布辊4和圆筒状基体2继续旋转，使得涂布液3c从涂布辊4接触转印至圆筒状基体2上。
在图8中，涂布液3c全部从涂布辊4转印至圆筒状基体2的表面上后，涂布辊4和圆筒状基体2的旋转停止，并解除圆筒状基体2与涂布辊4之间的压接状态。由此，在圆筒状基体2的表面上形成具有均匀厚度的涂膜3d。
在上述动作说明中，在对圆筒状基体2涂布涂布液3时，随着涂布液的移动，依次使涂布液供给辊5和涂布辊4的旋转停止，解除压接。在连续涂布时，在压接状态下连续旋转也可实现涂膜厚膜化。此外，通过每次仅交换圆筒状基体2，反复实施上述操作，可在多个圆筒状基体2上形成涂膜。
以下，对涂布装置1和涂布方法作为优选实例使用的电子照相感光体的制造进行说明。即，采用电子照相感光用基体作为圆筒状基体2，将电子照相感光用涂布液作为涂布液，由涂布装置1在电子照相感光用基体上涂布电子照相感光用涂布液。
作为电子照相感光用基体，可采用铝、铝合金、铜、锌、镍、不锈钢、钛等金属材料。此外，不限于这些金属材料，也可使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、酚醛树脂、尼龙、聚苯乙烯等高分子材料，或者玻璃、硬质纸等。此外，对于电子照相感光用基体，由于需要其表面具有导电性，所以，在采用绝缘性材料作为基底材料的情况下，需要进行金属箔层压处理、金属蒸镀处理，或将氧化钛、氧化锡、氧化铟、炭黑等导电性物质与适当的粘合剂一起涂布进行导电处理。
在电子照相感光用基体的表面上涂布电子照相感光用涂布液而形成的感光层，可以为单层型，即电荷产生材料和电荷输送材料存在于同一层内，也可以为叠层型，即将含有电荷产生材料的层和含有电荷输送材料的层层叠形成。
单层型感光层，可通过将电荷产生材料和电荷输送材料分散或溶解在粘合剂树脂溶液中形成的涂布液，涂布在电子照相感光用基体的外围表面上后干燥形成。
叠层型感光层，可通过将电荷产生材料微粒，根据需要分散在粘合剂树脂溶液中得到涂布液，并将其涂布在电子照相感光用基体的外围表面上后，干燥形成电荷产生层，将作为具有电荷输送功能的化合物的电荷输送材料溶解在粘合剂树脂溶液中得到涂布液，将其涂布在电荷产生层上后，干燥形成电荷输送层，由此形成叠层型。此外，还可以与上述相反的，在电子照相感光用基体的外围表面上形成电荷输送层，在电荷输送层的上面形成电荷产生层。
在为单层型电子照相感光体的情况下，电子照相感光用基体上形成的感光层的膜厚优选在5～50微米，特别优选在15～40微米的范围内。此外，在为叠层型电子照相感光体的情况下，电荷产生层的膜厚优选在10微米以下，特别优选在0.1～5微米的范围内，电荷输送层的膜厚优选在5～50微米，特别优选在15～40微米的范围内。
作为电荷产生材料，可例举出酞菁类颜料、偶氮类颜料、醌类颜料、苝类颜料、靛类颜料、硫代靛类颜料、二苯并咪唑类颜料、喹吖啶酮类颜料、喹啉类颜料、沉淀颜料、偶氮沉淀颜料、蒽醌类颜料、嗪类颜料、二嗪类颜料、三苯基甲烷类颜料、甘菊环 染料、方形 染料、吡喃 类染料、三芳基甲烷染料、呫吨染料、噻嗪染料、花青染料等各种有机颜料、染料，以及无定形硅、无定形硒、碲、硒-碲合金、硫化镓、硫化锑、氧化锌、硫化锌等无机材料。
电荷产生材料不限于以上例举的材料，此外，在使用时可单独或将2种以上混合使用。在将所需的电荷产生材料微粒根据需要分散在粘合剂树脂溶液中的分散液，将其涂布、干燥形成电荷产生层的情况下，电荷产生材料和粘合剂树脂的组成比，以重量比计优选在10∶1～1∶10的范围中，特别优选为1∶1～1∶3。
作为电荷输送材料，可采用正性空穴输送材料和/或电子输送材料。作为正性空穴输送材料，低分子化合物可举出例如芘类、咔唑类、腙类、噁唑类、噁二唑类、吡唑啉类、芳基胺类、芳基甲烷类、联苯胺类、噻唑类、芪类、丁二烯类等化合物。此外，高分子化合物可例举出聚N-乙烯基咔唑、卤化聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基芘、聚乙基蒽、聚乙烯基吖啶、芘-甲醛树脂、乙基咔唑-甲醛树脂、三苯基甲烷聚合物、聚硅烷等。
作为电子输送材料，可以举出苯并醌类、四氰基乙烯类、四氰基醌二甲烷类、氟润滑脂类、呫吨酮类、菲那酮醌类、邻苯二甲酸酐类、二苯并醌类等有机化合物，和无定形硅、无定形硒、碲、硒-碲合金、硫化镓、硫化锑、氧化锌、硫化锌等无机材料。电子输送材料不限于上述列举的材料，此外在使用时可单独或将2种以上混合使用。
作为粘合剂树脂，优选采用疏水性并且可形成电绝缘膜的高分子聚合物。作为这种高分子聚合物，可列举出聚碳酸酯、聚酯、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯基醋酸酯、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈聚合物、氯化乙烯-醋酸乙烯共聚物、氯化乙烯-醋酸乙烯-马来酸酐共聚物、硅树脂、硅-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基丁醛树脂、聚乙烯福尔马林、聚砜等。粘合剂树脂不限于上述列举的树脂，此外，使用时可单独或将2种以上混合使用。
此外，这些粘合剂树脂还可以与触变改性剂、增塑剂、增感剂、表面改性剂等的添加剂一起使用。
作为触变改性剂，可以举出氧化钛、硫酸钡、二氧化硅、氧化锌等微粒，酰胺类、蓖麻油类等流动性改进剂、增稠剂等。
作为增塑剂，可列举出联苯、氯化联苯、邻-三联苯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二乙二醇酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三苯酯、甲基萘、二苯甲酮、氯化蜡、各种氟代烃等。
作为增感剂，可以举出氯醌、四氰基乙烯、甲基紫、罗丹明B、花青染料、部花青染料、吡喃 染料、硫代吡喃 染料等。作为表面改性剂，可以举出硅油、氟树脂等。
此外，随着电子照相感光体用基体和感光层之间的粘结性提高，为了阻止自由电荷从电子照相感光体用基体向感光层注入，在电子照相感光体用基体的感光层之间，也可以根据需要设置粘结剂层和阻挡层(以下称为底层)。
作为底层所用的材料，除了在上述粘合剂中所用的高分子化合物以外，还可以举出酪蛋白、明胶、聚乙烯醇、乙基纤维素、酚醛树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、羧基-甲基纤维素、偏二氯乙烯类聚合物乳胶、聚氨酯、氧化铝、氧化锡、氧化钛等。
底层上的粘结剂或者作为赋予阻挡功能的物质不限于上述物质，还可以使用其它公知的物质，在使用时，可单独或将2种以上物质混和使用。在设置底层时，其膜厚可在0.005微米以上～12微米以下，优选为0.01微米以上～2微米以下。
在制造电子照相感光体用涂布液时，在将上述电荷产生材料、电荷输送材料分散、溶解在粘合剂树脂溶液中的情况下，溶解粘合剂树脂的溶剂可从不溶解下层形成的层的溶剂中选择。作为具体的溶剂，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、苯甲醇等醇类，或丙酮、甲乙酮、环己酮、异佛尔酮、乙酰乙酸酯等酮类，或者N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺等酰胺类，四氢呋喃、二氧六环、甲基溶纤剂、二甘醇二甲醚等醚类、或醋酸甲酯、醋酸乙酯、碳酸二乙酯等酯类；二甲基亚砜、环丁砜等亚砜和砜类；或二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、1，1，2-三氯乙烷等脂肪族卤代烃类；或苯、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、单氯代苯、二氯代苯等芳香族类等。溶剂不限于上述物质，在使用时可单独或将2种以上物质混和使用。
图9为简略表示电子照相感光体21结构的部分截面图。在图9中示出通过采用涂布装置1的涂布法，将电子照相感光体用涂布液涂布在电子照相感光体用基体22上制成的叠层型电子照相感光体21的构成实例。在电子照相感光体21上设置底层23。在电子照相感光体用基体22的表面上涂布底层用涂布液，通过干燥形成底层23。在底层23上涂布电荷产生层用涂布液，通过干燥形成电荷产生层24。进一步在电荷产生层24上涂布电荷输送层用涂布液，通过干燥形成电荷输送层25。所形成的电荷产生层24和电荷输送层25构成感光层26。
分别将作为电子照相感光体用涂布液的底层用涂布液、电荷产生层用涂布液和电荷输送层用涂布液的损失正切tanδ调整至1以上～10以下。
各涂布液的损失正切tanδ值的调整，例如可通过分散如AERO SIL(商品名日本アエロジル社制造)的SiO2纳米级颗粒，或者添加各种触变性赋予剂等触变改性剂来实施。
根据上述图5～图8中所说明的涂布法，采用涂布装置1将调整至所希望的tanδ值的各种涂布液分别进行涂布，形成各层的涂膜。由此制成的电子照相感光体21具有均匀性优异的感光层26，并且无膜厚不均匀和接缝现象。
图10为简略示出具有本发明电子照相感光体21的电子照相装置30的结构配置侧面图。以下参照图10对具有本发明电子照相感光体21的电子照相装置30的结构及其操作进行说明。在此，作为电子照相装置30的实例为复印机30。
复印机30的结构大致包含扫描部分31、激光记录部分32。扫描部分31包含由透明玻璃形成的原稿载置台33、与双面对应的自动原稿输送装置(RADF)34和作为原稿图像读取元件的扫描元件35。RADF34自动地将原稿输送至原稿载置台33上。扫描元件35对载于原稿载置台33上的原稿图像进行扫描、读取。在该扫描部分31读取的原稿图像作为图像数据被输送至图像数据输入部，对图像数据进行预定的图像处理。在RADF34上，在RADF34中未示出的原稿盘上一次性地固定多张原稿。RADF34是一种将固定的原稿一张一张地自动地输送至原稿载置台33上的装置。另外，为了使得RADF34可根据操作者的选择，在扫描元件35上对原稿的单面和双面进行读取，其结构中还包含用于单面原稿的输送路径、用于双面原稿的输送路径、输送路径切换装置、通过各部分时对原稿状态进行掌握管理用的传感组件以及控制部分等。
扫描元件35包含灯管反射器组件36、第一扫描元件38、第二扫描元件41、光学透镜42和光电变换元件(CCD)43。灯管反射器组件36对原稿面上部进行曝光。第一扫描元件38搭载有对原稿的反射光进行反射的第1反射镜37，用于将从原稿发出的反射光像导入至CCD成像传感器43上。第二扫描元件41搭载有第2和第3反射镜39、40，用于将从第1反射镜37发出的反射光像导入至CCD成像传感器43上。光学透镜42通过上述各反射镜37、39和40，将从原稿发出的反射光像变换为电图像信号，在CCD成像传感器43上进行成像。CCD成像传感器43接受从原稿发出的反射光像，将其变换为对应于该反射光像的电信号。
扫描部31的结构是，其通过RADF34和扫描元件35的关联操作，将应在原稿载置台33上读取的原稿依次输送载置，同时沿着原稿载置台33的下面使扫描元件35移动，对原稿图像进行读取。第一扫描元件38沿着原稿载置台33在原稿图像的读取方向上(在图10中为朝向纸面方向的从左到右)以一定速度V进行扫描，而第2扫描元件41相对该速度V以其一半的速度(V/2)在同一方向上平行地扫描。由该第1和第2扫描元件38、41的操作，将载置在原稿载置台33上的原稿图像的每一行依次在CCD成像传感器43上成像，对图像进行读取。
由扫描元件35读取原稿图像所得到的数据被送至图像处理部，对各种图像进行处理后，将进行过各种图像处理后的图像数据暂时地存储在图像处理部的存储器中。为了在作为记录介质的记录纸上形成图像，根据输出指示读取存储器内的图像数据，并输送至激光记录部32处。
激光记录部32具有记录纸的输送系统53、激光书写元件46、形成图像用的电子照相处理部47。激光书写元件46具有半导体激光光源、多面棱镜和F-θ棱镜等。半导体激光光源根据上述扫描元件35读取的、存储在存储器中的、从存储器中读取的图像数据，或者对应从外部装置输送的图像数据射出激光。多面棱镜使得激光等角速度偏移。F-θ棱镜使得以等角速度偏移的激光等角速度地偏向具有电子照相处理部47的电子照相感光体21，以进行补正。
电子照相处理部47在电子照相感光体21的周围，按照箭头52所示的从电子照相感光体21的旋转方向的上游侧向下游侧依次具有带电器48、作为显影设备的显影器49、作为转印设备的转印器50、作为清洁设备的清洁器51。电子照相感光体21由带电器48均匀带电，在带电状态下，采用从激光书写元件46发出的对应于原稿图像数据的激光进行曝光。通过曝光，在电子照相感光体21的表面上形成静电潜象，通过从显影器49供给的调色剂进行显影，形成作为可见影像的调色剂图像。在电子照相感光体21表面上形成的调色剂图像由以下所述的输送系统53输送至记录纸上，由转印器50进行转印。
记录纸输送系统53含有输送部分54、第1～第3盒式给纸装置55、56、57、手动给纸装置58、定影器59和再次供给通路60。输送部分54将记录纸输送至用于形成图像的电子照相处理部47的、特别是转印器50所配置的转印位置处。第1～第3盒式给纸装置55、56、57将记录纸送至输送部分54。手动给纸装置58对所希望尺寸的记录纸进行适宜地给纸。定影器59对从电子照相感光体21转印至记录纸上的图像，特别是调色剂图像进行定影。再供给通路60，为使在调色剂图像定影后的记录纸内表面(形成调色剂图像的表面的相反侧表面)上进一步形成图像而再次供给记录纸。在该输送系统53的输送通路上设置了多个输送辊61，记录纸由输送辊61输送至输送系统53内的预定位置上。
由定影器59对调色剂图像进行了定影处理的记录纸被送至应该用于在内表面上形成图像的再供给通路60，或者通过排纸辊62送至后处理装置63。送至再供给通路60的记录纸，反复执行上述操作，从而在内表面上形成图像。送至后处理装置63的记录纸，实施后处理后，由作为根据后处理工序确定的排纸端部，排入到第1或第2排纸盒64、65中的任何一个，由此完成复印机30中一连串的图像形成操作。
复印机30具有电子照相感光体21，该感光体21具有无膜厚不均、接缝现象的均匀性优异的感光层26，因此可形成品质优异的图像。
(实施例)以下对本发明的实施例进行说明。在本实施例中，尽管是对电子照相感光体的制作为例进行说明的，但是本发明不限于电子照相感光体，也可以在其它领域中对圆筒状基体进行涂布液的涂布。
(涂布液的制作)<p>表2
之后，对13片掩模基板A～M的第1及第2区域的表面形状分类为凸型、凹型、鞍型及半圆锥型。表面形状为单纯凸型形状的掩模基板A的第1及第2区域的表面形状都为凸形。另一方面，带边帽子形状的掩模基板B的表面形状在第1区域为凸形，而在第2区域为凹形。
从表2可知，通过利用真空吸盘吸附，第一区域的平面形状恶化的掩模基板的第2区域的表面形状为凹形和鞍形。另外，表面形状为半圆锥型的掩模基板C、D、H、I、L、M根据掩模台上的掩模基板的配置方向的不同而显示不同的结果。除了将电荷产生层用涂布液A1中使用的AEROSIL R974的重量变更为1.5重量份以外，按照与制作电荷产生层用涂布液A1一样的方法制作电荷产生层用涂布液C1。除了将电荷产生层用涂布液A1中使用的AEROSIL R974的重量变更为3重量份以外，按照与制作电荷产生层用涂布液A1一样的方法制作电荷产生层用涂布液D1。除了将电荷产生层用涂布液A1中使用的AEROSIL R974的重量变更为5重量份以外，按照与制作电荷产生层用涂布液A1一样的方法制作电荷产生层用涂布液E1。将表3中所示的材料用均质器分散10分钟，制作电荷输送层用涂布液A2。
表3
化3 除了将电荷输送层用涂布液A2中使用的AEROSIL R972的重量变更为3重量份以外，按照与制作电荷输送层用涂布液A2一样的方法制作电荷输送层用涂布液B2。
除了将电荷输送层用涂布液A2中使用的AEROSIL R972的重量变更为15重量份以外，按照与制作电荷输送层用涂布液A2一样的方法制作电荷输送层用涂布液C2。除了将电荷输送层用涂布液A2中使用的AEROSIL R972的重量变更为30重量份以外，按照与制作电荷输送层用涂布液A2一样的方法制作电荷输送层用涂布液D2。除了将电荷输送层用涂布液A2中使用的AEROSIL R972的重量变更为40重量份以外，按照与制作电荷输送层用涂布液A2一样的方法制作电荷输送层用涂布液E2。
使用旋转型触变计量器AR1000(TAインスツルメント社制造)、在20℃的测定温度下，使用直径为60mm的平行板，在频率扫描模式下对按照上述方式制成的各种涂布液进行动态粘弹性测定，测量在频率6.28弧度/秒下的损失正切tanδ的值。损失正切tanδ的测量结果示于表4。
表4
(对电子照相感光体用基体的涂布液的涂布)采用涂布装置1，将上述电荷产生层用涂布液A1～E1和电荷输送层用涂布液A2～E2涂布在电子照相感光体用基体上，制作出实施例1～7的电子照相感光体和比较例1～5的电子照相感光体。
电子照相感光体用基体采用直径为30mm、长度为335mm、壁厚为1mm的铝制圆筒。涂布辊采用直径为400mm、长度为400mm的硅橡胶辊。涂布液供给辊采用直径为400mm、长度为400mm的不锈钢制辊。
在涂布液供给辊的表面上，在辊的轴线方向上和在整个335mm的长度范围中无间隙地形成多个4角锥状的细微凹处，形成细微的凹部。4角锥状的细微凹处的尺寸，4角锥的底边为60微米×60微米、4角锥的高度即细微凹处的深度为50微米。在细微凹部周向的两个端部处，形成凹处深度减小的部分，在凹处深度减小的部分处，细微凹处的深度从50微米逐渐的连续变化到0。该凹处深度减小部分的辊周向长度L2达到10mm。
采用2个同样材质和同样尺寸的辊作为涂布液供给辊。即，在涂布电荷产生层用涂布液的情况下，所用涂布液供给辊的有效长度L为电子照相感光体用基体周长(30πmm)的2倍，即60π(＝2×30π)mm，由此形成细微凹部。此外，在涂布电荷输送层用涂布液的情况下，所用涂布液供给辊的有效长度L为电子照相感光体用基体周长(30πmm)的5倍，即150π(＝5×30π)mm，由此形成细微凹部。即，在电子照相感光体用基体上涂布电荷产生层用涂布液的情况下进行2次重复涂布，而在电子照相感光体用基体上涂布电荷输送层用涂布液的情况下进行5次重复涂布。采用电荷产生层用涂布液B1以50m/分钟的涂布速度进行涂布，涂布后在130℃下干燥20分钟，形成电荷产生层。电荷产生层的膜厚为2微米。在形成有电荷产生层的电子照相感光体用基体上采用电荷输送层用涂布液C2以50m/分钟的涂布速度进行涂布，涂布后在130℃下干燥60分钟，形成电荷输送层。制作出实施例1的电子照相感光体。由电荷产生层和电荷输送层构成的感光层的膜厚为22微米。
在该实施例1的电子照相感光体和以下制作的各个电子照相感光体中，在形成电荷产生层和形成电荷输送层时，电荷产生层的膜厚和由电荷产生层和电荷输送层构成的感光层的膜厚，采用瞬间多测光系统MCPD-1100(大塚电子社制作)进行测定。
除了采用电荷产生层用涂布液C1进行电荷产生层的涂布以外，按照与实施例1的电子照相感光体一样的方式制作实施例2的电子照相感光体。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米。除了采用电荷产生层用涂布液D1进行电荷产生层的涂布以外，按照与实施例1的电子照相感光体一样的方式制作实施例3的电子照相感光体。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米。除了采用电荷输送层用涂布液B2进行电荷输送层的涂布以外，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作实施例4的电子照相感光体。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米。除了采用电荷输送层用涂布液D2进行电荷输送层的涂布以外，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作实施例5的电子照相感光体。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米。除了将电荷产生层用涂布液涂布时的涂布速度以及电荷输送层用涂布液涂布时的涂布速度均调整为10m/分以外，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作实施例6的电子照相感光体。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米。除了将电荷产生层用涂布液涂布时的涂布速度以及电荷输送层用涂布液涂布时的涂布速度均调整为300m/分以外，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作实施例7的电子照相感光体。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米。
图11A和11B为表示实施例1的电子照相感光体中的周向膜厚的图。图11A中的线71表示在形成电荷产生层时电荷产生层周向上的膜厚测定结果，图11B中的线72表示在形成电荷输送层时，电荷产生层的膜厚和电荷输送层的膜厚加合而成的感光层在周向上的膜厚测定结果。此外，实施例2～实施例7的电子照相感光体中的膜厚测定结果倾向于与实施例1的电子照相感光体中的膜厚测定结果一致，因此，以实施例1的电子照相感光体的测定结果为代表，省略了图示。如图11A和11B所示，在实施例的电子照相感光体中，可制造出均匀性良好的涂膜的电子照相感光体，其中电荷产生层和感光层，即与电荷输送层都无膜厚不均和接缝现象。除了采用电荷产生层用涂布液A1涂布电荷产生层以外，按照与实施例1的电子照相感光体一样的方式制作比较例1的电子照相感光体。图12A和12B为表示比较例1的电子照相感光体中的周向上的膜厚的图。图12A中的线73表示电荷产生层周向上的膜厚测定结果，图12B中的线74表示感光层周向上膜厚的测定结果。电荷产生层和感光层均未产生接缝现象，但是电荷产生层的膜厚不均匀，在0.1微米～2微米的范围内，此外，感光层的膜厚也不均匀，在20微米～22微米的范围内，由于电荷产生层的膜厚不均匀造成膜厚不均匀。除了采用电荷产生层用涂布液E1涂布电荷产生层以外，按照与实施例1的电子照相感光体一样的方式制作比较例2的电子照相感光体。图13A和13B为表示比较例2的电子照相感光体中周向上的膜厚的图。图13A中的线75表示电荷产生层周向上的膜厚测定结果，图13B中的线76表示感光层周向上膜厚的测定结果。电荷产生层的最大膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米，即使最大膜厚均匀，但是可以确认在电荷产生层的涂膜上由于涂布液供给辊的细微凹部而引起的细微膜厚不均现象。除了采用电荷输送层用涂布液A2涂布电荷输送层以外，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作比较例3的电子照相感光体。图14A和14B为表示比较例3的电子照相感光体中周向上的膜厚的图。图14A中的线77表示电荷产生层周向上的膜厚测定结果，图14B中的线78表示感光层周向上膜厚的测定结果。电荷产生层的膜厚为2微米，大致是均匀的，但是感光层的膜厚不均匀，在10微米～22微米的范围内，并且在电荷输送层上产生膜厚不均现象。除了采用电荷输送层用涂布液E2涂布电荷输送层以外，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作比较例4的电子照相感光体。图15A和15B为表示比较例4的电子照相感光体中周向上的膜厚的图。图15A中的线79表示电荷产生层周向上的膜厚测定结果，图15B中的线80表示感光层周向上膜厚的测定结果。电荷产生层的膜厚为2微米，大致是均匀的，感光层的膜厚为22微米，不产生大的膜厚不均现象，但是在电荷输送层上产生浑浊的膜。据推测其原因是由于流平性不足，造成涂布液供给辊的细微凹部图案残留在电荷输送层表面上形成的。除了另外制备涂布液供给辊82，该辊中在如图16所示的细微凹部81的周向两端上未形成凹处深度减少部分以外，仅对比较例5的电子照相感光体，按照与实施例2的电子照相感光体一样的方式制作比较例5的电子照相感光体。图17A和17B为表示比较例5的电子照相感光体中周向上的膜厚的图。图17A中的线83表示电荷产生层周向上的膜厚测定结果，图17B中的线84表示感光层周向上膜厚的测定结果。电荷产生层的膜厚为2微米，感光层的膜厚为22微米，但是在电荷产生层和电荷输送层的接缝部分在周向上可观察到筋状延伸的涂膜缺陷。
(图像质量评价实验)将实施例1～7的电子照相感光体和比较例1～5的电子照相感光体安装在SHARP株式会社数字复印机AR-M450上，形成全面的中间色调图像。在所形成的中间色调图像中，可肉眼观察浓度不均和图像不均现象，由此进行图像质量评价。
评价的结果汇总于表5。实施例1～7的电子照相感光体形成的图像不发生浓度不均和图像不均现象，形成良好品质的图像。另一方面，在比较例1～5的电子照相感光体中，产生浓度不均或筋状图像的不均现象，是实用上存在问题的某种等级的图像。
表5
如上所述，在本实施方案中，涂布液供给辊5上形成的细微凹处8a的形状为4角锥状，但是本发明不限于该形状，也可以为半球状或者其它形状。
在不脱离本发明主要特征的前提下，本发明还可以有许多其它的实施方案。因此，上述实施方案在所有方面不过是用于例举，本发明的范围为权利要求所述的范围，说明书对其没有任何限定作用。
此外，对属于权利要求范围中的变形和变更也全部落在本发明的范围内。
权利要求
1.一种对圆筒状基体(2)涂布涂布液(3)的涂布装置(1)，其特征在于，包含对圆筒状基体(2)涂布涂布液(3)的涂布辊(4)，该辊以与圆筒状基体(2)相接触的方式设置；向涂布辊(4)供给涂布液(3)的涂布液供给辊(5)，该涂布液供给辊(5)具有在周向上长度的至少一部分上形成多个细微凹处(8a)的细微凹部(8)，并且在细微凹部(8)周向的两个端部附近，在细微凹部(8)的周向上随着远离中央，细微凹处(8a)以深度减小的方式形成；以及控制附着在涂料供给辊(5)表面上的涂料量的涂液量控制构件(6)；(a)涂布液(3)在频率6.28弧度/秒处，作为损失模量(G”)和贮藏模量(G’)之比的损失正切tanδ(＝G”/G’)在1以上～10以下，(b)在涂布液供给辊(5)的细微凹部(8)中，所形成的深度几乎相等的细微凹处(8a)部分的周向长度L1和以深度减小的方式形成的部分(9a、9b)之一的(9a)的周向长度L2之和L(＝L1+L2)为圆筒状基体(2)的周长Lc的n倍(n为1以上的整数)。
2.如权利要求1的对圆筒状基体(2)的涂布液(3)涂布装置(1)，其中，细微凹处(8a)形成为4角锥状。
3.如权利要求1或2所述的对圆筒状基体(2)的涂布液(3)涂布装置(1)，其中，圆筒状基体(2)为电子照相感光体用基体(22)。
4.一种对圆筒状基体(2)涂布涂布液(3)的方法，其对圆筒状基体(2)涂布涂布液(3)，其特征在于准备涂布液，该涂布液在频率6.28弧度/秒处，作为损失模量(G”)和贮藏模量(G’)之比的损失正切tanδ(＝G”/G’)在1以上～10以下；在涂布液供给辊(5)的表面附着涂布液，所述涂布液供给辊(5)在周向长度的至少一部分上形成了具有多个细微凹处(8a)的细微凹部(8)，在细微凹部(8)的周向两个端部附近处，在细微凹部(8)的周向上随着远离中央，细微凹处(8a)深度以减小的方式形成，在细微凹部(8)中，所形成的深度几乎相等的细微凹处(8a)部分的周向的长度L1和以深度减小的方式形成的部分(9a，9b)之一的(9a)的周向的长度L2之和L(＝L1+L2)为圆筒状基体(2)周长Lc的n以上的整数)；将涂布液供给辊(5)表面上附着的涂布液量控制为预定的量；从已控制了涂布液量的涂布液供给辊(5)向涂布辊(4)供给涂布液(3)；通过从涂布辊(4)向圆筒状基体(2)接触转印的方式涂布涂布液(3)。
5.一种电子照相感光体(21)，其特征在于，圆筒状基体(2)为电子照相感光体周基体(22)，并且根据权利要求4所述的对圆筒状基体(2)涂布涂布液(3)的方法制造。
6.一种电子照相装置(30)，其特征为具有上述权利要求5所述的电子照相感光体(21)。
全文摘要
一种涂布装置(1)，其中从涂布液供给辊(5)向涂布辊(4)供给涂布液，并通过从涂布辊(4)向圆筒状基体(2)接触转印进行涂布液涂布。涂布所用的涂布液(3)在频率6.28弧度/秒处的损失正切tanδ为1～10。涂布液供给辊(5)在其周向长度的至少一部分上具有细微凹部(8)，在细微凹部(8)的周向两个端部附近处具有以细微凹处(8a)深度减小的方式形成的凹部深度减少部(9a，9b)。在细微凹部(8)中，所形成的深度几乎相等的细微凹处(8a)部分的周向的长度L1和一侧的凹处深度减少部分(9a)的周向长度L2之和L(＝L1+L2)为圆筒状基体(2)的周长Lc的整数倍(n为1以上)。
文档编号G03G15/10GK1652031SQ20041009818
公开日2005年8月10日 申请日期2004年10月25日 优先权日2003年10月24日
发明者石田一也, 小幡孝嗣, 和所纯一 申请人:夏普株式会社