专利名称：液晶面板的制作方法
技术领域：
本发明有关于液晶面板，特别有关于液晶面板中排列凸块的设计。
背景技术：
现今主流的广视角液晶面板大都采用多区域垂直排列(Multi-domainVertical Alignment，MVA)技术，其原理是在基板上形成排列凸块(alignmentprotrusion)，使液晶分子垂直该排列凸块。通过设计排列凸块的图案，可使液晶分子形成双区域排列、四区域排列、甚至多区域排列。由于液晶分子的方向在亮态时并非只朝向单一方向，因此使用者在液晶面板前不同角度的位置，均可观赏到正常的图像。在液晶面板尺寸日趋增加的趋势下，MVA技术可改善视角至接近90度。
一般作为排列凸块的材料为常见的光刻胶材料如正光刻胶或负光刻胶。图案化后的光刻胶材料因形成透明的排列凸块，而有暗态漏光的问题。如图1所示，为公知技术的液晶面板1，包括彩色滤光片基板11、阵列基板13、以及夹设在两者间的液晶层17。彩色滤光片基板11为层状结构，在透明的排列凸块10下依序为透明导电层11a、彩色滤光片11b、以及透明基板11c；阵列基板13为层状结构，依序为具有对应排列凸块10的狭缝15的透明导电层13a、保护层13b、介电层13c、以及透明基板13d。在暗态时，排列凸块10附近的液晶分子17a与其它区域的液晶分子17b不同，并不会垂直基板。因此当入射光穿过液晶时将产生相位差，产生漏光，如漏光曲线19所示。漏光曲线19的纵轴为漏光强度，横轴对应彩色滤光片基板11上排列凸块10的位置。
发明内容
鉴于上述现有技术不足，提出本发明。
本发明提供一种液晶面板，包括基板，该基板包括至少一个排列凸块，其中该排列凸块的光学密度约为0.3/μm至3/μm；相对基板，与基板相对设置；以及液晶层，位于基板与相对基板之间。
如上所述的液晶面板，其中该基板为彩色滤光片基板或阵列基板。
如上所述的液晶面板，其中该基板包含共通电极，其与该排列凸块至少部分重叠。
如上所述的液晶面板，其中该相对基板包含共通电极，其与该排列凸块至少部分重叠。
如上所述的液晶面板，其中该排列凸块的颜色包括红色、蓝色、绿色、青色、紫红色、灰色、棕色或黄色。
如上所述的液晶面板，其中该排列凸块的剖面形状包括圆形、椭圆形、三角形、梯形、正方形、或矩形。
如上所述的液晶面板，其中该相对基板具有对应该排列凸块的至少一个狭缝。
如上所述的液晶面板，其中该相对基板包括对应该排列凸块的至少一个另一排列凸块。
如上所述的液晶面板，其中该另一排列凸块的光学密度与该排列凸块的光学密度实质上相同。
如上所述的液晶面板，其中该排列凸块的材料包括无机化合物、有机化合物、金属氧化物、碳黑、染料、颜料或上述组合。
本发明可解决排列凸块造成的暗态漏光问题。
图1为公知技术中，采用透明排列凸块的液晶面板剖面图与对应的漏光曲线；图2为本发明优选实施例中，采用适当光学密度的排列凸块的液晶面板剖面图与对应的漏光曲线；以及图3为本发明另一优选实施例中，采用另一排列凸块对应排列凸块的液晶面板剖面图。
其中，附图标记说明如下1、2、3～液晶面板10、20～排列凸块11、21～彩色滤光片基板 11a、13a、21a、23a～透明导电层
11b、21b～彩色滤光片11c、13d、21c、23d～透明基板13、23～阵列基板13b、23b～保护层13c、23c～介电层15、25～狭缝17、27～液晶层 17a、17b、27a、27b～液晶分子19、29～漏光曲线24～共通电极30～另一排列凸块具体实施方式
如图2所示，本发明优选实施例的液晶显示面板2具有彩色滤光片基板21、阵列基板23、以及夹设在两者间的液晶层27。彩色滤光片基板21为层状结构，在排列凸块20下依序为透明导电层21a、彩色滤光片21b、以及透明基板21c。阵列基板23为层状结构，依序为具有对应排列凸块20的狭缝25的透明导电层23a、保护层23b、介电层23c、以及透明基板23d。在暗态时，排列凸块20附近的液晶分子27a与其它区域的液晶分子27b不同，并不会垂直基板。透明导电层21a与23a可为相同或不同材料，如铟锡氧化物(ITO)、铝锌氧化物(AZO)、铟锌氧化物(IZO)、或镓锌氧化物(GZO)。保护层23b一般为氧化硅、氮化硅、或氮氧化硅。介电层23c优选为氧化硅、氮化硅、或氮氧化硅。透明基板21c及23d可为相同或不同的透明材料，如玻璃、塑料、石英、或其它可挠性材料。
液晶面板2与液晶面板1的差异在于排列凸块20的光学密度(opticaldensity，OD)介于0.3/μm至3/μm之间，优选介于0.8/μm至1.3/μm之间。光学密度的定义为log(1/T)，T为穿透率(0至100％)。若排列凸块为穿透率是100％的透明材质时，光学密度为0。当排列凸块为穿透率趋近于0的黑色材质时，光学密度则趋近于无限大。由于越厚的排列凸块，其光学密度越大，为清楚定义，本发明的光学密度以μm为单位。由于排列凸块20的光学密度在上述的范围内，因此可以降低透明的排列凸块10造成的暗态漏光。
图2的漏光曲线29明显比图1的漏光曲线19改善许多。可以想见的是，排列凸块20的光学密度越高，则漏光曲线越平缓，直到形成水平线。但本发明排列凸块20的光学密度的上限为3，因为太高的光学密度将使彩色滤光片基板及阵列基板上的对准记号(未图示)无法对准。可以理解的是，若彩色滤光片基板上的对准记号被排列凸块遮住，则在曝光工艺阶段时，可能无法检测到彩色滤光片基板上的对准记号。即使采用对准记号避开排列凸块的设计，黑色排列凸块也会造成开口率下降。而本实施例的排列凸块20采用的光学密度则可避免上述黑色排列凸块造成的问题，且不需重新设计对准记号及排列凸块的配置图，可节省成本。
上述的排列凸块20的材质可为有机材料、无机材料、或两者混合的复合材料。排列凸块20的光学密度是以金属氧化物、碳黑、染料、颜料或上述组合作调控，上述物质在排列凸块20的浓度越高，则光学密度越大。故其添加量将视其所需的光学密度作适当调整。可以想见的是，可选用不同颜色的金属氧化物、碳黑、染料、或颜料使排列凸块20具有不同的颜色，如红色、蓝色、绿色、青色、紫红色、灰色、棕色或黄色。在本实施例中，可将阵列基板23的共通电极24与排列凸块20至少部分重叠以提高开口率。
虽然在图2中的排列凸块20的剖面为三角形，但所属领域技术人员应可理解此处的排列凸块可采用其它剖面形状如圆形、椭圆形、三角形、梯形、正方形、或矩形。为了简化制造工艺及节省掩模成本，同一个液晶面板内的排列凸块最好具有相同的剖面形状。
虽然在图2中，排列凸块20位于彩色滤光片基板21上，且相对设置的基板为阵列基板23，但本发明的排列凸块20并不限定于形成在彩色滤光片基板上。举例来说，排列凸块20可形成于阵列基板23上，其对应的狭缝25形成于彩色滤光片基板21上。在本发明其它优选实施例中，如图3的液晶面板3，甚至可以采用另一排列凸块30取代狭缝的作用，且另一排列凸块30的光学密度优选与排列凸块20的光学密度相同。在本发明其它优选实施例中，液晶面板可采用彩色滤光片在阵列基板上(COA)或阵列基板在彩色滤光片上(AOC)，而排列凸块可设置于COA或AOC上，或设置在其相对基板。不论液晶面板采用何种基板，只要采用本发明中具有特定范围的光学密度的排列凸块，即可有效解决已知透明或黑色排列凸块所造成的问题。排列凸块20与30的材料、形状、大小或光学密度可为不同或相同。
虽然本发明已以多个优选实施例公开如上，然其并非用以限制本发明，任何所属领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作任意的变更与修饰，因此本发明的保护范围当视后附的权利要求所界定的范围为准。
权利要求
1.一种液晶面板，包括基板，包括至少一个排列凸块，其中该排列凸块的光学密度约为0.3/μm至3/μm；相对基板，与该基板相对设置；以及液晶层，位于该基板与该相对基板之间。
2.如权利要求1所述的液晶面板，其中该基板为彩色滤光片基板或阵列基板。
3.如权利要求1所述的液晶面板，其中该基板包含共通电极，与该排列凸块至少部分重叠。
4.如权利要求1所述的液晶面板，其中该相对基板包含共通电极，与该排列凸块至少部分重叠。
5.如权利要求1所述的液晶面板，其中该排列凸块的颜色包括红色、蓝色、绿色、青色、紫红色、灰色、棕色或黄色。
6.如权利要求1所述的液晶面板，其中该排列凸块的剖面形状包括圆形、椭圆形、三角形、梯形、正方形、或矩形。
7.如权利要求1所述的液晶面板，其中该相对基板具有对应该排列凸块的至少一个狭缝。
8.如权利要求1所述的液晶面板，其中该相对基板包括对应该排列凸块的至少一个另一排列凸块。
9.如权利要求8所述的液晶面板，其中该另一排列凸块的光学密度与该排列凸块的光学密度实质上相同。
10.如权利要求1所述的液晶面板，其中该排列凸块的材料包括无机化合物、有机化合物、金属氧化物、碳黑、染料、颜料或上述组合。
全文摘要
本发明提供一种具有适当光学密度的排列凸块的液晶面板。该液晶面板包括包括至少一个排列凸块的基板；相对基板，与该基板相对设置；以及液晶层，位于该基板与该相对基板之间。其中，排列凸块的OD范围介于0.3/μm至3/μm之间，优选介于0.8/μm至1.3/μm。本发明可解决排列凸块造成的暗态漏光问题。
文档编号G02F1/1339GK1949045SQ20061016042
公开日2007年4月18日 申请日期2006年11月20日 优先权日2006年11月20日
发明者田名峰, 吕婉华, 苏振嘉, 张庭瑞 申请人:友达光电股份有限公司