专利名称：图案修补方法
技术领域：
本发明是与图案的修补技术有关，特别是指通过激光及热转印的方式 来修补图案的一种图案修补方法。
背景技术：
按，已知的图案修补技术，例如中国台湾公告第1286271号"修补图 案的缺陷与修补图案的缺陷的方法"发明专利，其揭露出利用压膜工艺来 将一薄膜转印于一图案以及该图案所具有的缺陷上，再将位于缺陷上的薄 膜去除，并对该缺陷以一修补涂料涂布之，进行固化后，再将薄膜移除， 即完成修补的技术。
然而，上述的技术中，在修补时，会有一些缺点有待改进。例如在去 除缺陷上的薄膜时，不大容易刚好把薄膜去除得与缺陷的形状完全相同。 因此在涂布修补涂料时，很有可能造成涂料无法完全覆盖缺陷。或是例如 在移除薄膜时，是使用撕的方式来将薄膜撕下，此亦可能会损坏该图案上
的其它正常部位。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种图案修补方法，其可完整修复待修补 图案上的瑕疵点。
本发明的次一目的在于提供一种图案修补方法，其修补的过程中不会 有损坏其它正常部位的可能性。
缘是，为了达成前述目的，依据本发明所提供的一种图案修补方法，
包含有备置一基材，该基材上具有待修补图案，该待修补图案具有待修
补的瑕疵点；以激光光将该瑕疵点打掉，而使该待修补图案的被打掉的部位形成一待修补区；以热压方式将一修补层转印于该待修补区上，且该修
补层覆盖于该待修补图案以及该待修补区；以紫外线对该修补层于该待修 补区内进行曝光；以及移除未被曝光的该修补层。由此，可具有完整修复 以及不会对图案造成额外损伤的功效。
为了详细说明本发明的构造及特点所在，以下列举一较佳实施例并配 合
如后，其中
图1是本发明一较佳实施例的动作示意图。
图2是本发明一较佳实施例的动作示意图，显示激光光打掉瑕疵点的状态。
图3是本发明一较佳实施例的动作示意图，显示修补层转印于待修补
区的状态。
图4是本发明一较佳实施例的动作示意图，显示以紫外线曝光后的状态。
图5是本发明一较佳实施例的动作示意图，显示未曝光的修补层移除 后的状态。
具体实施例方式
本发明一较佳实施例所提供的一种图案修补方法，主要具有下列步
骤
首先，如图1所示，备置一基材11，该基材11上具有待修补图案12， 该待修补图案12具有待修补的瑕疵点14。本实施例中，该基材11可为一 光罩，或为一液晶面板，或为一彩色滤光片基板。
其次，如图2所示，以激光光将该瑕疵点14打掉，而使该待修补图 案12的被打掉的部位形成一待修补区16。
再来，如图3所示，以热压方式将一修补层18转印于该待修补区16 上，且该修补层18覆盖于该待修补图案12以及该待修补区16。
接着，如图4所示，以紫外线对该修补层18于该待修补区16域内进 行曝光。最后，如图5所示，移除未被曝光的该修补层18。在移除时是通过显 影液来洗去该修补层18。并且再将该显影液以纯水将之清洗移除，最后再 以烘烤方式将残留的水烘干。
上述方法，简单来说，就是先将瑕疵点14打掉而形成一待修补区16， 之后涂上一层修补层18以紫外线曝光固定的，再把多余的修补层18去除， 即完成对该瑕疵点14的修补。
由于使用紫外线来曝光，其照射区域容易控制，因此可以有效的对待 修补区16上的修补层18进行曝光，以固定曝光区域内的该修补层18，而 此种方式可确保位于该待修补区16内的该修补层18可以完整的被曝光而 固定，可达到完整的修补。而在移除该修补层18时，是以洗剂(显影液、 纯水)来进行移除或清洗，因此不会伤害到图案本身。
由上可知，本发明所可达成的功效在于
一、 完整的修复由本发明所提供的技术，可以完整的修复该待修补
图案上的瑕疵点，不会有修补不全的问题。
二、 不会对正常部位造成损坏由于本发明在移除多余的修补层时， 是以洗剂(显影液、纯水)来进行移除或清洗，因此不会对图案上其它正常 部位造成损坏。
权利要求
1.一种图案修补方法，其特征在于，包含有备置一基材，该基材上具有待修补图案，该待修补图案具有待修补的瑕疵点；以激光光将该瑕疵点打掉，而使该待修补图案的被打掉的部位形成一待修补区；以热压方式将一修补层转印于该待修补区上，且该修补层覆盖于该待修补图案以及该待修补区；以紫外线对该修补层于该待修补区内进行曝光；以及移除未被曝光的该修补层。
2. 依据权利要求1所述的图案修补方法，其特征在于，其中移除未 被曝光的修补层时，是通过显影液来洗去该修补层。
3. 依据权利要求2所述的图案修补方法，其特征在于，其中再将该显影液自该基板上移除。
4. 依据权利要求3所述的图案修补方法，其特征在于，其中移除该基板上的显影液时，是以纯水将该显影液清洗移除。
5. 依据权利要求4所述的图案修补方法，其特征在于，其中再将存留于该基板上的纯水以烘烤的方式移除。
全文摘要
一种图案修补方法，包含有备置一基材，该基材上具有待修补图案，该待修补图案具有待修补的瑕疵点；以激光将该瑕疵点打掉，而使该待修补图案的被打掉的部位形成一待修补区；以热压方式将一修补层转印于该待修补区上，且该修补层覆盖于该待修补图案以及该待修补区；以紫外线对该修补层于该待修补区内进行曝光；以及移除未被曝光的该修补层。由此，可具有完整修复以及不会对图案造成额外损伤的功效。
文档编号G03F1/00GK101609252SQ20081009964
公开日2009年12月23日 申请日期2008年6月17日 优先权日2008年6月17日
发明者王聪谕, 苏荣瑞, 蔡孟道 申请人:东捷科技股份有限公司