专利名称：镭射修补方法及其结构的制作方法
镭射修补方法及其结构
技术领域：
本发明是一种镭射成型模具，特别是关于一种利用光间隔物充当薄膜晶体管基板
与彩色滤光片基板之间的绝缘的镭射修补方法及其结构。背景技术：
现有技术在制作薄膜晶体管基板时，可能产生断路缺陷，如点缺陷或线缺陷，多半 以镭射修补处理。会产生断路缺陷的区域为扫描线(GE)或数据线(SD)的位置，先前技术 在镭射修补时的缺陷区域包括 1.请参照图l，第一玻璃基板58上表面由下至上依序设有一扫描线(GE)60、一绝 缘层(GI)62、一介电层64(BP)、一第一导电薄膜66及一第一配向膜68。
2.请参照图2，第一玻璃基板58上表面由下至上依序设有一扫描线(GE)60、一绝 缘层(GI)62、一讯号线(SD)82、一介电层(BP)64、一第一导电薄膜66及一第一配向膜68。
3.请参照图3，第一玻璃基板58上表面由下至上依序设有一扫描线(GE)60、一绝 缘层(GI)62、一讯号线(SD)82、一介电层(BP)64及一第一配向膜68。 4.请参照图4，第一玻璃基板上表面由下至上依序设有一绝缘层(GI)62、一讯号 线(SD)82、一介电层(BP)64、一第一导电薄膜66及一第一配向膜68。 上述4种结构在实施镭射修补时，常导致薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板两者 的共同电极(Vcom)断路，并缺陷区域呈现亮点或亮线，造成产品可靠度不佳及良率下降。
为此，本发明提出一种镭射修补方法及其结构，以改善上述缺陷。
发明内容
本发明的主要目的在提供一种镭射修补方法及其结构，其以多个光间隔物使薄膜 晶体管基板与彩色滤光片基板绝缘，降低镭射修补时的失败率。 本发明的另一目的在提供一种镭射修补方法及其结构，其在需要镭射修补区域范 围，制作出不导电的光间隔物，利用光间隔物充当薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板之间 的绝缘物质，就能避免因扫描线或数据线等金属层发生融熔、飞溅导致的薄膜晶体管基板 与彩色滤光片基板的Vcom断路的状况产生。 本发明提供一种镭射修补方法及其结构，其提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基 板，于第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间设有多个第一光间隔物，且于至少一特定区域 布置多个第二光间隔物，在第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间夹住一层液晶以成为一液 晶显示面板。当检测该液晶显示面板具有至少一缺陷时，根据缺陷的位置，将一激光束由第 一玻璃基板的正面打入，通过该第二光间隔物将激光束与该第二玻璃基板隔绝，便于进行 镭射修补的动作，在经过上述修补后的液晶显示面板中，于第一玻璃基板上对应于镭射修 补的位置会形成有已修补画素单元。其中，该等第二光间隔物所在之特定区域位于画素单 元与画素单元间的区域。本发明是在需要镭射修补区域范围，制作出不导电的光间隔物，利 用光间隔物充当薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板之间的绝缘物质，即能避免因扫描线或数据线等金属层发生融熔、飞溅导致的薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板的Vcom断路的 状况产生，降低镭射修补时的失败率。
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。 图1是现有技术的一实施例的镭射修补结构示意图； 图2是现有技术的另一实施例的镭射修补结构示意图； 图3是现有技术的又一实施例的镭射修补结构示意图； 图4是现有技术的再一实施例的镭射修补结构示意图； 图5是本发明的镭射修补结构示意图； 图6是本发明的一实施例的镭射修补结构示意图； 图7是本发明的另一实施例的镭射修补结构示意图； 图8是本发明的又一实施例的镭射修补结构示意图； 图9是本发明的再一实施例的镭射修补结构示意图； 图10是本发明的镭射修补方法的实施步骤示意图。
具体实施方式
本发明提供一种镭射修补方法及其结构。本发明的镭射修补结构包括一第一玻璃
基板及一第二玻璃基板，在第一玻璃基板及第二玻璃基板之间设有一层液晶、多个第一光
间隔物及多个第二光间隔物，第一光间隔物及第二光间隔物将第一玻璃基板及第二玻璃基
板间的距离固定以便液晶设于第一玻璃基板与第二玻璃基板之间。在本实施例中，第一玻
璃基板上有薄膜晶体管，第二玻璃基板上具有彩色滤光片，另外，第一光间隔物与第二光间
隔物的材料相同或不同皆可，第一光间隔物与第二光间隔物皆具有不导电的特性。 其中，第二光间隔物设于至少一特定区域，此特定区域是参照图5中的斜线部分。
图5中的Sl S3代表的是资料线，G1 G3代表的是扫描线。斜线部分50 (特定区域)主
要是ARRAY第一玻璃基板上具有扫瞄线(GE)、数据线(SD)，或者GE及SD都有的区域，斜线
部分即为画素单元与画素单元间的区域。 本发明利用该等第二光间隔物，根据缺陷的位置，将一激光束由第一玻璃基板的 正面打入，通过该等第二光间隔物将该激光束与该第二玻璃基板隔绝，便于进行镭射修补 的动作，在经过上述修补后的液晶显示面板中，于该第一玻璃基板上对应于镭射修补的位 置会形成有已修补画素单元。其中，激光束由一镭射头(包括一镭射系统及一光学系统) 提供一特定波长激光束。 关于第一基板结构可能出现的缺陷，为一种断路缺陷，如点缺陷或线缺陷，这些缺 陷出现于GE层或SD层。本发明可应用的范围包括第一玻璃基板上具有GE、SD，或者GE及 SD都有的区域。 因此本发明进行镭射修补时，修补区的第一基板结构可大致分为四种 1.请参照图6，第一玻璃基板58上表面由下至上依序设有一扫描线(GE)60、一绝
缘层(GI)62、一介电层64(BP)、一第一导电薄膜66及一第一配向膜68。 当激光束70由第一玻璃基板58的正面打入，通过该等第二光间隔物72将激光束70与第二玻璃基板74隔绝，便于进行镭射修补的动作。在经过上述修补后的液晶显示面板 中，于第一玻璃基板58上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。其中，第二玻 璃基板74具有多个黑色矩阵76，利用一第二导电薄膜78将该等黑色矩阵76包覆于第二玻 璃基板74后，于该第一导电薄膜78涂布一第二配向膜80。激光束70系由一镭射头(包括 一镭射系统及一光学系统)提供一特定波长激光束。 2.请参照图7，第一玻璃基板58上表面由下至上依序设有一扫描线(GE)60、一绝 缘层(GI)62、一讯号线(SD)82、一介电层(BP)64、一第一导电薄膜66及一第一配向膜68。
当激光束70由第一玻璃基板58的正面打入，通过该等第二光间隔物72将激光束 70与第二玻璃基板74隔绝，便于进行镭射修补的动作。在经过上述修补后的液晶显示面板 中，于第一玻璃基板58上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。其中，第二玻 璃基板74具有多个黑色矩阵76，利用一第二导电薄膜78将该等黑色矩阵76包覆于第二玻 璃基板74后，于该第一导电薄膜78涂布一第二配向膜80。激光束70由一镭射头(包括一 镭射系统及一光学系统)提供一特定波长激光束。 3.请参照图8，第一玻璃基板58上表面由下至上依序设有一扫描线(GE)60、一绝 缘层(GI)62、一讯号线(SD)82、一介电层(BP)64及一第一配向膜68。 当激光束70由第一玻璃基板58的正面打入，利用该等第二光间隔物72将激光束 70与第二玻璃基板74隔绝，便于进行镭射修补的动作。在经过上述修补后的液晶显示面板 中，于第一玻璃基板58上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。其中，第二玻 璃基板74具有多个黑色矩阵76，利用一第二导电薄膜78将该等黑色矩阵76包覆于第二玻 璃基板74后，于该第一导电薄膜78涂布一第二配向膜80。激光束70系由一镭射头(包括 一镭射系统及一光学系统)提供一特定波长激光束。 4.请参照图9，第一玻璃基板上表面由下至上依序设有一绝缘层(GI)62、一讯号 线(SD)82、一介电层(BP)64、一第一导电薄膜66及一第一配向膜68。 当激光束70由第一玻璃基板58的正面打入，通过该等第二光间隔物72将激光束 70与第二玻璃基板74隔绝，便于进行镭射修补的动作。在经过上述修补后的液晶显示面板 中，于第一玻璃基板58上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。其中，第二玻 璃基板74具有多个黑色矩阵76，利用一第二导电薄膜78将该等黑色矩阵76包覆于第二玻 璃基板74后，于该第一导电薄膜78涂布一第二配向膜80。激光束70由一镭射头(包括一 镭射系统及一光学系统)提供一特定波长激光束。 请参阅图10以便说明本发明的镭射修补方法。实施本发明的镭射修补方法时，首 先进行步骤S12，提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板，于该第一玻璃基板及该第二玻璃 基板之间设有多个第一光间隔物，且于至少一特定区域布置多个第二光间隔物，在该第一 玻璃基板及第二玻璃基板之间夹住一层液晶以成为一液晶显示面板。该第一玻璃基板上设 有薄膜晶体管，且该第二玻璃基板上具有彩色滤光片。其中，该等第一光间隔物与该等第二 光间隔物的材料，可以相同或不同。 进行步骤S14，对步骤S12中的液晶显示面板进行检测。如果步骤S12中的液晶显 示面板具有至少一缺陷时，则进行步骤S16，进行镭射修补；如果步骤S12中的液晶显示面 板无缺陷时，则进行步骤S18，结束。其中发生这些缺陷的位置，大多位于GE层或SD层，这 些缺陷为一种断路缺陷，如点缺陷或线缺陷。
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进行步骤S16时(镭射修补)，根据缺陷的位置，将一激光束由第一玻璃基板的正 面打入，通过该等第二光间隔物将激光束与第二玻璃基板隔绝，便于进行镭射修补的动作， 在经过上述修补后的液晶显示面板中，于第一玻璃基板上对应于镭射修补的位置会形成有 已修补画素单元。其中，该等第二光间隔物所在之特定区域是位于画素单元与画素单元间 的区域。本实施例之激光束是由一镭射头(包括镭射系统及光学系统)提供一特定波长激 光束。本发明是在需要镭射修补区域范围，制作出不导电的光间隔物，利用光间隔物充当薄 膜晶体管基板与彩色滤光片基板之间的绝缘物质，即能避免因扫描线或数据线等金属层发 生融熔、飞溅导致的薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板的Vcom断路的状况产生，降低镭射 修补时的失败率。 综上所述的实施例不过是本发明的优选最佳实施方案，不可理解为对本发明的保 护范围的限定，对于该领域内的技术工程人员根据本实施例所做的不超出本发明技术方案 的调整和改动，应该认为落在本发明的保护范围内。
权利要求
一种镭射修补方法，其特征在于包括下列步骤，(A)提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板，于该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间设有多个第一光间隔物，且于至少一特定区域布置多个第二光间隔物，在该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间夹住一层液晶以成为一液晶显示面板；以及(B)当检测该液晶显示面板具有至少一缺陷时，进行镭射修补，根据该缺陷的位置，将一激光束由该第一玻璃基板的正面打入，通过该第二光间隔物将该激光束与该第二玻璃基板隔绝，便于进行镭射修补的动作；(C)镭射修补后于该第一玻璃基板上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。
2. 根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于该第一玻璃基板及该第二玻璃 基板上分别具有薄膜晶体管及彩色滤光片。
3. 根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于该缺陷为一断路缺陷。
4. 根据权利要求3所述的镭射修补方法，其特征在于该断路缺陷是点缺陷或线缺陷。
5. 根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于该第一光间隔物与该第二光间 隔物相同或不同。
6. 根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于该特定区域是画素单元与画素 单元间的区域。
7. —种镭射修补结构，其特征在于包括， 一第一玻璃基板及一第二玻璃基板；一层液晶，位于该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间；多个第一光间隔物及多个第二光间隔物，位于该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之 间，且该等第二光间隔物设于至少一特定区域；以及利用该等第二光间隔物完成镭射修补，镭射修补后于该第一玻璃基板上对应于镭射修 补的位置会形成有已修补画素单元。
8. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于该第一玻璃基板及该第二玻璃 基板上分别具有薄膜晶体管及彩色滤光片。
9. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于于该第一玻璃基板上表面由下 至上依序设有一扫描线(GE)、一绝缘层(GI)、一介电层(BP)、一第一导电薄膜及一第一配 向膜。
10. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于于该第一玻璃基板上表面由下 至上依序设有一扫描线(GE)、一绝缘层(GI)、一讯号线(SD)、一介电层(BP)、一第一导电薄 膜及一第一配向膜。
11. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于于该第一玻璃基板上表面由下 至上依序设有一扫描线(GE)、一绝缘层(GI)、一讯号线(SD)、一介电层(BP)及一第一配向 膜。
12. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于于该第一玻璃基板上表面由下 至上依序设有一绝缘层(GI)、一讯号线(SD)、一介电层(BP)、一第一导电薄膜及一第一配 向膜。
13. 根据权利要求9或10或11所述的镭射修补结构，其特征在于该缺陷的位置位于该GE层。
14. 根据权利要求10或11或12所述的镭射修补结构，其特征在于该缺陷的位置位 于该SD层。
15. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于该等第一光间隔物与该等第二 光间隔物是相同或不同。
16. 根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于该特定区域是画素单元与画素 单元间的区域。
全文摘要
本发明提供一种镭射修补方法及其结构，其提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板，于第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间设有多个第一光间隔物，且于至少一特定区域布置多个第二光间隔物，在第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间夹住一层液晶以成为一液晶显示面板。当检测该液晶显示面板具有至少一缺陷时，进行镭射修补，完成后于第一玻璃基板上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。该技术能避免因扫描线或数据线等金属层发生融熔、飞溅导致的薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板的Vcom断路的状况产生，降低镭射修补时的失败率。
文档编号G02F1/13GK101762894SQ20091003656
公开日2010年6月30日 申请日期2009年1月9日 优先权日2009年1月9日
发明者陈秋权 申请人:深超光电(深圳)有限公司