膜、背光显示器、及其制备方法

专利名称：膜、背光显示器、及其制备方法
膜、背光显示器、及其制备方法
背景技术：
亮度增强膜可以用于多种应用，例如，室内照明、光导向装置、和液晶显示器 (LCD)(如在计算机监控器中找到的那些)。当用于LCD时，一种或多种亮度增强膜用来 增加导向观察者的光量。这使得可将较低亮度、从而也就更便宜的灯管用于LCD。背光 照在液晶显示器面板上以便在整个LCD显示器面板平面上如愿提供均一强度的光分布。 背光系统典型地引入光导管来将光能从光源耦合到LCD面板上。可将漫射元件的阵列沿 光导管的一个表面放置来使入射光线向输出平面散射。输出平面将光线导向并通过LCD 面板。背光可以使用具有棱柱或晶体结构的光调制光学基底以便沿观察轴(通常垂直于 显示器)引导光，并且以便将照明遍布于观察者空间。亮度增强光学基底和漫射膜组合 增强了使用者观看到的光的亮度，并减小产生目标照明水平所需的显示器功率。这种亮 度增加通常称作“增益”，其是使用亮度增强膜的照度与不使用亮度增强膜的照度的比 例，两者都是同轴测量，即，在与朝向观察者的膜的平面垂直的方向。还已知的是，放置两片光引导膜使其彼此邻近，使它们的棱柱近似彼此垂直， 从而进一步增加导向大概垂直于显示器的轴的光的量。尽管这种构造有效地增加了射出 显示器的同轴光的量，但是得到的结构在一定条件下可以显示出越过显示器表面区域的 不均勻的光透射。这种不均勻的光透射典型地通过显示器表面上视觉明显的亮点、斑 纹、或线来表现；由接触或非常密切接触的邻近的光引导膜的相邻片材表面之间的光学 耦合引起的条件，也称为“浸湿”。浸湿的发生是由一个片材的棱柱与另一个片材的光 滑表面之间的光学耦合所引起的。光学耦合防止沿这些峰发生内全反射。结果是使背光 具有了斑点和变化的外观。在显示器表面区域上透射光强度的这种视觉明显的变化是不 期望的。这种浸湿还发生于以下情况，当任何其它膜(如漫射膜，具有基本上光滑平坦 的底表面)置于棱柱膜顶部的时候。此外，对于供近景使用的显示器(如计算机显示器)中的亮度增强膜来说，美观 需求是非常高的。这是因为，当非常近地研究这样的显示器或使用这样的显示器一段较 长的时间时，即使很小的缺陷可能是可见的和令人烦恼的。消除这样的缺陷在检查时间 和废弃材料方面都可能是非常昂贵的。用于LCD的第二种类型的膜是漫射膜。如名字所暗示的，漫射膜将指向观看者 的光散射以便于减少干涉图，如莫尔图。这样的漫射体将掩盖很多缺陷，使这些缺陷对 于使用者来说是不可见的。这将显著改进制造产率，而仅会少量增加制造部件的成本。 这种方法的缺点是漫射体将使光散射从而减少同轴增益。因此，漫射体将增加产率，但 却以损害一些性能为代价。因此，对于保持增益而同时减少可见缺陷及浸湿的光学膜体系存在持续的需 求。

发明内容
本申请披露了膜、背光显示器、及其制备和使用的方法。
在一种实施方式中，膜可以包括表面，所述表面包括多个棱柱结构。每个棱柱 结构在W方向上的横向调制小于或等于所述棱柱结构平均间距的士20%。所述多个棱柱 结构可以具有w方向的棱柱峰高度的变量，该棱柱峰高度是不连续的和/或连续的。所述膜可以用于包括光源的背光显示器。在一种实施方式中，制备膜的方法包括在表面上形成多个棱柱结构，其中所 述多个棱柱结构具有在w方向上的横向调制，其小于或等于所述棱柱结构平均间距的 士20%，并且其中所述多个棱柱结构在棱柱峰高度的w方向上有变化，所述变化是不连 续的和/或连续的。以上描述的和其它的特征通过下面的附图和详述来示例。


现在参照附图，其是代表性的实施方式，其中相同的元件使用相同的附图标记。图1是示例性的棱柱膜的横断面图示。图2是示例性的具有可变棱柱间隔的棱柱膜的横断面图示。图3是具有调制的棱柱路径的膜的实施方式的透视图。图4是调制的棱柱路径(在w方向上沿1方向进行调制的)的截面的俯视图。图5是光束旋转和漫射的透视图，用以阐明弓形漫射。图6描述显示器背光。图7描述显示器背光。图8和10是峰高度h(j)的示例性轮廓。图9和11分别是对图8和10的轮廓进行调制的整个基底的高度变化的柱状图。图12(a)_12(d)阐明了在w方向上从轮廓取得的示例性的调制的表面高度图，其 中每个轮廓是1.7mm长，样品距离为1微米。图12(e)-12(h)各自以绘图方式阐明了在图12(a)-(d)中阐明的表面的示例性的
自相关函数。图13(a)-13(d)以绘图方式阐明了在w方向上从轮廓取得的图12(a)-(d)的调制 棱柱表面的f(x)的功率谱密度函数，其中每个轮廓是1.7mm长，样品距离为1微米。
具体实施例方式如上所解释，在光学膜中(例如，在亮度增强膜中)即使很小的缺陷也可以是可 见的和令人烦恼的。膜中的均勻周期可以由肉眼识别，而由此认为其自身已经有问题。 对于在保持增益时仍能避免浸湿和可见缺陷的膜存在需求。通过使用周期的正弦结构， 浸湿已经减少、甚至消除，其中棱柱峰是变化的并且最高的棱柱峰高度以一定间隔周期 性地出现(有时在簇(波束，cluster)或区域中)，所述间隔在w方向测量为大于或等于 五倍棱柱峰之间的距离(即，五倍的平均间距，其中所述平均间距在w方向的0.5毫米 (mm) 100mm的样品长度上测定)。1方向的间隔长度(最高的棱柱高度沿该1方向 变化)同等地大于或等于5倍的主片工具圆周(所述膜从该主片工具制得)，其中典型的 圆周为0.5米 1.0米。尽管这种周期的高点解决浸湿问题，但其将可见的周期引入到膜中，其本身显示为可见的条纹。已经出乎意料地发现，随着h方向的峰高度的正弦周期 与w方向的峰高度的轻微横向调制的组合(都沿棱柱长度发生，棱柱长度通常在1方向 上(见图4))，已经解决了浸湿问题，同时防止出现条纹，基本上保持和最小化生产损失 和浪费。出乎意料地，仅5% (平均间距的)的横向调制(例如，对于平均37 μ m的间 距，士2微米(μιη)的横向调制)与周期性的基本正弦的高度调制的结合(其中峰高度调 制频率足以避免邻近的准直膜之间的光学耦合)，可以基本上减少或消除浸湿而同时防止 出现条纹。在一种实施方式中，所述膜包括表面，该表面包括多个棱柱结构。每个棱柱结 构在w方向上的横向调制可以小于或等于所述棱柱平均间距的士20%。此外，所述多个 棱柱结构可以在棱柱峰高度上有变化，该棱柱峰高度是不连续的、连续的、或不连续的 和连续的两者的组合。棱柱结构可以具有包括正弦函数的高度变量。在一种实施方式中，膜包括表面，该表面包括多个棱柱结构。每个棱柱结构在 w方向上的横向调制是沿1方向上的每个棱柱的长度的士2μιη 士20μιη。所述多个棱 柱结构具有w方向上的沿1方向上每个棱柱长度的h方向的正弦高度调制，其中最高的棱 柱峰高度是周期性的，其在w方向测量的间隔为大于或等于平均间距的五倍。所述平均 间距在w方向的IOOmm样品长度上测定。同样地，最高的棱柱峰高度是周期性的，间隔 典型地大于或等于2.5米，沿1方向测得。w方向与1方向垂直。任选地，调制小于或等 于士 10微米，或小于或等于士5微米。棱柱结构具有沿长度1的高度调制。对于任何 在w方向上取得的轮廓来说，大多数棱柱峰可以为比最高的棱柱峰高度低0.5微米以上。 高峰的簇可以包括小于或等于3个峰并且各簇由大于或等于5个峰所隔开，其中簇是高度 为最高棱柱峰高度的士0.25微米以内的一组相邻峰。横向调制可以包括可变棱柱间隔。 任选地，高度调制可以是随机的或假随机的(pseudonrndom)。类似地，横向调制可以任 选地是随机的或假随机的。在另一种实施方式中，所述膜可以包括表面，该表面包括多个棱柱结构。每个 棱柱结构在w方向的横向调制是所述棱柱平均间距的士2% 士20%。所述多个棱柱结构 可以在w方向上棱柱峰高度有变化，所述变化是不连续的和/或连续的。在这些膜中， 最高的棱柱峰高度可以是周期性的，其在w方向测量的间隔为大于或等于平均间距的五 倍，其中所述平均间距在w方向的IOOmm样品长度上测定，其中所述间隔的w方向垂直 于1方向。同样，对于任何在w方向上取得前轮廓来说，大多数棱柱峰可以比最高的棱 柱峰高度低0.5微米以上。所述膜可以包括在w方向上所确定的峰的簇，其中各簇包括小 于或等于3个峰并且各簇被大于或等于5个峰所隔开，并且其中所述簇是高度为最高棱柱 峰高度的士0.25微米以内的一组相邻峰。所述调制可以是平均间距的士5% 士 10%。 所述棱柱结构可以具有1方向上的高度调制。高度调制可以是随机的。横向调制可以包 括可变棱柱间隔。这种横向调制可以是随机的。所述变化可以是周期性的和正弦的。在一些实施方式中，背光显示器可以包括光源和膜。所述显示器可以包括漫 射体、反射体(例如，图形蚀刻反射体)、和/或光导向装置。反射体可以置于光导向装 置的与膜相对的一侧上。漫射体可以置于膜的一侧或两侧，其中可将膜放置成使一片 膜的棱柱结构与邻近膜的棱柱结构的方向垂直取向(例如，如图6所阐明)。在一种实施方式中，制备膜的方法可以包括在光学基底的表面上形成具有沿1方向棱柱的w方向的横向调制的多个棱柱结构，其中横向调制可以是士2μιη 士20μιη。所述多个棱柱结构可以具有h方向上的正弦高度轮廓，其中最高的棱柱峰高度 是周期性的，其在w方向的间隔为大于或等于平均间距的五倍。所述平均间距在w方向 的IOOmm样品长度上测定。与1方向垂直的w方向如图1中所示限定。在另一种实施方式中，制备膜的方法包括在表面上形成多个棱柱结构，其中 所述多个棱柱结构在w方向上的横向调制是所述棱柱平均间距的士2% 士20%，并且其 中所述多个棱柱结构在w方向上棱柱峰高度有变化(是不连续的和/或连续的)。制备光学膜的方法可以包括在光学基底的表面上形成具有1方向上的横向调制的 多个棱柱结构，其中所述横向调制小于或等于平均间距的士50%，或具体地，小于或等 于平均间距的士25%，或再更具体地，为平均间距的士2% 士 15%。例如，横向调制 可以小于或等于士20 μ m，高度调制可以是0.25 μ m 1.0 μ m。如图1所示，现有技术的棱柱膜的横断面展示了上表面(即，该表面包括棱柱结 构的线性阵列)，每个棱柱具有垂直晶面，其在此图示中在w方向上对于每个棱柱的峰Ch 的最大值)是对称放置的，所述w方向是棱柱膜的横向方向。将棱柱描述为线性阵列， 是因为相邻峰之间的距离具有W方向上的固定间距，并且该间距沿每个棱柱的长度是保 持不变的。该间距是相邻峰之间的W方向上的间隔。长度尺寸是沿方向“1”定义的， 其中方向“1”垂直于图1页面。在图1中，棱柱各自具有带有峰角12的直侧面，其 中峰角12关于线10(通过h方向的峰)对称。峰角12包括左晶面和右晶面(各为14、 16)之间的总夹角。如果各晶面是弯曲的，则峰角将是在峰处相遇的各晶面的切线之间的 角。在亮度增强膜中，峰角通常可以是85 120度。最常见的设计具有+45度的左 晶面斜率Ch方向的变化相对于w方向的变化)和-45度的右晶面斜率。在旋转膜(turning film)中，峰角可以是50 80度。在前发光膜中，峰可以是不对称的，峰角可以是0 30度。在一些情况下，峰是圆形的或宽度为小于或等于2微米(μιη)的钝化的(平峰)， 例如，以便改进抗磨性。亮度增强膜典型地具有12微米 250微米的厚度(在与w和1垂直的h方向)。 理解的是，该膜可以是较厚的基底(厚度最高为几毫米)，更典型地认为是盘。在下面的 讨论中，将始终把术语膜等同于光学设备(不管其厚度)，并且由于亮度增强不是唯一的 应用，棱柱膜和平坦的光学膜通常用于基底。图2显示了具有可变棱柱间隔的基底(例如，棱柱膜)的实例。注意到与图 1中的结构相比，邻近的棱柱峰之间的距离不是恒量。通过计算众多峰之中的各相邻峰之 间距离的平均值，可以确定平均间距。平均值可以在整个基底变化，即，如果，例如， 使用十个或更少的相邻峰来确定平均值，基底表面包括一百个或更多的棱柱(也称为棱 柱结构)，平均间距可以设计成变化的。注意到，这个平均值是正在检测的轮廓样品的平 均值，其中样品在w方向上的长度在0.5mm和IOOmm之间。任选地，对于如图3所示的每个棱柱峰来说，每个棱柱的峰的位置可以在沿1长 度方向的横向w方向(各自地)变化。这种变化定义为横向调制。该调制包括从在横 向方向w上(垂直于高度的方向)名义上的线性路径(非变化)，沿长度1，通过使用为1 的函数(具有非随机的、随机的(或假随机的)振幅和/或周期)的波形，调制光学膜的结构(例如，棱柱的结构等等)，其中，这里的振幅指与适于调制的棱柱路径的直线垂直 的最大偏移。对于每个棱柱而言，这种直线将基本上平行于1。振幅可以小于平均间距 或大于平均间距。如上所述，4微米(例如，从中心的正或负2微米)的振幅足以消除条 纹。调制可以小于或等于士20微米，或具体地，小于或等于士 10微米，或更具体地， 小于或等于士5微米，或更具体地，士2微米 士 10微米(例如，对于37微米的平均间 距来说)。最大调制可以是具有更大调制(具有亮度减少的缺点)的平均间距的2% 100%,或具体地，5% 90%，或更具体地，2% 50%，或更具体地，10% 25%。 在一些实施方式中，调制是平均间距的70% 95%，或具体地，75% 90%。例如，膜 可以具有0.5微米(ym) Iym的高度调制，和/或间距的士 5% 士 100%的横向调 制。横向调制波形的实例包括正弦波形，其中正弦曲线具有随机的相位、频率、或 振幅、或包括至少一种前述量的组合。另一个实例是波形，在其中信号是通过使用带通 滤波器、低通滤波器、或高通滤波器过滤随机噪声波形(实例是均勻噪声、高斯噪声、 或低频噪声)来产生。信号可以是连续的(类似物)、不连续的(样品的)、或两者的组 合。横向调制波形或邻近的棱柱可以包括棱柱之间的相互作用。例如，可以使用二维 滤波器，使得沿长度1过滤随机波形，并且随机波形也包括来自邻近棱柱的噪声波形的 数字输出。一种这样的执行是在1方向低通过滤噪声波形，并在w方向的噪声波形之 间进行高通过滤。通过在二维中过滤，可以以非常通常的方式控制表面的可见颗粒以便 防止不期望的空间频率。滤波器可以是不连续的或连续的或两者的组合。在上面的实例 中，w方向滤波器最可能是不连续的，1方向滤波器是最不近似连续的。可以应用的由 各种滤波器切断的波长是10微米 10毫米。这个范围也可以应用于正弦组分(用于横 向调制)。随着作为棱柱阵列表面和物体之间的距离的函数而增加的双像效应，具有直晶 面的典型棱柱膜的宏观模糊函数导致双像。由于本申请引入的随机化结构中的各种调制 路径，对于模糊函数存在附加组分(由于路径的曲率导致)。效应是围绕弓形的每个分 开的图像的旋转效应。这称为“弓形漫射”，这是因为该模糊函数与蝶形相似。(见图 5)通常地，路径中增加的斜率导致增加的模糊。尽管可以使用大于5%的调制或平均间距来处理莫尔效应，并不已知或不认为的 是，由于周期的正弦波形，可以使用横向调制与高度调制(峰高度中的调制与1或不同棱 柱之间的关系)结合来减少或消除周期诱导的条纹而同时防止光学耦合。图6和7描述了代表性的背光显示器。光从光源(例如，冷阴极荧光灯 (CCFL)；也可以使用一种或多种发光二极管)进入显示器并经过光导向装置，在那里将 其反射到漫射体。光经过漫射体并进入棱柱膜，在那里将其准直并导出显示器(见光导 出箭头)。导回到漫射体的光由反射体反射回到棱柱膜。这样的膜的整体统计特性的特 点是参数(如光学增益和视角)。附图中所示的棱柱膜可以用本申请的披露来设计，艮口， 显示器背光可以包括一种或多种棱柱膜。表征表面的方法是自相关函数。使表面沿横断面的高度由f(x)给出，其中χ是 沿横断面的位置。f(x’)的自相关函数由以下等式给出
7
Cf(x') = ]"/(1-；0/(1)办等式1
-OO其中χ’是坐标χ中的位移。自相关函数Cf(x’)在X’等于O时是对称的， 并且与f(x)的功率谱密度存在傅立叶变换关系。自相关在表面测量学中用来对不同类型的表面分类。自相关函数总是在X’ = 0时具有cf(x’)的最大值。随机表面，如漫射体，具有的特征是，当X’增至大于0， cf(x')将迅速衰减。对于纯周期表面，cf(x’ )将在对应于其结构的标称周期的间隔震 荡至其最大值(见图12(a)-(h)，其中(a)与(e)相关，(b)与(f)相关等)。这发生于 从负无穷大至正无穷大的积分；周期表面的有限轮廓在(^(\’ )中将具有类似的震荡，该 震荡线性地逐渐变细，在等于样品长度的长度处变为0。量化表面随机性的方法是使用f(x)的自相关长度。自相关长度(L。)是离在 cf(x')第一次减小至阈值以下的X’的距离。阈值是在X’ =0时^ )的分数，典 型地^(0.37)。通常而言，相关长度越短，表面就越随机。对于外形包括纯白噪音的表 面，cf(x，)减弱为δ函数并且L。= 0。与具有更小相关长度的表面相比，越大的相关长度意味着该表面随机性越小。 于 David J.Whitehouse, Handbook of Surface Metrology, IOP Publishing Ltd. (1994), p.49-58中提供自相关函数的更详细的讨论。图12中的实例显示了膜实例的1.7毫米xXl.7毫米(mm)的模型的自相关函数 分析，该膜实例对于每个实例从左到右具有逐渐增加的随机横向调制。各实例是在1微 米X 1微米的栅格中采样，自相关函数对从w方向取得的1.7毫米长轮廓(高度h与W的 关系)进行评价。该分析使用安装有MATLAB “R12”版本的MATLAB分析软件标准 函数xcorr.m来进行。使用“coeff”选项来提供零延迟(初始值)的标准化输出。注意到，自相关函数在等于实例的平均间距的间隔震荡(全部具有37 μ m的平 均间距)。对于图12(e)(图12(h)具有最小的横向调制)，作为位置函数，震荡的包络 接近线性地逐渐减少。所有的其它实例，作为位置函数，其包络更迅速地降至更低的值 (对于图13(h)愈加如此)。这种下降归因于由逐渐增加的随机横向调制引起的增加的随 机性。在一些实施方式中，1.7mm样品的光学基底的三维表面的自相关函数值在小于 或等于0.5毫米(mm)的相关长度降至小于或等于其初始值的1/e (1/2.7183)。再在其它 实施方式中，该自相关函数的值在小于或等于0.1mm中降至其初始值的Ι/e。该1.7mm 样品扫描可以从使用该技术的膜或其它光学基底的任何位置的侧面轮廓取得。相关长度与莫尔假象(ιησ ι· artifacts)的减少有关。如所注意到的，更小的相关 长度表示比更大相关长度更为随机的表面，并且这种更小的相关长度也涉及更大的漫射 和莫尔假象的减少。如通过低相关长度所表明，由于基底(图12(b)_(d))的三维表面是 高度无规的，该基底可以有效地减少莫尔假象。如上所述，均勻的视觉横向调制足以掩饰由基本上周期性的高度调制模式引起 的不期望的视觉外观。高度变化可以具有很长的周期该周期的波长是几倍于在具体基 底的1方向上棱柱的最大长度。这可以物理地表明为是切割工具围绕用作膜的主片的鼓的 高度的长波长变化。为了说明的目的，基底的1最大长度等于围绕控制鼓(dram)的外直径(尽管这在其它情况下可以改变)的一个圆周的路径。在这种情况下，每个棱柱等于 围绕鼓的环，并且可以由鼓旋转数确定，沿1的距离等于在旋转鼓轴中的位置(t，单位为 弧度)。高度变化的目的是使光学耦合最小化。这是通过建立高度变化所实现的，该高 度变化应使大多数的棱柱不经历光学耦合。对于在w方向上所测量(0.5毫米 1.7毫米 是适宜的测量宽度_具有小于2 μ m的末端半径的金刚石触针轮廓曲线仪可以是检验高度 变化的工具)的基底的任何轮廓，这可以通过保持大多数的棱柱峰低于最高棱柱峰高度 至少0.5微米来实现。已经发现，即使在翘曲基底存在的情况下，这个距离基本上避免与 较低的棱柱接触。净效应是，接触棱柱的密度充分地减小了，并且光学耦合效应也不太 显著了。下面是调制高度的波形的实例，h⑴。这里t通过鼓直径d与1相关，使得对于 围绕鼓周围的每个第j个环(标称地通过间距P使彼此分开)来说，1等于t倍的d。注 意到，由于每个环对应单独的棱柱，第j个环等于第j个棱柱。对于许多邻近的环的每一 个，使每个峰在t = 0的高度通过环数j来确定，由此使得h是j的函数或仅h(j)。高度 调制可以是沿1连续的或环之间是不连续的、或两者的组合。定义周期=15.5; β =4， 因此
权利要求
1.一种膜，包括具有多个棱柱结构的表面，其中每个棱柱结构在W方向上的横向调制是所述棱柱结 构平均间距的士2% 士20% ；其中所述多个棱柱结构在w方向上棱柱峰高度有变化，所述变化是不连续的和/或连 续的。
2.权利要求1中所述的膜，其中最高的棱柱峰高度是周期性的，其在w方向测量的 间隔为大于或等于平均间距的五倍，其中所述平均间距在w方向的IOOmm样品长度上测 定，其中所述间隔的w方向垂直于1方向。
3.权利要求2中所述的膜，其中对于任何从w方向取得的轮廓，大部分棱柱峰比最高 的棱柱峰高度低0.5微米以上。
4.权利要求1-3中任一项所述的膜，其中存在在w方向上所确定的一簇峰，其中所述 簇包括小于或等于3个峰，并且每个簇被大于或等于5个峰所隔开，并且其中所述簇是高 度为最高棱柱峰高度的士0.25微米以内的一组相邻峰。
5.权利要求1-4中任一项所述的膜，其中所述调制是所述平均间距的士2% 士 15%。
6.权利要求5中所述的膜，其中所述调制是所述平均间距的士5% 士10%。
7.权利要求1-6中任一项所述的膜，其中所述棱柱结构具有1方向的高度调制。
8.权利要求7中所述的膜，其中所述高度调制是随机的。
9.权利要求1-8中任一项所述的膜，其中所述横向调制包括可变棱柱间隔。
10.权利要求1-9中任一项所述的膜，其中所述横向调制是随机的。
11.权利要求1-10中任一项所述的膜，其中所述变化是周期性的和正弦的。
12.一种背光显示器，包括光源和权利要求1-11中任一项所述的膜。
13.—种制备膜的方法，包括在表面形成多个棱柱结构，其中所述多个棱柱结构具有w方向的横向调制，其为所 述棱柱平均间距的士2% 士20%，并且其中所述多个棱柱结构在w方向上棱柱峰高度有 变化，所述变化是不连续的和/或连续的。
全文摘要
在一种实施方式中，膜可以包括表面，所述表面具有多个棱柱结构。每个棱柱结构具有w方向的横向调制，其小于或等于所述棱柱结构平均间距的±20％。所述多个棱柱结构在w方向棱柱峰高度可变化，所述变化是不连续的和/或连续的。在一种实施方式中，制备膜的方法可以包括在表面形成多个棱柱结构。多个棱柱结构可以具有w方向的横向调制，其小于或等于所述棱柱结构平均间距的±20％，并且其中所述多个棱柱结构在w方向棱柱峰高度可变化，所述变化是不连续的和/或连续的。
文档编号G02B6/00GK102016702SQ200980114865
公开日2011年4月13日 申请日期2009年2月25日 优先权日2008年2月26日
发明者丹尼斯·J·科耶尔, 尤金·G·奥尔克扎克, 尼丁·加格, 山田雅子, 斯科特·M·米勒 申请人:沙伯基础创新塑料知识产权有限公司