专利名称：：光波导和光波导形成用部材的制作方法
技术领域：
：本发明涉及光波导和光波导形成用部材。
背景技术：
：近年来，通过使用光传输波移送数据的光通信变得越来越重要。在这种光通信中，采用光波导作为用于使光传输波从一个地点传向另外地点的装置。该光波导，例如具有长条状的芯部和以包围该芯部的方式设置的包覆部。芯部是以相对于光传输波的光在实质上透明的材料来构成；包覆部是以折射率低于芯部的材料来构成。上述光波导，通常设置于布线基板的表面上。并且，在该布线基板上，搭载有发光元件、受光元件，并且从发光元件射出的光信号，经过光波导传输而由受光元件予以接收。在近年来，从布线基板的薄型化、低成本化等观点出发，在发光元件、受光元件中，表面安装型元件在增加。在表面安装型发光元件中，多数是发出垂直于布线基板的方向上进行传输的光的类型的元件。因此，为了使光向沿着布线基板而设置的光波导入射，有必要使从发光元件射出的光的光路转变90°。另一方面，在表面安装型受光元件中，多数是对垂直于布线基板的方向上进行传输的光进行接收的类型的元件，因此为了使从光波导射出的光向受光元件导入，有必要再次使从光波导射出的光的光路转变90°。从上述要求出发，已提出了一种光波导，其在以往的光波导的中途，采用激光照射以在斜向上横切芯部的方式开孔，并且将相对于光波导面45°倾斜的孔的壁面作为微镜(例如，参照专利文献1)。S卩，专利文献1中所述的光波导，具有以横切芯部和包覆部的局部的方式进行激光加工而成的孔，并且在该孔的壁面上露出的芯部和包覆部的切断面成为微镜。近年来，从提高光通信品质的观点出发，要求进一步提高这种微镜的面精度。现有技术文献专利文献专利文献1日本特开2005-284248号公报
发明内容本发明的目的在于，提供一种具有光学性能高的镜并且可进行高品质光通信的光波导，以及用于形成所述光波导并且具有可容易形成光学性能高的镜的镜形成部的光波导形成用部材。另外，在采用激光加工来形成镜的情况下，在加工镜的加工面时，能够使加工速度比较均勻，因此能够进一步提高镜的面精度。为了实现上述目的，本发明提供一种光波导，其具有长条状的芯部、以与该芯部相邻接的方式设置的包覆部、以及4由对前述芯部的光轴的延长线进行斜向横切的加工面构成的镜，其特征在于，前述镜设置于前述芯部的延长线上，并且在前述加工面上，只露出构成前述芯部的材料以外的材料。基于上述本发明，具有由可均勻且高精度加工的材料露出的加工面构成的镜，能够提供具有面精度和光学性能高的镜的光波导。另外，在构成包覆部的材料在镜的加工面上露出的情形，构成包覆部的材料，通常在材料选择上自由度高，并且，在多数情况下是比构成芯部的材料的耐热性高的材料(或化学结构)。因此，通过在镜的加工面上露出构成包覆部的材料，能够提高镜的耐热性。其结果是，能够提供对焊锡回流等热处理具有充分耐热性的光波导。另外，在本发明的光波导中，优选为在前述加工面上，只露出构成前述包覆部中的至少一部分的材料。为了实现上述目的，本发明提供一种光波导，其具有含有长条状的芯部和以与该芯部的侧面相邻接的方式设置的侧面包覆部的芯层、以夹住该芯层的方式层叠的两个包覆层、以及由对前述芯部的光轴的延长线进行斜向横切的加工面构成的镜，其特征在于，前述镜设置于前述芯部的延长线上，并且在前述加工面的对应于前述芯层的加工面上，只露出构成前述侧面包覆部的材料。另外，在本发明的光波导中，优选为在前述加工面上，只露出构成前述侧面包覆部的材料和构成前述两个包覆层的材料。另外，在本发明的光波导中，优选为构成前述侧面包覆部的材料，与构成前述两个包覆层的材料相同。另外，在本发明的光波导中，优选为前述镜和与前述镜相邻的前述芯部之间相离的距离，在前述芯部的光轴的延长线上是5250μm。另外，在本发明的光波导中，优选前述加工面通过激光加工来形成。另外，在本发明的光波导中，优选前述光波导的前述芯部以降冰片烯类聚合物作为主要材料来构成。为了实现上述目的，本发明提供一种光波导形成用部材，其用于形成光波导，并且具有长条状的芯部、以与该芯部相邻接的方式设置的包覆部、以及提供给用于形成镜的加工的镜形成部，其特征在于，前述镜形成部，设置于前述芯部的延长线上，并且是只由构成前述芯部的材料以外的材料构成的部位。基于上述本发明，能够提供一种光波导形成用部材，所述光波导形成用部材具有由可均勻且高精度加工的材料露出的加工面构成的镜，因此，可容易地形成具有面精度和光学性能高的镜的光波导。另外，在本发明的光波导形成用部材中，优选为前述镜形成部是只由构成前述包覆部中的至少一部分的材料构成的部位。为了实现上述目的，本发明提供一种光波导形成用部材，其用于形成光波导，并且具有含有长条状的芯部和以与该芯部的侧面相邻接的方式设置的侧面包覆部的芯层、以夹住该芯层的方式层叠的两个包覆层、以及提供给用于形成镜的加工的镜形成部，其特征在于，前述镜形成部是设置于前述芯部的延长线上的部位，并且，在前述镜形成部的对应于所述芯层的部分，是只由构成前述侧面包覆部的材料构成。另外，在本发明的光波导形成用部材中，优选前述镜形成部是只由构成前述侧面包覆部的材料和构成前述两个包覆层的材料构成的部位。另外，在本发明的光波导形成用部材中，优选前述用于形成镜的加工是去除前述镜形成部的一部分的加工。图1是表示本发明的光波导的实施方式的(局部透视)立体图。图2是表示从上方观察图1的光波导时的平面图。图3是表示图2所示的光波导的A-A线剖面图。图4是示意性表示图1所示的光波导的制造方法的工序示例的剖面图。图5是示意性表示图1所示的光波导的制造方法的工序示例的剖面图。图6是示意性表示图1所示的光波导的制造方法的工序示例的剖面图。图7是示意性表示图1所示的光波导的制造方法的工序示例的剖面图。图8是示意性表示图1所示的光波导的制造方法的工序示例的剖面图。图9是表示从其它角度观察图8所示的光波导形成用部材的立体图(局部透视)。图10是示意性表示图1所示的光波导的制造方法的工序示例的剖面图。图11是表示以往的光波导的(局部透视)立体图。图12是表示从上方观察图11的光波导时的平面图。图13是表示图12所示的光波导的X-X线剖面图。图14是针对实施例和各比较例所获得的试样，以镜的角度为横轴并且以求出的插入损耗为纵轴时的散布图。具体实施例方式下面，针对本发明的光波导和光波导形成用部材，基于附图所示的适宜的实施方式进行详细说明。图1是表示本发明的光波导的实施方式(局部透视)的立体图，图2是从上方观察图1的光波导时的平面图，图3是图2所示的光波导的A-A线剖面图。此外，在本说明书中，称图1、3中的上侧为“上”、称下侧为“下”。图1所示的光波导10，是从图1中的下侧出发依次将包覆层11、芯层13和包覆层12进行层叠而成的。另外，在光波导10的一侧端部附近设置有镜形成部155，所述镜形成部155中形成有镜17。此外，在本实施方式中，该镜形成部155是由包覆层11的一部分、侧面包覆部15的一部分和包覆层12的一部分的层叠体来构成。下面，针对芯层13和各包覆层11、12进行详述。在芯层13中，形成有长条状的芯部14和以覆盖该芯部14的侧面以及一侧端部的方式与芯部14相邻接的侧面包覆部15。S卩，芯部14，是由包覆部16所覆盖，所述包覆部16由位于芯部14下方的包覆层11、位于芯部14上方的包覆层12和位于芯部14侧边的侧面包覆部15构成。此外，在图13中，只在芯层13中带有点，其中，在芯部14中带有相对密的点而在侧面包覆部15中则带有相对疏的点。另外，在图1、2中，通过透过包覆层12的方式来进行表示。为了在芯部14与包覆部16的界面上发生全反射，有必要在界面上存在折射率差。芯部14的折射率高于包覆部16的折射率，并且对其差没有特别限定，但优选为0.5%以上，更优选为0.8%以上。此外，折射率差的上限值，并没有特别设定，但优选为5.5%左右。若折射率差低于前述下限值，则有时光传输的效果降低；另外，若超过前述上限值，则不能期望光的传输效果会比上述有进一步的增大。此外，当设定芯部14的折射率为A、包覆部16的折射率为B时，前述折射率差由下式表不。折射率差(％)=(A/B-l)X100另外，在图1所示的构成中，芯部14在俯视下形成为直线状，但可以在途中发生弯曲、分叉等，其形状为任意。另外，芯部14所形成的横剖面形状是诸如正方形或矩形(长方形)等的四方形。对于芯部14的宽度和高度并没有特别限定，但分别优选为1200μm左右，更优选为5100μm左右，进一步优选为1060μm左右。对于上述芯部14和包覆部16的各构成材料，只要是分别可产生上述折射率差的材料就没有特别限定，但具体而言，能够使用丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环氧树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚硅烷、聚硅氮烷、以及苯并环丁烯类树脂、降冰片烯类树脂等环状烯烃类树脂等的各种树脂材料；除此之外，还有诸如石英玻璃、硼硅酸玻璃等玻璃材料等。在本实施方式中，对芯层13而言，芯部14和侧面包覆部15是由相同的基质材料(基本成分)来构成，并且芯部14与侧面包覆部15的折射率差，是根据各构成材料的化学结构的差异来体现。为了通过化学结构的差异来体现折射率差，作为芯部14和侧面包覆部15的各构成材料，优选使用折射率在诸如紫外线、电子射线等活性能量线的照射(或通过进一步加热)下而发生变化的材料。作为如此的折射率产生变化的材料，例如，可以举出基于活性能量线的照射或加热，使至少一部分键切断，或者使至少一部分官能团脱离等，可使化学结构发生变化的材料。具体而言，作为聚硅烷(例如聚甲基苯基硅烷)、聚硅氮烷(例如全氢聚硅氮烷)等的硅烷类树脂、成为诸如前述伴随着结构变化的材料的基质的树脂，可以举出，在分子的侧链或末端具有官能团的下面的(1)(6)的树脂。(1)加成(共)聚合降冰片烯型单体所获得的降冰片烯型单体的加成(共)聚合物；(降冰片烯型单体与乙烯、α-烯烃类的加成共聚物；C3)降冰片烯型单体与非共轭二烯、以及根据需要的其它单体的加成共聚物；(4)降冰片烯型单体的开环(共)聚合物、以及根据需要对该(共)聚合物进行氢化的树脂；(5)降冰片烯型单体与乙烯、α-烯烃类的开环共聚物、以及根据需要对该(共)聚合物进行氢化的树脂；(6)降冰片烯型单体与非共轭二烯、或与其它单体的开环共聚物、以及根据需要对该(共)聚合物进行氢化的树脂等的降冰片烯类树脂，除此之外，通过聚合光固化反应性单体所获得的丙烯酸类树脂、环氧树脂。此外，其中，特别优选降冰片烯类树脂。这些降冰片烯类聚合物，例如，能够采用开环复分解聚合(ROMP)、ROMP与氢化反应的组合、通过自由基或阳离子进行的聚合、使用阳离子性钯聚合引发剂的聚合、使用其它聚合引发剂(例如，镍或其它的过渡金属的聚合引发剂)的聚合等的公知的所有聚合方法来获得。另一方面，包覆层11和12，分别构成位于芯部14的下部和上部的包覆部。基于这种构成，芯部14可作为其外周以包覆部16包围的导光路而发挥功能。包覆层11、12的平均厚度，优选为芯层13的平均厚度(芯部14的平均高度)的0.11.5倍左右，更优选为0.21.25倍左右，具体而言，对于包覆层11、12的平均厚度，并没有特别限定，但通常分别优选为1200μm左右，更优选为5100μm左右，进一步优选为1060μπι左右。由此，在防止光波导10所不需要的大型化(厚膜化)的同时，适于发挥作为包覆层的功能。另外，作为包覆层11和12的构成材料，例如，能够使用与前述芯层13的构成材料相同的材料，但特别优选为降冰片烯类聚合物。此外，在本实施方式中，在芯层13的构成材料与包覆层11、12的构成材料之间，可考虑两者间的折射率差而适当地选择使用不同材料。因此，可选择能够产生在芯层13与包覆层11、12之间的边界上确实地使光进行全反射所需的足够的折射率差的材料。由此，在光波导10的厚度方向上可获得足够的折射率差，能够抑制光由芯部14向包覆层11、12漏出。其结果是，能够抑制传输在芯部14的光的衰减。此外，从抑制光的衰减的观点出发，优选芯层13与包覆层11、12之间的粘附性高。因此，对于包覆层11、12的构成材料而言，只要是满足折射率低于芯层13的构成材料且与芯层13的构成材料的粘附性高的条件即可，可以采用任意材料。例如，作为具有较低折射率的降冰片烯类聚合物，优选含有具有在末端包含环氧结构的取代基的降冰片烯的重复单元的降冰片烯类聚合物。这样的降冰片烯类聚合物，特别是，具有低的折射率并且粘附性良好。此外，优选降冰片烯类聚合物，含有烷基降冰片烯的重复单元。含有烷基降冰片烯的重复单元的降冰片烯类聚合物的柔软性高，因此，通过使用这样的降冰片烯类聚合物，可赋予光波导10高柔软性(挠性)。作为烷基降冰片烯的重复单元所具有的烷基，例如，可以举出丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等，但特别优选为己基。此外，这些烷基，可以是直链状或支链状。通过含有己基降冰片烯的重复单元，能够防止降冰片烯类聚合物的整体的折射率的上升。并且，具有己基降冰片烯的重复单元的降冰片烯类聚合物，对前述波长区域(特别是，850nm附近的波长区域)的光的透过率优良，因而优选。上述本发明的光波导10，根据芯部14的材料的光学特性等不同而存在若干差别，并没有特别限定，例如，适宜应用于采用6001550nm左右的波长区域的光的数据通信中。在此，如前面所述，在本实施方式中，镜形成部155设定于包覆层11、芯层13和包覆层12的层叠体的一侧端部附近。换言之，如图2所示，光波导10的一侧端部是由镜形成部155占有，并且通过该镜形成部155遮挡着芯部14。并且，在该镜形成部155内设置有镜17。镜17，是以在厚度方向上贯穿一部分镜形成部155的方式来形成V字状凹部170并由该凹部170的一部分侧面(加工面)所构成的镜。该侧面形成平面状，相对于芯部14的轴线M倾斜45°。即，镜17是以斜向45°横切芯部14的轴线M的延长线的方式来形成。此外，从发光元件S出发进行观察时，镜形成部155的宽度和长度以包含凹部170的宽度和长度的方式来进行设定。由此，在镜17上，整个地，镜形成部155露出，从而确实地实现本发明的目的。另外，在本实施方式中，凹部170的两个侧面中只有一侧(与芯部14相邻的一侧)在作为镜17发挥功能，因此可以省略另一侧。在这种光波导10中，如图3的箭头所示，从光波导10的下方所设置的发光元件S射出的光，在镜17上发生反射而能够向芯部14入射。即，所照射的光经过镜17使光路转变90°。入射于芯部14中的光，在芯部14与包覆部16的界面上重复发生全反射并且向射出侧传输。然后，在未图示的射出端侧对光进行接收，并且基于该光的明灭图案能够进行光通信。此外，上述光路能够使光向相反方向传输。在图1所示的镜17上露出镜形成部155，更具体而言，从发光元件S侧出发，构成包覆层11的材料的露出面171、构成侧面包覆部15的材料的露出面173以及构成包覆层12的材料的露出面172，按所述顺序进行并列(参照图2和图3)。上述各露出面171、173、172均只露出除构成芯部14的材料(芯材料)以外的材料，即，只露出构成包覆部16的材料(包覆材料)，并且通过使该材料与外部气体环境(空气)相邻接，在接触界面上产生折射率差。在镜17上，基于该折射率差能够使光发生反射。另外，当向镜17照射光时，来自半导体激光器、发光二极管等发光元件S所照射的光的扩展状态，通常是以光轴为中心来均等扩展的圆锥状图案。因此，有最大的光量照射在位于镜17厚度方向上的中央部的露出面173上。因而，镜17的光学性能受到露出面173的面精度的影响大。在此，针对以往的光波导进行说明。图11是表示以往的光波导(局部透视)的立体图，图12是从上方观察图11的光波导时的平面图，图13是图12所示的光波导的X-X线剖面图。此外，在本说明书中，将图11、13中的上侧称为“上”、下侧称为“下”。图11所示的以往的光波导90，除了芯层93的结构不同以外，与图1所示的光波导10相同。如图1113所示，在以往的光波导90中，通常是在芯层93中以露出芯部94的9全部横剖面和侧面包覆部95(包覆部96)的一部分横剖面的方式形成镜97。该镜97，是通过对芯层93以横切芯部94的全部和包覆部96在宽度方向上的一部分的方式挖掘加工V字状凹部970，作为凹部970的两个侧面中的一个侧面而形成。此外，在图1113中，只在芯层93上附有点，其中，在芯部94中附有相对密集的点，而在侧面包覆部95和镜形成部155中附有相对疏松的点。另外，在图11、12中，通过透过包覆层12的方式来进行表示。然而，在以往的光波导90中，存在所谓镜97的面精度低的课题。本发明人发现，关于该课题的原因在于，在挖掘加工凹部970时，加工芯部94时的加工速度与加工包覆部96时的加工速度不同。若加工速度不同，例如在尝试横切芯部94和包覆部96的一部分来形成平面状的镜97时，则该加工速度差会对加工结果产生影响，不能形成作为目标形状的镜97。作为产生这种加工速度差的原因之一，可以举出芯部94的构成材料与包覆部96的构成材料之间的化学结构的差异。作为结果，若以往不进行补充加工，则难以获得面精度和光学性能高的镜97。与此相对，如图1所示，在本发明中，镜17形成于只由包覆材料构成的镜形成部155内。因此，如前面所述，镜17由三种材料的露出面171、173、172所构成。在上述镜17中，露出面173上只露出构成侧面包覆部15的材料(如图11所示，以往露出了构成芯部94的材料和构成包覆部96的材料这两种)，因此，在该露出面173内不产生加工速度差。因而，至少在该露出面173内，能够容易且均勻地形成作为目标形状的镜17，而且能够在不进行补充加工的情况下获得面精度(表面粗糙度、面内均勻性等)和光学性能高的镜17。其结果是，获得由镜17所引起的损失小且传输效率高的高品质光波导10。此外，如前面所述，在镜17中位于厚度方向中央部的露出面173，照射有最大光量并且支配着镜17的光学性能，因此，至少在提高露出面173的面精度(表面粗糙度、面内均勻性等)时，可以大大提升镜17整体的光学性能。另外，在图1所示的镜17中，除了构成侧面包覆部15的材料之外，还露出了构成包覆层11的材料和构成包覆层12的材料。若将包覆层11和包覆层12的各构成材料和各化学结构，设定为与侧面包覆部15相同，则不仅在露出面173中而且在镜17的整个面中，都不会在加工时产生加工速度差，因此，可进一步提高镜17的面精度和光学性能。此外，即使包覆层11和包覆层12的各构成材料和各化学结构与侧面包覆部15的完全不同，但由于两者都是包覆部，所以物理性质会比较类似。因而，与以往那样芯材料和包覆材料在镜上露出的情况相比，不论设定成何者，都能格外减小加工速度差，并且能够提高镜17的面精度和光学性能。另外，在本实施方式中，镜形成部155是由侧面包覆部15的构成材料和各包覆部11、12的构成材料所构成，但这些包覆材料通常多数情况下材料的选择自由度高并且是耐热性高于芯材料的材料(或耐热性高的化学结构)。因此，包覆材料露出的镜17，成为耐热性高于以往的镜。其结果是，例如，当对搭载有光波导10的基板施加焊锡回流等热处理时，能防止因热的影响而在镜17上产生变形等缺陷。此外，当包覆材料和芯材料是相同材料而只是化学结构不同时，由于包覆材料的耐热性高于芯材料，所以从相关观点出发，基于本发明也能容易获得耐热性高的镜17。另外，如上所述，若在镜17上露出的材料只是包覆材料，则镜17的面内各部中的热膨胀特性也成为均勻(或相近的值)。因而，在使光长时间地向光波导10内入射并且在镜17上蓄积热量时，各部的热膨胀特性均勻(或是相近的值)，也能防止镜17随着热膨胀发生明显变形。因此，基于本发明能获得可抑制光学性能随着时间经过而发生变化的光波导10。在上述镜17上，当光如图3中的箭头所示从光波导10的下方所设置的发光元件S向上方照射时，照射光依次透过包覆层11和侧面包覆部15，然后在镜17上得到反射。在反射后，该反射光通过侧面包覆部15(镜形成部155)与芯部14的界面145而向芯部14入射。在镜17上得到反射后至界面145为止的距离，若过长则光向各包覆层11、12漏出的概率升高，另一方面，若过短则前述的芯部14对镜17产生的影响的概率升高，存在前述的镜17的加工均勻性和耐热性降低的顾虑。从上述观点出发，在芯部14的轴线M上的镜17与界面145相离的距离，优选为5250μm左右，更优选为10200μm左右。另外，根据需要可在镜17上形成反射膜。作为该反射膜，例如，可以举出Au、Ag、Al等的金属膜或者折射率低于镜形成部155的折射率的材料的膜等。作为金属膜的制造方法，例如，可以举出诸如真空蒸镀等物理蒸镀法，诸如CVD(ChemicalVaporDeposition)等化学气相沉积法，镀覆法等。另外，图13所示的凹部170，是以分别贯穿包覆层12、芯层13和包覆层11的方式来形成，但只要至少贯穿芯层13即可，可不必贯穿包覆层11。此外，前面记载过在镜17上只露出构成包覆部16的材料(包覆材料)，但对该要件而言，只要在镜17内相当于照射光的有效直径的区域(实质上参与光通信的区域)中满足即可，即使在有效直径以外的区域中存在不满足上述必要条件的部位，在本发明发挥效果方面也没有特别妨碍。接着，针对光波导10的制造方法的一个示例进行说明。光波导10是通过分别制作包覆层11、芯层13和包覆层12并将它们进行层叠来制造的。在上述制造方法中，需要使折射率相异的部位以物理的并且光学的相接方式进行制作。具体而言，需要使侧面包覆部15或各包覆层11、12相对于芯部14以没有间隙介入并且确实进行粘合的方式来形成。作为芯层13的具体制造方法，只要是可在同一层(芯层13)内形成芯部14和侧面包覆部15的方法，就没有特别限定。作为该方法，例如，可以举出光漂白法、光刻法、直接曝光法、纳米压印法、单体扩散法等。在此，作为代表，说明包括单体扩散法的光波导10的制造方法。图4图10分别是示意性表示图1中所示的光波导10的制造方法的工序示例的剖面图。此外，图4图8分别是表示与光波导的芯部的轴线正交的宽度方向上的横剖面的图，图10是表示沿着与光波导的芯部轴线平行的方向上的纵剖面的图。[1]首先，在支撑基板161上形成层110(参照图4)。层110是通过涂布芯层形成用材料(清漆)100并使其固化(硬化)的方法而形成。具体而言，层110是通过下述方法形成在支撑基板161上涂布芯层形成用材料100而形成液状覆膜，然后将该支撑基板161置于予以通风换气的水平台(leveltable)上，使液状覆膜表面的不均勻部分进行水平化，同时使溶剂蒸发(脱溶剂)。当采用涂布法形成层110时，所述涂布方法，例如，可以举出，刮涂法、旋涂法、浸涂法、台式涂敷法(f一二一卜法)、喷雾法、敷抹器法、帘式涂敷法、模压涂层(diecoating)法等方法，但并不局限于这些。对于支撑基板161，例如，可采用硅基板、二氧化硅基板、玻璃基板、石英基板、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜等。芯层形成用材料100，是含有由聚合物115和添加剂120(至少含有单体和催化剂)构成的显影性材料，通过活性放射线的照射以及加热而在聚合物115中发生单体反应的材料。并且，在所获得的层110中，聚合物(基质)115都在实质上均勻且随机地得到分配，添加剂120实质上均勻且随机地分散于聚合物115中。由此，添加剂120实质上均勻且随机地分散于层110中。这种层110的平均厚度，可根据要形成的芯层13的厚度进行适当设定，并没有特别限定，但优选为1200μm左右，更优选为5IOOym左右，进一步优选为1060μm左右ο作为聚合物115，优选使用透明性足够高(是无色透明)并且对后述单体具有相溶性的聚合物，更优选使用在其中如后面所述地单体可进行反应(聚合反应、交联反应)并且即使单体聚合后也具有充分透明性的聚合物。在此，所谓“具有相溶性”，是指至少混和单体后在芯层形成用材料100中、层110中不发生与聚合物115相分离的情形。作为这种聚合物115，可以举出前述芯层13的构成材料。此外，当作为聚合物115使用降冰片烯类聚合物时，该聚合物具有高的疏水性，因此能够获得难以因吸水导致尺寸变化等的芯层13。另外，作为降冰片烯类聚合物，可以是具有单独的重复单元的聚合物(均聚物)、具有两个以上的降冰片烯类重复单元的聚合物(共聚物)的任意种。其中，作为共聚物的示例之一，优选使用具有下式(1)所示的重复单元的化合物。权利要求1.一种光波导，其具有长条状的芯部、以与该芯部相邻接的方式设置的包覆部、以及由对所述芯部的光轴的延长线进行斜向横切的加工面构成的镜，其特征在于，所述镜设置于所述芯部的延长线上，并且，在所述加工面上，只露出构成所述芯部的材料以外的材料。2.如权利要求1所述的光波导，其中，在所述加工面上，只露出构成所述包覆部中的至少一部分的材料。3.一种光波导，其具有含有长条状的芯部和以与该芯部的侧面相邻接的方式设置的侧面包覆部的芯层、以夹住该芯层的方式层叠的两个包覆层、以及由对所述芯部的光轴的延长线进行斜向横切的加工面构成的镜，其特征在于，所述镜设置于所述芯部的延长线上，并且，在所述加工面的对应于所述芯层的加工面上，只露出构成所述侧面包覆部的材料。4.如权利要求3所述的光波导，其中，在所述加工面上，只露出构成所述侧面包覆部的材料和构成所述两个包覆层的材料。5.如权利要求3所述的光波导，其中，构成所述侧面包覆部的材料，与构成所述两个包覆层的材料相同。6.如权利要求5所述的光波导，其中，所述镜和与所述镜相邻的所述芯部之间相离的距离，在所述芯部的光轴的延长线上是5250μm。7.如权利要求6所述的光波导，其中，所述加工面通过激光加工来形成。8.如权利要求7所述的光波导，其中，所述光波导的所述芯部，以降冰片烯类聚合物作为主要材料来构成。9.一种光波导形成用部材，其用于形成光波导，并且具有长条状的芯部、以与该芯部相邻接的方式设置的包覆部、以及提供给用于形成镜的加工的镜形成部，其特征在于，所述镜形成部，设置于所述芯部的延长线上，并且，是只由构成所述芯部的材料以外的材料构成的部位。10.如权利要求9所述的光波导形成用部材，其中，所述镜形成部，是只由构成所述包覆部中的至少一部分的材料构成的部位。11.一种光波导形成用部材，其用于形成光波导，并且具有含有长条状的芯部和以与该芯部的侧面相邻接的方式设置的侧面包覆部的芯层、以夹住该芯层的方式层叠的两个包覆层、以及提供给用于形成镜的加工的镜形成部，其特征在于，所述镜形成部是设置于所述芯部的延长线上的部位，并且，在所述镜形成部的对应于所述芯层的部分，是只由构成所述侧面包覆部的材料构成。12.如权利要求11所述的光波导形成用部材，其中，所述镜形成部，是只由构成所述侧面包覆部的材料和构成所述两个包覆层的材料构成的部位。13.如权利要求9所述的光波导形成用部材，其中，所述用于形成镜的加工，是去除所述镜形成部的一部分的加工。全文摘要本发明的光波导是从下侧开始按顺序层叠有包覆层、芯层和包覆层而成，并且在芯层中形成有芯部和以从侧面夹住该芯部的方式与该芯部相邻接的两个侧面包覆部。另外，芯部左侧的端部由侧面包覆部的一部分遮挡，并且通过由该侧面包覆部的一部分和位于其上下的各包覆层的一部分所形成的部分来构成镜形成部。在该镜形成部上施行挖掘加工而形成凹部，并且该凹部的内面成为镜。在该镜上露出构成芯部的材料之外的材料，即，露出各包覆层的材料和侧面包覆部的材料。文档编号G02B6/122GK102239435SQ20098014877公开日2011年11月9日申请日期2009年12月1日优先权日2008年12月4日发明者宫尾宪治,松山睦宏,白土洋次,藤原诚,长木浩司申请人:住友电木株式会社