专利名称：一种空气隙标准具及其制作方法
技术领域：
本发明涉及光学领域，尤其涉及一种适用于波长或频率锁定应用领域的标准具及其制作方法。
背景技术：
标准具按结构分为空气隙标准具和固体标准具。空气隙标准具时由前片、后片和间隔块构成。前片和后片通过间隔块作用形成了一个以空气为间隙的干涉腔。固体标准具由一块抛光好的基片构成，在基片的两个抛光面之间形成了以材料为间隙的干涉腔。固体标准具由一块抛光好的基片构成，在基片的两个抛光面之间形成了以基片材料为间隙的干涉腔。标准具在通讯领域，可以作为波长锁定器的波长滤波器件，其工作的光路原理图
如
图1所示，由位相差
权利要求
1.一种空气隙标准具，包括第一光学基片、间隔块和第二光学基片；间隔块设置于第一光学基片和第二光学基片中间，三者光胶为一体，其特征在于:所述间隔块厚度h由公式
2.按权利要求1所述的一种空气隙标准具，其特征在于:所述第一光学基片的第二表面还镀有第一光胶膜，第一部分反射膜镀于第一光胶膜之上；所述第二光学基片的第一表面也镀有与第一光胶膜一样的第二光胶膜，第二部分反射膜镀于第二光胶膜之上。
3.按权利要求1或2所述的一种空气隙标准具，其特征在于:所述第一光学基片的第一表面和第二光学基片的第二表面均镀有增透膜，该两表面均为一楔形小斜面，其楔角范围为15' 30'。
4.一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于，包括如下步骤:a.在间隔块中间打一通孔，在第一光学基片的第二表面和第二光学基片的第一表面上镀部分反射膜；b.将间隔块与第一光学基片和第二光学基片光胶为一体，间隔块位于中间；c.对上述初步光胶后的标准具进行腔长厚度测试，并由公式
5.按权利要求4所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于:步骤d所述精加工方法为采用等离子刻蚀、化学腐蚀或者MRF抛光去除间隔块多余厚度，或者采用镀膜方式增加间隔块厚度。
6.按权利要求4所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于:所述步骤a中在第一光学基片的第二表面和第二光学基片的第一表面镀部分反射膜之前，先镀上一层光胶膜，所述部分反射膜镀于光胶膜之上。
7.按权利要求4-6任一项所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于:所述第一光学基片和第二光学基片采用相同的材料；所述材料为光学玻璃或者陶瓷材料。
8.按权利要求7所述的一种空气隙标准具的制作方法,其特征在于:所述光学玻璃为融石英或者Zerodur。
9.按权利要求4-6任一项所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于:所述间隔块材料为光学玻璃或者陶瓷材料。
10.按权利要求9所述的一种空气隙标准具的制作方法,其特征在于:所述光学玻璃为ULE 或者 Zerodur0
全文摘要
本发明公开了一种空气隙标准具及其制作方法，该标准具由第一光学基片、间隔块和第二光学基片通过深化光胶而成，本发明采用改变间隔块厚度的方式，使标准具原透过峰波长移动到指定波长位置；采用刻蚀去除或镀膜增厚等方式精加工间隔块厚度，以精密控制透过峰波长。该标准具结构简单、加工方便，而且对透过峰波长的锁定精度高，同时提高了标准具的温度稳定性，有利于降低波长锁定器的设计和制作难度。
文档编号G02B1/11GK103091757SQ201110333359
公开日2013年5月8日 申请日期2011年10月27日 优先权日2011年10月27日
发明者张新汉, 王晓东, 邓韦伟, 林磊, 黄富泉, 黄国玲, 凌吉武 申请人:福州高意光学有限公司