专利名称：包括微结构化表面的抗反射膜的制作方法
包括微结构化表面的抗反射膜
背景技术：
已描述了各种哑光膜(也描述为防眩膜)。可制得具有交替的高折射率层和低折射率层的哑光膜。这种哑光膜可显示具有低光泽度以及抗反射性。然而，在不存在交替的高折射率层和低折射率层时，这种膜将显示具有防眩性而不抗反射。如US 2007/0286994的0039段所述，抗反射哑光膜通常具有比当量光泽度的膜更低的透射和更高的雾度值。例如，根据ASTM D1003所测量，雾度一般为至少5%、6%、7%、8%、9%，或10%。另外，在根据ASTM D 2457-03在60°下测量时，光泽表面通常具有至少130的光泽度；而哑光表面具有小于120的光泽度。存在数种用于获得哑光膜的方法。·例如，哑光涂层可通过加入哑光粒子而制得，如在US 6，778，240中所述。此外，抗反射哑光膜也可通过在哑光膜基材上提供高折射率层和低折射率层而制得。在又一方法中，可将防眩膜或抗反射膜的表面进行粗糙化或纹理化以提供哑光表面。根据美国专利No. 5，820，957，“可通过多种纹理化材料、表面或方法的任一种提供抗反射膜的纹理化表面。纹理化材料或表面的非限制性实例包括具有糙面精整层的膜或衬片、微压纹膜、含有所需纹理化图案或模板的微复制模具、套管或束带、辊(如金属辊或橡胶辊，或橡胶涂布辊)。”
发明内容
本发明涉及抗反射膜，其包含高折射率层和设置在该高折射率层上的低折射率层。该抗反射膜具有可得自微复制模具的微结构化表面。在一些实施例中，微结构化表面包括多个微结构，所述多个微结构具有补足的累积倾斜度值分布(cumulative slope magnitudedistribution),使得至少30%具有至少
O.7度的倾斜度值，且至少25%具有小于I. 3度的倾斜度值。在另一个实施例中，抗反射膜的特征在于小于90%的透明度和至少O. 05微米且不超过O. 14微米的平均表面粗糙度(Ra)。在另一个实施例中，抗反射膜的特征在于小于90%的透明度和至少O. 50微米且不超过I. 20微米的平均最大表面高度(Rz)。在另一个实施例中，抗反射膜的特征在于小于90%的透明度，且所述微结构化层包括平均当量直径为至少5微米且不超过30微米的峰。在一些实施例中，抗反射膜不含嵌入的哑光粒子。在其它实施例中，不超过50%的微结构包含嵌入的哑光粒子。抗反射膜通常具有至少70%的透明度和不超过10%的雾度。另外，抗反射膜在500nm至625nm的波长范围内具有小于2%的平均光适应反射率。在一些实施例中，至少30%、至少35%或至少40%的微结构具有小于I. 3度的倾斜度值。
在一些实施例中，少于15%、或少于10%、或少于5%的微结构具有4. I度或更大的倾斜度值。另外，至少70%的微结构具有至少O. 3度的倾斜度值。在具有低“闪光”的一些实施例中，微结构包括平均圆当量直径(EOT)为至少5微米或至少10微米的峰。此外，峰的平均E⑶通常小于30微米或小于25微米。在一些实施例中，微结构包括平均长度为至少5微米或至少10微米的峰。此外,微结构峰的平均宽度通常为至少5微米。在一些实施例中，峰的平均宽度小于15微米。在其它实施例中，描述了高折射率组合物和低折射率组合物，可由这些组合物来制备本文所述的抗反射膜。
图IA为哑光膜的示意性侧视图；图IB为抗反射膜的示意性侧视图； 图2A为微结构凹陷的示意性侧视图；图2B为微结构凸起的示意性侧视图；图3A为规则排列的微结构的示意性俯视图；图3B为不规则排列的微结构的示意性俯视图；图4为微结构的示意性侧视图；图5为包括一部分微结构的光学膜的示意性侧视图，该微结构包括嵌入的哑光粒子；图6为切削工具系统的示意性侧视图；图7A-7D为各种切削器的示意性侧视图；图8A为示例性微结构化表面(即微结构化的高折射率层Hl)的二维表面轮廓；图8B为图8A的示例性微结构化表面的三维表面轮廓；图8C-8D分别为图8A的微结构化表面沿χ-和y_方向的横截面轮廓；图9A为另一个示例性微结构化表面(即微结构化的高折射率层H4)的二维表面轮廓；图9B为图9A的示例性微结构化表面的三维表面轮廓；图9C-9D分别为图9A的微结构化表面沿x_和y_方向的横截面轮廓；图IOA为另一个示例性微结构化表面(即抗反射膜实例F10B)的二维表面轮廓；图IOB为图IOA的示例性微结构化表面的三维表面轮廓；图10C-10D分别为图IOA的微结构化表面沿x_和y_方向的横截面轮廓；和图11为显示各种示例性微结构化表面的补足累积倾斜度值分布的图。图12示出了计算曲率的方式。
具体实施例方式本发明描述了哑光(即防眩)膜和抗反射膜。参照图1A，哑光膜100包括通常设置于透光性(例如膜)基材50上的微结构化高折射率(例如观测表面)层60。基材50以及哑光膜或抗反射膜通常具有至少85%或90%、且在一些实施例中至少91%、92%、93%或更大的透射率。
透明基材可为膜。膜基材的厚度通常取决于预期用途。对于多数应用，优选的基底厚度为小于约O. 5_，更优选地为约O. 02到约O. 2_。或者，透明膜基材可为光学(例如照射)显示器，通过该显示器可显示测试、图形或其它信息。透明基材可包含任何下述材料或由其组成多种非聚合材料，如玻璃；或各种热塑性的和交联的聚合材料，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、(例如双酚A)聚碳酸酯、醋酸纤维素、聚(甲基丙烯酸甲酯)和聚烯烃(如常用于各种光学装置中的双轴取向的聚丙烯)。图IB的抗反射膜还包括设置在微结构化的高折射率层上的低折射率表面层80。如图IB所示，该抗反射膜的暴露的低折射率(观测)表面层也包括由基础微结构化的高折射率层形成的微结构化表面。高折射率层的折射率为至少约I. 60。对于具有分散于交联的有机材料中的高折射率无机(例如氧化锆)纳米粒子的涂层而言，高折射率层的最大折射率通常不超过约I. 75。低折射率层的折射率小于高折射率层的折射率。高折射率层与低折射率层之间的折射率差值通常为至少O. 10、或O. 15、或O. 2或更大。低折射率层的折射率通常小于约I. 5，更通常 的是小于约I. 45，并且甚至更通常地小于约I. 42。低折射率层的最低折射率一般为至少约
I.35。耐用的哑光或抗反射膜通常包含与相对较薄的低折射率层结合的相对较厚的高折射率层。高折射率层通常具有至少O. 5微米、优选至少I微米、且更优选至少2或3微米的平均厚度(“t”)。高折射率层的厚度通常不超过15微米，且更通常的是不超过4或5微米。该低折射率层具有约1/4波长的光学厚度。该厚度典型地小于O. 5微米，更典型地小于约O. 2微米，并且常常为约90nm至IlOnm当耐用高折射率层与耐用低折射率层结合使用时，可在没有附加硬涂层的情况下生成耐用(如两层)抗反射膜。然而，当不需要哑光或抗反射膜的耐久性时，高折射率层的厚度可更薄。在一些实施例中，所述微结构可以为凹陷。例如，图2A为包括凹陷微结构320或微结构空穴的微结构化(例如哑光)层310的示意性侧视图。工具表面(微结构化表面自所述工具表面形成)通常包括多个凹陷。哑光或抗反射膜的微结构通常为凸起。例如，图2B为包括凸起微结构340的微结构化层330的示意性侧视图。图8A-10D显示了包括多个微结构凸起的各种微结构化表面。在一些实施例中，微结构可形成规则图案。例如，图3A为在主表面415中形成规则图案的微结构410的示意性俯视图。然而，微结构通常形成不规则图案。例如，图3B为形成不规则图案的微结构420的示意性俯视图。在一些情况下，微结构可形成显得无规的伪无规图案。(例如分立的)微结构可通过倾斜度表征。图4为一部分微结构化(例如哑光)层140的示意性侧视图。特别地，图4示出了主表面120中且面向主表面142的微结构160。微结构160具有在整个微结构表面上的倾斜度分布。例如，微结构在位置510处具有倾斜度Θ，其中Θ为法线520与切线530之间的角度，法线520在位置510垂直于微结构表面(α =90度)，切线530为在相同位置处的微结构表面的切线。倾斜度Θ也为切线530与哑光层的主表面142之间的角度。通常，高折射率层和抗反射膜的微结构可通常具有高度分布。在一些实施例中，微结构的平均高度(根据实例中描述的测试方法测得)不超过约5微米、或不超过约4微米、或不超过约3微米、或不超过约2微米、或不超过约I微米。平均高度通常为至少O. I或O. 2微米。在一些实施例中，微结构基本上不含(例如无机氧化物或聚苯乙烯)哑光粒子。然而，即使在不存在哑光粒子的条件下，微结构70和高折射率层通常包含(例如氧化锆)纳米粒子30,如图IA所示。选择纳米粒子的尺寸以避免显著的可见光散射。可能希望使用多种类型的无机氧化物颗粒的混合物，以便使光学性能或材料性能达到最优，并且降低组合物的总成本。经表面改性的胶体纳米粒子可为(例如非缔合)原生粒度或缔合粒度为至少Inm或5nm的无机氧化物粒子。原生粒度或缔合粒度通常小于100nm、75nm或50nm。通常，原生粒度或缔合粒度小于40nm、30nm、或20nm。优选的是,纳米粒子为非缔合的。它们的测量可依赖于透射电子显微镜(TEM)。表面改性的胶体纳米粒子基本上可以充分凝结。完全凝结的纳米粒子(除二氧化硅之外)的结晶度(以分离的金属氧化物颗粒的形 式测量)通常大于55%、优选大于60%，并且更优选大于70%。例如，结晶度可达到约86%或更高。结晶度可以采用X光衍射技术进行测定。凝结的结晶(如氧化锆)纳米粒子具有高折射率，而无定形纳米粒子通常具有低折射率。由于显著更小的纳米粒子尺寸，这种纳米粒子不形成微结构。相反，微结构包括多个纳米粒子。虽然未示出，但低折射率层80通常也包括(例如二氧化硅)纳米粒子。在其它实施例中，高折射率层的微结构的一部分包括嵌入的哑光粒子。哑光粒子通常具有大于约O. 25微米(250纳米)、或大于约O. 5微米、或大于约
O.75微米、或大于约I微米、或大于约I. 25微米、或大于约I. 5微米、或大于约I. 75微米、或大于约2微米的平均尺寸。对于包含相对较薄的高折射率层的抗反射膜而言，通常为较小的哑光粒子。然而，对于其中高折射率层更厚的实施例，哑光粒子可具有最高至5微米或10微米的平均尺寸。哑光粒子的浓度可为至少I或2重量％至约5、6、7、8、9或10重量％或更大。图5为包括设置于基材850上的哑光层860的光学膜800的不意性侧视图。哑光层860包括附着至基材850的第一主表面810以及分散于聚合粘合剂840中的多个哑光粒子830和/或哑光粒子聚集体。相当大一部分，如至少约50%、或至少约60%、或至少约70%、或至少约80%、或至少约90%的微结构870不存在哑光粒子830或哑光粒子聚集体880。因此，这种微结构不含(例如嵌入的)哑光粒子。据认为，(例如二氧化硅或CaCO3)哑光粒子的存在可提供改进的耐用性，即使当这种哑光粒子的存在不足以提供所需的抗反射性、透明度和雾度性质时，如随后所述。然而，由于相对较大的哑光粒子尺寸，因此难以将哑光粒子保持均匀地分散于涂料组合物中。这可导致施用的哑光粒子的浓度的变化(特别是就料片涂层而言)，这进而导致哑光性质的变化。对于其中至少一部分微结构包括嵌入的哑光粒子或聚集的哑光粒子的实施例，哑光粒子的平均尺寸通常足够小于微结构的平均尺寸(例如至少为约2分之一或更小)，使得所述哑光粒子被微结构化层的可聚合树脂组合物所围绕，如图5所示。当哑光层包括哑光粒子时，所述哑光层具有比粒子的平均尺寸大至少约O. 5微米、或至少约I微米、或至少约I. 5微米、或至少约2微米、或至少约2. 5微米、或至少约3微米的平均厚度“t”。
作为另外一种选择或除此之外，低折射率层可包括哑光粒子。可使用任何合适的制造方法来制备微结构化表面。通常通过浇铸和固化与工具表面接触的可聚合树脂组合物使用从工具微复制来制造微结构，例如在美国专利No. 5，175，030 (Lu等人)和No. 5，183，597 (Lu)中所述。可使用任何可用的制造方法，如通过使用雕刻或金刚石车削而制造工具。示例性的金刚石车削系统和方法可包括和利用例如PCT已公布的专利申请No. WO 00/48037以及美国专利No. 7，350，442和No. 7，328，638中所述的快速刀具伺服机构(FTS)，这些专利的公开内容以引用的方式并入本文。图6为可用于切削工具的切削工具系统1000的示意性侧视图，该工具可被微复制以产生微结构160和哑光层140。切削工具系统1000采用螺纹切削车床车削工艺，并包括可通过驱动器1030围绕中心轴1020旋转和/或沿中心轴1020移动的辊1010，以及用于切削辊材料的切削器1040。切削器被安装在伺服机构1050上，并且可通过驱动器1060沿χ-方向移动至辊内和/或沿辊移动。通常，切削器1040垂直于辊和中心轴1020安装，并且在辊围绕中心轴旋转的同时被驱动到辊1010的可雕刻材料内。然后平行于中心轴驱动切削器以产生螺纹切削。可同时以高频率和低位移来致动切削器1040以在辊中产生复制时 得到微结构160的特征。伺服机构1050为快速刀具伺服机构(FTS)，并且包括快速调节切削器1040位置的固态压电(PZT)装置(通常也称为PZT叠堆)。FTS 1050允许切削器1040在x_、y-和/或Z-方向上，或在偏轴方向上的高精确和高速移动。伺服机构1050可为能够相对于静止位置产生受控移动的任何高品质位移伺服机构。在一些情况下，伺服机构1050可牢靠地且可重复地提供分辨率为约O. I微米或更好的O至约20微米范围内的位移。驱动器1060可沿平行于中心轴1020的x_方向移动切削器1040。在一些情况下，驱动器1060的位移分辨率优于约O. I微米，或优于约O. 01微米。驱动器1030产生的旋转移动与驱动器1060产生的平移移动同步进行，以便精确地控制微结构160的所得形状。辊1010的可雕刻材料可为能够通过切削器1040进行雕刻的任何材料。示例性的辊材料包括金属(如铜)、各种聚合物,和各种玻璃材料。切削器1040可为任何类型的切削器，并在应用中可具有可能期望的任何形状。例如，图7A为具有半径“R”的弧形切削刀头1115的切削器1110的示意性侧视图。在一些情况下，切削刀头1115的半径R为至少约100微米、或至少约150微米、或至少约200微米。在一些实施例中，切削刀头的半径R为至少约300微米、或至少约400微米、或至少约500微米、或至少约1000微米、或至少约1500微米、或至少约2000微米、或至少约2500微米、或至少约3000微米。或者，工具的微结构化表面可使用如图7B所示的具有V形切削刀头1125的切削器1120、如图7C所示的具有分段线性切削刀头1135的切削器1130、或如7D所示的具有弯曲切削刀头1145的切削器1140而形成。在一个实施例中，使用顶角β为至少约178度或更大的V形切削刀头。重新参照图6，当切削辊材料时，辊1010沿中心轴1020的旋转和切削器1040沿
χ-方向的移动限定了围绕辊的沿中心轴具有间距P1的螺纹路径。当切削器沿垂直于辊表面的方向移动以切削辊材料时，由切削器切削的材料的宽度随切削器移入和移出或者切入和切出而改变。参照例如图7Α，切削器的最大穿透深度对应于切削器切削的最大宽度Ρ2。通常，比率P2A31在约2至约4范围内。通过微复制九个不同的图案化工具以制备高折射率哑光层而制得数个微结构化的高折射率层。由于高折射率哑光层的微结构化表面为工具表面的精确复制，所以微结构化的高折射率层的如下描述也是反相工具表面的描述。微结构化表面H5和H5A使用相同的工具，因此显示基本上相同的补足累积倾斜度值分布FcJ Θ )和峰尺寸特性，如随后所述。微结构化表面HlOA和HlOB也使用相同的工具，因此也显示基本上相同的补足累积倾斜度值分布Fee( Θ )和峰尺寸特性。微结构化表面H2A、H2B和H2C也使用相同的工具。因此，H2B和H2C具有与H2A基本上相同的补足累积倾斜度值分布和峰尺寸特性。示例性的微结构化的高折射率层的表面轮廓的一些例子示于图8A-9D中。代表性微结构化抗反射膜示于图10A-10D中。
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根据实例中所述的测试方法使用原子力显微镜法(AFM)、共焦显微镜法、或相移干涉测量法表征面积为约200微米X 250微米至面积为约500微米X 600微米的制造样品的表面的代表性部分。倾斜度分布的F。。( Θ )补足累积倾斜度值分布由如公式定义
ΣΛ; ⑷Fccm=^-
Σ勒)
q "C在特定角度(Θ)的F。。为大于或等于Θ的倾斜度的比率。微结构化的高折射率层的微结构的Fee(Q)不于下表I中。表I-微结构化的高折射率层透明度、雾度&累积倾斜度值表征
权利要求
1.一种抗反射膜，其包含高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率表面层；其中所述低折射率层包括具有补足的累积倾斜度值分布的多个微结构，以使得至少30%具有至少O. 7度的倾斜度值，至少25%具有小于I. 3度的倾斜度值，并且所述抗反射膜不含嵌入的哑光粒子。
2.一种抗反射膜，其包含高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率表面层；其中所述低折射率层包括具有补足的累积倾斜度值分布的多个微结构，以使得至少25%具有至少O. 7度的倾斜度值，至少40%具有小于I. 3度的倾斜度值，并且不超过50%的所述微结构包含嵌入的哑光粒子。
3.根据权利要求I所述的哑光膜，其中至少30%的所述微结构具有小于I.3度的倾斜度值。
4.根据权利要求I所述的哑光膜，其中至少35%的所述微结构具有小于I.3度的倾斜度值。
5.根据权利要求I所述的哑光膜，其中至少40%的所述微结构具有小于I.3度的倾斜度值。
6.根据权利要求1-5所述的抗反射膜，其中少于15%的所述微结构具有4.I度或更大的倾斜度值。
7.根据权利要求1-5所述的抗反射膜，其中少于5%的所述微结构具有4.I度或更大的倾斜度值。
8.根据权利要求1-5所述的抗反射膜，其中至少75%的所述微结构具有至少O.3度的倾斜度值。
9.根据权利要求1-8所述的抗反射膜，其中所述表面层包括平均圆当量直径为至少5微米的峰。
10.根据权利要求9所述的抗反射膜，其中所述平均圆当量直径为至少10微米。
11.根据权利要求9或10所述的抗反射膜，其中所述平均圆当量直径小于30微米。
12.根据权利要求9或10所述的抗反射膜，其中所述平均圆当量直径小于25微米。
13.根据权利要求1-8所述的抗反射膜，其中所述微结构化表面包括平均长度为至少5微米的峰。
14.根据权利要求13所述的抗反射膜，其中所述峰具有至少10微米的平均长度。
15.根据权利要求1-8所述的抗反射膜，其中所述微结构化表面包括平均宽度为至少5微米的峰。
16.根据权利要求15所述的抗反射膜，其中所述峰具有小于15微米的平均宽度。
17.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述膜具有小于O.14微米的平均粗糙度(Ra)。
18.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述膜具有小于I.20微米的平均最大表面高度(Rz)。
19.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜具有至少70%的透明度。
20.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜其中所述光学膜具有不超过10%的雾度。
21.一种抗反射膜，其包含微结构化的高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率层，其中所述抗反射膜具有不超过90%的透明度、至少O. 05微米且不超过O. 14微米的平均表面粗糙度，并且所述抗反射膜不含嵌入的哑光粒子。
22.一种抗反射膜，其包含微结构化的高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率层，其中所述抗反射膜具有不超过90%的透明度、至少O. 50微米且不超过I. 20微米的平均最大表面高度，并且所述抗反射膜不含嵌入的哑光粒子。
23.一种抗反射膜，其包含微结构化的高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率层，其中所述抗反射膜具有不超过90%的透明度，并且所述微结构化层包括平均当量直径为至少5微米且不超过30微米的峰，并且不超过50%的所述微结构包含嵌入的哑光粒子。
24.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜在550nm的波长下具有小于2%的平均光适应反射率。
25.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述高折射率层包括折射率为至少I. 60的可聚合树脂组合物的反应产物。
26.根据权利要求25所述的抗反射膜，其中聚合的树脂组合物包含折射率为至少I.60的纳米粒子。
27.根据权利要求26所述的抗反射膜，其中所述纳米粒子包括氧化锆。
28.根据权利要求26-27所述的哑光膜，其中所述纳米粒子用包含羧酸端基的化合物进行表面改性。
29.根据权利要求26所述的抗反射膜，其中所述化合物包含C3-C8酯重复单元或至少一个C6-C16酯单兀。
30.根据权利要求29所述的抗反射膜，其中所述表面处理剂包括以下物质的反应产物 i)至少一种脂族酸酐；和 ii)至少一种羟基聚己内酯(甲基)丙烯酸酯。
31.根据权利要求29或30所述的抗反射膜，其中所述纳米粒子用通过脂族酸酐与羟基C2-C8烷基(甲基)丙烯酸酯的反应制备的化合物进行表面改性。
32.根据权利要求25-31所述的抗反射膜，其中所述可聚合树脂组合物包含含量范围在约10至约20重量％内的一种或多种芳族二(甲基)丙烯酸酯单体。
33.根据权利要求25-32所述的抗反射膜，其中所述可聚合树脂组合物包含约5至约.15重量％的具有至少三个(甲基)丙烯酸酯基团的交联剂。
34.根据权利要求25-33所述的抗反射膜，其中所述可聚合树脂组合物包含最高至约10重量％的芳族单(甲基)丙烯酸酯单体。
35.根据前述权利要求中任一项所述的抗反射膜，其中所述低折射率层包括可自由基聚合的氟化聚合物。
36.根据权利要求35所述的抗反射膜，其中所述可自由基聚合的氟化聚合物包括具有超支化结构的聚合物。
37.根据权利要求36所述的抗反射膜，其中所述可自由基聚合的氟化聚合物包括以下物质的反应产物i)至少一种氟含量为至少25重量％的多官能可自由基聚合材料和ii)可任选的至少一种氟含量在O至小于25重量％范围内的多官能可自由基聚合材料，其中基于所述可聚合有机组合物的固体的重量％，所述多官能材料的总量为至少约25重量％。
38.根据权利要求35所述的抗反射膜，其中所述可自由基聚合的氟化聚合物包括选自TFE、VDF和HFP的至少两种组分单体，并且具有来自至少一种含卤素的固化部位单体的反应性官能度。
39.根据权利要求35-38所述的抗反射膜，其中所述低折射率层包括至少一种氟含量为至少约25重量％的氟化可自由基聚合的单体。
40.根据权利要求35-39所述的抗反射膜，其中所述低折射率层还包括氨基硅烷偶联剂。
41.根据权利要求35-40所述的抗反射膜，其中所述低折射率层还包括热解法二氧化硅。
42.一种高折射率可聚合树脂组合物，其包括 40重量％至70重量％的氧化锆纳米粒子，其用包含羧酸端基和C3-C8酯重复单元或至少一种C6-C16酯单元的化合物进行表面改性； 一种或多种芳族二(甲基)丙烯酸酯单体，其量的范围在约10至约20重量％内； I重量％至15重量％的交联剂，其具有至少三个(甲基)丙烯酸酯基团；和 最多5重量％的芳族单(甲基)丙烯酸酯单体。
43.根据权利要求42所述的高折射率可聚合树脂组合物，其中所述芳族单(甲基)丙烯酸酯单体为联苯单体。
44.一种低折射率可聚合组合物，其包括第一可自由基聚合的氟化聚合物，其包括具有超支化结构的聚合物；和 第二可自由基聚合的氟化聚合物，其包括选自TFE、VDF和HFP的至少两种组分单体，并且具有来自至少一种含卤素的固化部位单体的反应性官能度。
45.根据权利要求44所述的低折射率可聚合组合物，其中所述第一可自由基聚合的氟化聚合物包括以下物质的反应产物i)至少一种氟含量为至少25重量％的多官能可自由基聚合材料和ii)任选的至少一种氟含量在O至小于25重量％范围内的多官能可自由基聚合材料，其中基于所述可聚合有机组合物的固体的重量％，所述多官能材料的总量为至少约25重量％。
46.根据权利要求44-45所述的低折射率可聚合组合物，其中所述低折射率还包括至少一种氟含量为至少约25重量％的氟化可自由基聚合的单体。
47.根据权利要求44-46所述的低折射率可聚合组合物，其中所述低折射率层还包括氣基娃烧偶联剂。
48.根据权利要求44-47所述的低折射率可聚合组合物，其中所述低折射率层还包括表面改性的二氧化硅。
全文摘要
本发明涉及抗反射膜，其包含高折射率层(60)和设置在所述高折射率层上的低折射率层(80)。所述抗反射膜具有可得自微复制工具的微结构化表面(70)。
文档编号G02B1/10GK102884453SQ201180023032
公开日2013年1月16日 申请日期2011年5月3日 优先权日2010年5月7日
发明者小克里斯托弗·B·沃克, 克里斯托弗·P·特伯, 特里·D·范, 史蒂文·H·孔, 约瑟夫·T·阿伦森, 凯尔·J·林德斯特伦, 迈克尔·K·格拉赫, 米歇尔·L·托伊, 陶恩·L·麦肯齐, 安东尼·M·伦斯特, 罗伯特·A·亚佩尔, 米切尔·A·F·约翰逊 申请人:3M创新有限公司