专利名称：光学v型槽基板的精密成型工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及光通信技术，尤其涉及一种光学V型槽基板的精密成型工艺。
背景技术：
XPON作为新一代光纤接入技术，在高干扰性、带宽特性、接入距离、维护管理方面均具有巨大优势，XPON光接入技术比较成熟的EPON和GPON均是由局端0LT、用户端ONU设备和无源光分配网络ODN组成，而光分路器是XPON接入技术中ODN拓扑网络的基础功能器件，做为光分路器组成部分之一的光纤阵列宽度尺寸从2. 5mm-llmm不等，要求组装精度高，光纤与V型槽(V-groove)稱合的误差不能超过Ium,即V-groove的精度要求要达到Ium以下，而现有技术的V-groove成型工艺很难达到如此高的精度。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种光学V型槽基板的精密成型工艺，该工艺加工精度高、完全满足Ium —下的精度要求，且生产效率高。为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案一种光学V型槽基板的精密成型工艺，包括以下步骤台阶加工步骤，在片状光学基板上加工若干均匀分布的平行的台阶，台阶之间留出待加工V型槽区域；基板切割步骤，将加工好台阶的片状光学基板按照待加工V型槽区域的数量切割成若干条状光学基板，每个条状光学基板包括有一个台阶和一个待加工V型槽区域；V型槽切割步骤，将所述条状光学基板置于恒温循环冷却水中，在所述待加工V型槽区域内切割若干均匀分布的V型槽；基板成型步骤，将切割好V型槽的条状光学基板按照V型槽的数量切割成若干单个光学V型槽基板。优选地，所述V型槽切割步骤之前还包括有小槽磨切步骤，在所述待加工V型槽区域上磨切出均匀分布的小槽。优选地，在所述基板成型步骤之后还包括有V型槽自检步骤，通过高倍放大镜将基板上的V型槽放大显示,并将放大后的V型槽图形与显示器上设置的标准V型槽图形对比，判断V型槽是否合格。优选地，在所述V型槽切割步骤中，将所述光学基板放置在基板夹具中进行切割。优选地，所述基板为玻璃基板。本发明的有益效果是本发明的实施例将光学基板置于冷却水循环系统中切割V型槽，通过外界的恒温消除由于热胀冷缩引起的机械零件尺寸变化，从而保证了 V型槽尺寸的高精度、提高了生
产效率。下面结合附图对本发明作进一步的详细描述。
图I是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中台阶加工步骤的成品示意图。图2是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中基板切割步骤的成品示意图。图3是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中V型槽切割步骤的成品示意图。图4是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中基板分离步骤的成品示意图。图5是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺的成品光学V型槽基板的结构示意图。
图6是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中采用的基板夹具的结构示意图。图7是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中采用的基板夹具装载基板的示意图。图8是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中采用的自检工具的结构示意图。图9是本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺中采用的恒温循环冷却水系统的结构示意图。
具体实施例方式下面参考图I-图9详细描述本发明的光学V型槽基板的精密成型工艺的一个实施例；如图所示，本实施例实现一次光学V型槽的成型流程主要包括以下步骤台阶加工步骤，在片状光学基板10上加工若干均匀分布的平行的台阶11，台阶11之间留出待加工V型槽区域12 ；基板切割步骤，将加工好台阶11的片状光学基板10按照待加工V型槽区域12的数量切割成若干条状光学基板101，每个条状光学基板101包括有一个台阶11和一个待加工V型槽区域12 ；V型槽切割步骤，将所述条状光学基板101置于恒温循环冷却水中，在所述待加工V型槽区域12内切割若干均匀分布的V型槽121 ；基板成型步骤，将切割好V型槽121的条状光学基板101按照V型槽121的数量切割成若干单个光学V型槽基板102。具体实现时，在所述V型槽切割步骤之前还包括有小槽磨切步骤，在所述待加工V型槽区域上磨切出均匀分布的小槽。在所述基板成型步骤之后还包括有V型槽自检步骤，通过高倍放大镜将基板上的V型槽放大显示,并将放大后的V型槽图形与显示器上设置的标准V型槽图形对比，判断V型槽是否合格。作为本实施例的一个优选实施方式，在所述V型槽切割步骤中，将所述光学基板放置在基板夹具中进行切割。另外，所述基板采用玻璃基板。本实施例的台阶加工步骤中，采用湿磨床和基板夹具作为加工设备和工具。与现有技术相比，本发明具有以下优点
I、将光学基板置于冷却水循环系统中切割V型槽，通过外界的恒温消除由于物理热胀冷缩引起的机械零件尺寸变化，本实施例的循环冷却水系统采用闭环控制系统，通过高精度的温度传感器反馈以及系统控制，可使水温控制在±0. 2°C以内，使得机械零件的尺寸变化量最小，从而保证V型槽间距为127um或250um，精度达到Ium以内。2、采用简单易用的基板夹具对加工过程中的基板进行固定，改善了切割效率低的问题，进一步提高了生产效率和加工精度。3、切割V型槽之前，在待加工V型槽区域膜切出一道道小槽，这些小槽位于整个V槽区,可大大优化V型槽切割性能，改善加工过程中维护成本过高的问题。4、通过简单有效的自检,提高了检测V-groove产品的效率。5、提高了台阶加工效率。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，包括以下步骤 台阶加工步骤，在片状光学基板上加工若干均匀分布的平行的台阶，台阶之间留出待加工V型槽区域； 基板切割步骤，将加工好台阶的片状光学基板按照待加工V型槽区域的数量切割成若干条状光学基板，每个条状光学基板包括有一个台阶和一个待加工V型槽区域； V型槽切割步骤，将所述条状光学基板置于恒温循环冷却水中，在所述待加工V型槽区域内切割若干均匀分布的V型槽； 基板成型步骤，将切割好V型槽的条状光学基板按照V型槽的数量切割成若干单个光学V型槽基板。
2.如权利要求I所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，所述V型槽切割步骤之前还包括有 小槽磨切步骤，在所述待加工V型槽区域上磨切出均匀分布的小槽。
3.如权利要求I或2所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，在所述基板成型步骤之后还包括有 V型槽自检步骤，通过高倍放大镜将基板上的V型槽放大显示，并将放大后的V型槽图形与显示器上设置的标准V型槽图形对比，判断V型槽是否合格。
4.如权利要求3所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，在所述V型槽切割步骤中，将所述光学基板放置在基板夹具中进行切割。
5.如权利要求4所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，所述基板为玻璃基板。
全文摘要
本发明公开一种光学V型槽基板的精密成型工艺，包括以下步骤台阶加工步骤，在片状光学基板上加工若干均匀分布的平行的台阶，台阶之间留出待加工V型槽区域；基板切割步骤，将加工好台阶的片状光学基板按照待加工V型槽区域的数量切割成若干条状光学基板，每个条状光学基板包括有一个台阶和一个待加工V型槽区域；V型槽切割步骤，将所述条状光学基板置于恒温循环冷却水中，在所述待加工V型槽区域内切割若干均匀分布的V型槽；基板成型步骤，将切割好V型槽的条状光学基板按照V型槽的数量切割成若干单个光学V型槽基板。本发明可保证V型槽的加工精度在1um以内，并提高生产效率。
文档编号G02B6/25GK102707376SQ20121018683
公开日2012年10月3日 申请日期2012年6月7日 优先权日2012年6月7日
发明者吴传洁 申请人:深圳市中兴新地通信器材有限公司