专利名称：一种黑膜结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及器件装饰领域，特别是一种具有降低反射率的光学结构、减少可见光各波长反射率差异的黑膜结构。
背景技术：
现今许多手机、家电或镜框等，大多喜欢以黑色凸显其时尚感，以增加其工艺价值。尤以信息产品为甚，例如计算机、通讯产品及消费者电子产品。举例而言，例如笔记型计算机外框、相机镜头边框、液晶屏幕外框、电视外框、平板计算机及手机外框皆常见此类型的设计。目前，手机、家电或镜框等染黑色的方法同样多为涂黑漆、烤漆或黏上一层黑色胶膜。其中黑漆大多缺乏亮面效果，因而减少黑色特有的时尚感。烤漆或黑色胶膜较容易有 亮面效果，而产生更多时尚感，但烤漆或黑色胶膜容易因碰撞或刮伤使得颜色脱落，导致折旧而减少其价值。因此需要一种不易磨损的黑膜，以维持外观。
发明内容鉴于现有技术问题，本实用新型目的就是提供一种黑膜结构，以解决现有黑膜结构容易磨损且反射率太高的问题。为达上述目的，本实用新型的黑膜结构，其包含第一光吸收层；透明的连接层，所述连接层位于第一光吸收层上；具有第一厚度的第二光吸收层，所述第二光吸收层位于所述连接层上，且第一厚度的大小与可见光反射率呈对应关系；具有第二厚度的调整层，所述调整层位于所述第二光吸收层上，所述调整层使可见光各波长反射率的差异性变小；以及基材，所述基材位于所述调整层上或所述第一光吸收层下。其中，本实用新型黑膜结构由第一光吸收层、连接层与第二光吸收层形成，具有降低可见光反射率的光学结构，此光学结构的可见光反射率与第二光吸收层的第一厚度呈对应关系。例如，此光学结构的可见光反射率与第二光吸收层的第一厚度成正比。另外，本实用新型的黑膜结构通过改变调整层的第二厚度使可见光各波长反射率的差异性变小，以减少黑膜结构颜色产生偏移的现象。这是因为改变调整层的第二厚度可使得反射率波峰于可见光区段中，避免产生往长波长偏移或短波长偏移，进而避免黑膜结构颜色产生偏红或偏蓝的现象。其中，第一光吸收层与第二光吸收层的材质可为铬、钛或其它具有低反射率金属，且第二光吸收层第一厚度小于30nm,且第一厚度较佳为6nm至16. 5nm的区间内，调整层的第二厚度介于约50nm至约150nm之间，而第二厚度较佳为65nm。其中，调整层与连接层的材质为硅氧化物、氮化物或铝氧化物等低折射率材料，基材为玻璃、金属或闻分子材料。[0014]综上所述，本实用新型的黑膜结构，其可具有下述优点(I)本实用新型通过调整层保护黑膜结构，减少外在磨损。(2)本实用新型通过调整层以减少可见光各波长反射率的差异性，避免黑膜结构色泽产生偏红或偏蓝的现象。(3)本实用新型通过调整层以减少可见光各波长反射率的差异性，增加黑膜结构的均匀度。(4)本实用新型黑膜结构由第一光吸收层、连接层与第二光吸收层组成光学结构降低反射率，增加黑膜结构的黑色色泽。
图I为实施例黑膜结构示意图。图2为实施例黑膜结构的光学示意图。图3为实施例第二光吸收层的第一厚度对可见光平均反射率示意图。图4为实施例黑膜结构制造方法流程图。图5为本实施例黑膜结构可见光反射率与可见光波长的对应关系图。组件符号说明I :基材B :第二厚度2 :第一光吸收层 al :光线3 :连接层a2 :反射光4 :第二光吸收层 a3 :第一折射光5 :调整层a4 第一反射光A :第一厚度bl:第二折射光 c2:第三反射光b2:第二反射光 c3:第四反射光b3 :第三折射光 d :第五折射光Cl :第四折射光 e :可见光反射率最大差异值
具体实施方式
下面将结合附图对实施例进行详细说明。请参阅图1，本黑膜结构包含第一光吸收层2，此第一光吸收层2产生打底效果。此第一光吸收层2上形成连接层3，连接层3上形成第二光吸收层4，其中此连接层3用以连接第一光吸收层2与第二光吸收层4。第二光吸收层4上形成调整层5，用以产生保护作用，减少外在磨损。其中，第一光吸收层2与第二光吸收层4的材质为低反射率材质,本实施例采用铬或钛。连接层3与调整层5的材质为可透光的硅氧化物或铝氧化物等低折射率材质。此外，黑膜结构更可包含基材1，此基材I可位于第一光吸收层2下，或位于调整层5上。而且，当基材I位于不同位置时，会使得从调整层5的方向观看此黑膜结构显示不同色泽与均匀度。另外，基材I的材质为金属、玻璃或高分子材料等。如图I与图3所示，本实施例中，第一光吸收层2、连接层3与第二光吸收层4形成光学结构，此光学结构能吸收光线而降低光线反射率。其中，以基材I位于第一光吸收层2下为例，位于基材I上的第一光吸收层2为铬层。其中铬材质具有良好镀率、致密性与附着力。此第一光吸收层2厚度范围为50nm至350nm，更佳为75nm至130醒，本实施例的第一光吸收层2厚度举例为lOOnm。此外，第一光吸收层2厚度变化与黑膜结构之整体平均反射率并无直接关系。此外，连接层3之厚度范围可为50至150nm，更佳为70nm至90nm，且较佳厚度系为80nm。在本实施例中，第二光吸收层4为铬层，其中此第二光吸收层4第一厚度A与反射光的 可见光平均反射率呈对应关系。例如，此第二光吸收层4的第一厚度A与反射光可见光平均反射率在特定范围内呈正比关系。如图3所示，当第二光吸收层4第一厚度A为20nm时，可见光平均反射率为5. 96% ;当第二光吸收层4的第一厚度A为15nm时，可见光平均反射率为3. 48% ；当第二光吸收层4的第一厚度A为IOnm时，可见光平均反射率为I. 52% ;当第二光吸收层4的第一厚度A为5nm时，可见光平均反射率为0. 94%。综上所述，若第二光吸收层4的第一厚度A越薄，则可见光平均反射率越小。但第二光吸收层4的第一厚度A小于6nm时，其可见光平均反射率便会微幅上升。此外，第二光吸收层4的第一厚度A为6nm至16. 5nm区间内为佳。如图I与图5所示，调整层5位于第二光吸收层4上，此调整层5的第二厚度B范围为50nm至150nm之间。其中，当调整层5的第二厚度B变厚时，可见光波长较长的红光区反射率跟着增加，因此导致反射光颜色偏黄，且可见光反射率最大差异值e亦增加。具体来说，当调整层5的第二厚度B大于90nm时，反射光颜色偏黄，且可见光反射率最大差异值e将接近5%。其中，调整层5较佳厚度为65nm，调整层5的第二厚度B为65nm时，可见光反射率最大差异值e小于1%。当调整层5第二厚度B为65nm时，黑膜结构反射颜色较为平均，使黑膜结构的颜色不会因为反射率波峰于可见光区段中，往长波长偏移或往短波长偏移而产生色泽偏红或偏蓝的现象。换言之，当调整层5第二厚度B为65nm，且第二光吸收层4第一厚度A为15nm时，可见光反射率最大差异值e不仅小于1%，且比无调整层5的差异值更小。如此一来，黑膜结构所显现出的颜色会较均匀，但色泽度会变浅。如图I与图2所示，光线al照射黑膜结构后产生反射光a2与射入调整层5的第一折射光a3,第一折射光a3接触到第二光吸收层4后产生第一反射光a4与第二折射光bl,其中第一反射光a4与反射光a2所对应波长的光线al发生破坏性干涉，吸收反射光a2所对应波长的光线al。射入第二光吸收层4的第二折射光bl接触到连接层3后产生第二反射光b2与第四折射光Cl，第二反射光b2于第二光吸收层4反复折射与反射产生多个不同光程差的第二反射光b2，此多个不同光程差的第二反射光b2接触调整层5时产生多个不同光程差的第三折射光b3,此多个不同光程差的第三折射光b3与所对应波长的反射光a2发生破坏性干涉，吸收反射光a2所对应波长的光线al。 射入连接层3的第四折射光Cl碰触到第一光吸收层2后产生第三反射光c2，第三反射光c2触到第二光吸收层4后产生第四反射光c3，第二光吸收层4中反复折射与反射产生之复数个不同光程差的第二反射光b2于连接层3中折射出多个不同光程差的第五折射光d，此多个不同光程差的第五折射光d与第五折射光d所对应波长的光线发生破坏性干涉，吸收第五折射光d所对应波长的光线。详细来说，本实用新型通过改变调整层5的第二厚度B与第二光吸收层4的第一厚度A后，即可改变黑膜结构对可见光各波长的反射率。其中，改变调整层5的第二厚度B可用于调整可见光各波长反射率的差异性，使黑膜结构反射光线更平均。其中，改变第二光吸收层4第一厚度A可用于降低可见光各波长的反射率，降低黑膜结构的可见光平均反射
率。 如图I与图4所示，以黑膜结构的基材I位于第一光吸收层2下为例，本实施例的黑膜结构制造方法，包含下列步骤步骤SI，提供基材I。步骤S2，形成第一光吸收层2于前一步骤的结果上。步骤S3，形成连接层3于前一步骤的结果上。步骤S4，形成具有第一厚度A的第二光吸收层4于前一步骤的结果上。以及步骤S5，形成具有第二厚度B的调整层5于前一步骤的结果上。举例来说，制造方法先在步骤SI中提供金属、玻璃或高分子材料的基材1，于步骤S2中形成第一光吸收层2于基材I上，再于步骤S3中形成连接层3于第一光吸收层2上，再于步骤S4中形成具有第一厚度A的第二光吸收层4于连接层3上，最后于步骤S5中形成具有第二厚度B的调整层5于第二光吸收层4上，以此形成本实用新型的黑膜结构。另外，当基材I位于调整层5上时，此黑膜结构制造方法在步骤SI后，依序进行步骤S5、步骤S4、步骤S3与步骤S2，舉例来说，先在步骤SI中提供金属、玻璃或高分子材料的基材1，于步骤S5中形成具有第二厚度B的调整层5于基材I上，再于步骤S4中形成具有第一厚度A的第二光吸收层4于调整层5上，再于步骤S3中形成连接层3于第二光吸收层4上，最后于步骤S2中形成第一光吸收层2于连接层3上，以此形成本实用新型的黑膜结构。亦或者，依序进行步骤S2、步骤S3、步骤S4与步骤S5，且基材I与调整层5连结。此外，前述第一光吸收层2、连接层3、第二光吸收层4及调整层5的形成方法为溅镀、电镀、蒸锻、化学沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)、电衆化学气相沉积(Plasma enhancedChemical Vapor Deposition, PECVD)或涂布等沉积方法。其中，第一光吸收层2与第二光吸收层4的材质为铬、钛等低反射率的材质。其中，调整层5与连接层3的材质为硅氧化物、氮化物或铝氧化物等低折射率材质，且基材I的材质为玻璃、金属或高分子材料。此外，第二光吸收层4的第一厚度A小于30nm,且较佳为6nm至16. 5nm此区间。所述调整层5的第二厚度B介于50nm至150nm之间，且较佳为65nm。以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本创作之精神与范畴，而对其进行之等效修改或变更，均应包含于后附之申请专利范围中。
权利要求1.一种黑膜结构，其特征在于，其包含 第一光吸收层； 透明的连接层，位于所述第一光吸收层上； 具有第一厚度的第二光吸收层，位于所述连接层上，其中所述第二光吸收层的第一厚度小于30nm ； 具有第二厚度的调整层，位于所述第二光吸收层上，其中所述调整层的第二厚度介于50nm至150nm,以减少反射光中可见光各波长反射率的差异性；以及， 基材，位于所述第一光吸收层下或所述调整层上。
2.如权利要求I所述的黑膜结构，其特征在于，所述第一光吸收层与所述第二光吸收层、所述调整层与所述连接层的材质为低反射率材质。
3.如权利要求2所述的黑膜结构，其特征在于，所述第一光吸收层与所述第二光吸收层的材质为铬或钛。
4.如权利要求2所述的黑膜结构，其特征在于，所述调整层与所述连接层的材质为硅氧化物、氮化物或铝氧化物中的一种。
5.如权利要求I所述的黑膜结构，其特征在于，所述第二光吸收层的第一厚度大小与所述反射光的可见光反射率呈对应关系。
6.如权利要求5所述的黑膜结构，其特征在于，所述对应关系是正比关系。
7.如权利要求I所述的黑膜结构，其特征在于，所述基材之材质为玻璃、金属或高分子材料。
专利摘要本实用新型揭示一种黑膜结构，此黑膜结构具有不透光的第一光吸收层，透光的连接层位于第一光吸收层上，第二光吸收层位于连接层上，以此形成降低反射率的光学结构。其中，本实用新型还包含透光的调整层，调整层位于第二光吸收层上，此调整层能调整各波长光线的反射率，以缩减可见光区段中各波长的反射率的差异，避免黑膜结构色泽产生偏红或偏蓝的现象，增加黑膜的均匀度和色泽。
文档编号G02B5/00GK202661657SQ20122020632
公开日2013年1月9日 申请日期2012年5月9日 优先权日2012年3月30日
发明者李智渊, 蔡硕文, 黄耀贤, 蔡俊毅 申请人:钜永真空科技股份有限公司