放大成像光学单元和包含该成像光学单元的测量系统的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；49；50；51；53；60；61)，-包含至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，所述成像光束路径(8)在所述成像光束路径(8)中相邻的反射镜(M1至M4)之间具有成像部分光线(25、19、20)，-其中，所述光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；49；50；51；53；60；61)被设计为使得--所述成像光束路径(8)中的第二个反射镜(M2)和所述成像光束路径(8)中的第三个反射镜(M3)之间的第一成像部分光线(19)，以及--所述成像光束路径(8)中的所述第三个反射镜(M3)之后的第二成像部分光线(20)--分别通过所述成像光束路径(8)中的第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的至少一个通口(21；21a、21b)。2.根据权利要求1所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述第一成像部分光线(19)和所述第二成像部分光线(20)分别通过所述第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的同一通口(21)。3.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述光学单元(7；27；32；34；39)被设计为使得在所述成像光束路径(8)中的第四个反射镜(M4)和所述像场(9)之间的第三成像部分光线(37)通过所述成像光束路径(8)中的所述第一个反射镜(M1)的所述镜体(22)。4.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述通口(21)在所述成像光束路径(8)中至少按部分地被所述第二个反射镜(M2)遮蔽。5.一种放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；53；55；57；61)，-包含至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，-具有至多为1300mm的结构长度T，结构长度T为所述物平面(11)和所述像平面(12)之间的距离，-比率T/β小于1.5mm，其中T为所述结构长度，β为成像比例，-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主光线(13)之间的物方主光线角度α为至少6°。6.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于至少0.2的物方数值孔径。7.根据权利要求1、2或5述的放大成像光学单元，其特征在于，所述物场(6)具有至少40μmx200μm的尺寸。8.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于，RMS波前像差至多为500mλ。9.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于，畸变至多为63μm。10.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主光线(13)之间的物方主光线角度α小于1°，或者-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主光线(13)之间的物方主光线角度α至少为6°。11.根据权利要求10所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述中心物场点的主光线(13)在所述成像光束路径(8)中的所述第一个反射镜(M1)上的照射点(28)、以及所述中心物场点的主光线(13)在所述成像光束路径(8)中的所述第四个反射镜(M4)上的照射点(29)位于一平面(30)的不同侧上，该平面(30)垂直于所述成像光学单元(27；34；41；47)的子午面，并且所述物平面(11)的法线(16)位于所述平面(30)中。12.根据权利要求10所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述中心物场点的主光线(13)在所述成像光束路径(8)中的所述第一个反射镜(M1)上的照射点(28)、以及所述中心物场点的主光线(13)在所述成像光束路径(8)中的所述第四个反射镜(M4)上的照射点(29)位于一平面(30)的相同侧上，该平面(30)垂直于所述成像光学单元(32；39；43；45)的子午面，并且所述物平面(11)的法线(16)位于所述平面(30)中。13.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于孔径光阑(17)，其中至少两个成像部分光线(24、19)通过所述孔径光阑(17)。14.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于在所述物场(6)和所述像场(9)之间的所述成像光束路径(8)中有至少两个中间像(18；35)。15.一种用于检查物体的测量系统，-包含根据权利要求1至14中任一项所述的放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47)，-包含用于照明所述物场(6)的光源(3)，-包含检测所述像场(9)的空间分辨检测装置(10)。