集成光学透镜检测器针孔及集成光学透镜检测器的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种集成光学透镜检测器针孔，包括透镜本体和通光体，所述通光体上具有通光孔，所述通光体设置于透镜本体内部，且所述通光体上表面与透镜本体的上表面平行。以改进现有技术中集成光学透镜检测器针孔的结构，以避免了集成光学透镜检测器针孔中产生SiO2等堆积物对投影透镜波面检测造成影响，从而提高了集成光学透镜检测器的波面检测的准确性。
【专利说明】集成光学透镜检测器针孔及集成光学透镜检测器
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光刻机透镜波面检测装置，尤其涉及集成光学透镜检测器针孔及集成光学透镜检测器。
【背景技术】
[0002]集成电路技术遵循着摩尔定律快速向前发展，目前主流的集成电路制造技术已进入55nm、45nm甚至更小的阶段；其中光刻无疑是推动集成电路发展的主要技术，而投影透镜(Project Lens)则是光刻机中最为重要的部件，因此对于投影透镜的性能，如波面的检测(直接关系到焦距、关键尺寸及其均匀性等参数)也显得非常重要。
[0003]投影透镜(Project Lens)则是光刻机中最为重要的部件，投影透镜的性能如波面检测，直接关系到焦距、关键尺寸及其均匀性等参数。目前尼康光刻机主要采用一种叫集成光学透镜检测器(IPot, integrated projection optics tester)的装置,对其投影透镜的波面进行检测。实际过程中发现，在IPot针孔的角落，会形成Si02堆积物，造成测量投影透镜和IPot的共同相差时，光路在IPot的针孔中发生变化，从而影响了投影透镜的波面检测结果。
[0004]具体地，图1 (a)为现有技术中投影透镜和集成光学透镜检测器共同相差量测示意图，结合图1，所述IPot4主要由针孔5 (Pin Hole)，物镜6 (Objective Lens)，透镜阵列7 (MLA, Multi Lens Array)和电荷稱合摄像机8 (CO), Camera)组成。波面检测可分为三
I K
少:
[0005]步骤一:测量投影透镜和集成光学透镜检测器共同的相差如下:如图1 (a)所示，光源I发出的光线通过带针孔的光罩2，经过投影透镜3进入集成光学透镜检测器4中，通过集成光学透镜检测器中的针孔5，图1 (b)为现有技术中投影透镜和集成光学透镜检测器共同相差量测中正常集成光学透镜检测器针孔的光路图，其光路如图1 (b)上所示，经由物镜6和透镜阵列7到达收集信号的电荷耦合摄像机8上。
[0006]步骤二:图2 (a)为现有技术中集成光学透镜检测器自身的相差量测示意图；图2(b)为现有技术中集成光学透镜检测器自身的相差量测中正常集成光学透镜检测器针孔的光路图。测量集成光学透镜检测器4自身的相差的过程包括:如图2 (a)所示，光源I发出的光线通过空白的光罩2，经过透镜3进入集成光学透镜检测器4中，通过集成光学透镜检测器4中的针孔5，其光路如图2 (b)所示，之后的光路同步骤一。
[0007]步骤三:通过计算步骤一和步骤二相差差值，得到投影透镜3的相差，从而得到波面信息。
[0008]图3为现有技术中集成光学透镜检测器针孔的结构示意图，图4(a)为现有技术中投影透镜和集成光学透镜检测器共同相差量测中异常集成光学透镜检测器针孔的光路图；图4 (b)为现有技术中集成光学透镜检测器自身的相差量测中异常集成光学透镜检测器针孔的光路图；结合图3、图4 (a)和图4 (b)，在实际过程中发现，在集成光学透镜检测器针孔5的角落，会形成SiO2堆积物，造成测量投影透镜和集成光学透镜检测器的共同相差时，光路在集成光学透镜检测器针孔中发生变化，如图4 (a)所示；而量测集成光学透镜检测器自身相差时，光路在集成光学透镜检测器针孔中未发生变化，如图4 (b)所示，从而影响了投影透镜3的波面检测结果。
【发明内容】
[0009]本发明要解决的技术问题是，改进现有技术中集成光学透镜检测器针孔的结构，以避免了集成光学透镜检测器针孔中产生SiO2等堆积物对投影透镜波面检测造成影响，从而提高了集成光学透镜检测器的波面检测的准确性。
[0010]为解决上述技术问题，本发明提供一种集成光学透镜检测器针孔，包括透镜本体和通光体，所述通光体上具有通光孔，所述通光体设置于透镜本体内部，且所述通光体上表面与透镜本体的上表面平行。
[0011]进一步的，所述透镜本体的材质为二氧化硅。
[0012]进一步的，所述通光体的材质为金属。
[0013]本发明还提供一种集成光学透镜检测器，包括依次排列的所述的集成光学透镜检测器针孔、物镜，透镜阵列以及电荷耦合摄像机。
[0014]进一步的，所述集成光学透镜检测器针孔还包括光程差消除装置，所述光程差消除装置设置于所述透镜阵列和所述电荷耦合摄像机之间。
[0015]本发明所述集成光学透镜检测器针孔，所述通光体上表面与透镜本体的上表面平行，高度保持一致，使其不可能堆积SiO2或其它杂物，同时集成光学透镜检测器针孔填充物直接在其下的透镜设计上实现，避免不同物质之间的折射等现象，使得数据处理简单，结果更加精确，从而确保集成光学透镜检测器量测结果的准确可信。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1 (a)为现有技术中投影透镜和集成光学透镜检测器共同相差量测示意图；
[0017]图1 (b)为现有技术中投影透镜和集成光学透镜检测器共同相差量测中正常集成光学透镜检测器针孔的光路图；
[0018]图2 Ca)为现有技术中集成光学透镜检测器自身的相差量测示意图；
[0019]图2 (b)为现有技术中集成光学透镜检测器自身的相差量测中正常集成光学透镜检测器针孔的光路图；
[0020]图3为现有技术中集成光学透镜检测器针孔的结构示意图；
[0021]图4 (a)为现有技术中投影透镜和集成光学透镜检测器共同相差量测中异常集成光学透镜检测器针孔的光路图；
[0022]图4 (b)为现有技术中集成光学透镜检测器自身的相差量测中异常集成光学透镜检测器针孔的光路图；
[0023]图5为本发明一实施例中集成光学透镜检测器针孔的结构示意图。
[0024]图6为本发明一实施例中集成光学透镜检测器的结构示意图。
【具体实施方式】
[0025]为使本发明的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本发明的内容作进一步说明。当然本发明并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本发明的保护范围内。
[0026]下面对本发明的实施例作详细的说明，本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本发明的保护范围不限于下述的实施例。
[0027]图6为本发明一实施例中集成光学透镜检测器的结构示意图。如图6所示，本发明还提供一种集成光学透镜检测器针孔50，包括透镜本体520和通光体510，所述通光体510上具有通光孔，所述通光体510设置于透镜本体520内部，且所述通光体510上表面与透镜本体520的上表面平行。由于将集成光学透镜检测器针孔50填充，同时所述通光体510上表面与透镜本体520的上表面平行，高度保持一致，使其不可能堆积SiO2或其它杂物，避免不同物质之间的折射等现象，使得数据处理简单，结果更加精确，确保集成光学透镜检测器的量测结果的准确可信。
[0028]进一步的，所述透镜本体520的材质为用于透光的二氧化硅材质，所述通光体510的材质为用于遮光的金属。具体所述透镜本体520及通光体510的厚度及工艺特性可以根据实际工艺要求具体确定。
[0029]图5为本发明一实施例中集成光学透镜检测器的结构示意图。如图5所示，本发明还提供一种集成光学透镜检测器40，包括依次排列的所述的集成光学透镜检测器针孔50、物镜60，透镜阵列70以及电荷耦合摄像机80。
[0030]此外，所述通光体510填充与所示透镜本体520中引起的光程差可以通过对电荷耦合摄像机80获得的数据进行计算补偿，或通过在所述集成光学透镜检测器40中设置光程差消除装置90来消除所述的光程差，所述光程差消除装置90的围着可以设置于所述透镜阵列70和所述电荷耦合摄像机80之间。
[0031]本发明所述集成光学透镜检测器针孔，所述通光体上表面与透镜本体的上表面平行，高度保持一致，使其不可能堆积SiO2或其它杂物，同时集成光学透镜检测器针孔填充物直接在其下的透镜设计上实现，避免不同物质之间的折射等现象，使得数据处理简单，结果更加精确，从而确保集成光学透镜检测器量测结果的准确可信。
[0032]虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属【技术领域】中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
【权利要求】
1.一种集成光学透镜检测器针孔，其特征在于，包括透镜本体和通光体，所述通光体上具有通光孔，所述通光体设置于透镜本体内部，且所述通光体上表面与透镜本体的上表面平行。
2.如权利要求1所述的集成光学透镜检测器针孔，其特征在于，所述透镜本体的材质为二氧化硅。
3.如权利要求1所述的集成光学透镜检测器针孔，其特征在于，所述通光体的材质为金属。
4.一种集成光学透镜检测器，其特征在于，包括依次排列的如权利要求1至3中任意一项所述的集成光学透镜检测器针孔、物镜，透镜阵列以及电荷耦合摄像机。
5.如权利要求4所述的集成光学透镜检测器，其特征在于，所述集成光学透镜检测器还包括光程差消除装置，所述光程差消除装置设置于所述透镜阵列和所述电荷耦合摄像机之间。
【文档编号】G03F7/20GK103645034SQ201310625693
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年11月28日 优先权日:2013年11月28日
【发明者】刘小虎, 陈力钧, 郑海昌, 朱骏 申请人:上海华力微电子有限公司