1.一种具有屏蔽近红外光功能的温控调光膜，其特征在于，所述液晶调光膜包括高分子网络骨架和液晶分子，所述高分子网络骨架由聚合物分散液晶网络结构与聚合物稳定液晶网络结构组成，所述高分子网络骨架包括含有网孔的的高分子基体，所述网孔内部有垂直排列的高分子网络；所述液晶分子分散在高分子网络骨架内部，且具有近晶相～胆甾相的转变；所述骨架和所述液晶分子之间分散有纳米粒子，所述纳米粒子在800-3000nm具有吸收。
2.根据权利要求1所述的温控调光膜，其特征在于，所述高分子网络骨架由可聚合单体通过分步聚合而成。
3.根据权利要求1所述的温控调光膜，其特征在于，所述制备调光温控膜的原料中液晶材料、可聚合单体、纳米粒子按照重量比分比为：
液晶材料： 10.0～90.0重量份；
可聚合单体： 10.0～80.0重量份；
纳米粒子： 1.0～30.0重量份。
4.根据权利要求1所述的温控调光膜，其特征在于：所述纳米粒子包括氧化铟锡、氧化锡锑、三氧化钨、三氧化钼、钨青铜或具有氧缺陷的硫化铜中的一种或几种。
5.根据权利要求1所述的温控调光膜，其特征在于：所述液晶材料为具有SmA～N*相转变的液晶材料，其相变温度在-10℃以上。
6.根据权利要求3所述的温控调光膜，其特征在于，所述可聚合单体为紫外光可聚合单体，包括非液晶性紫外光可聚合单体和液晶性紫外光可聚合单体。
7.根据权利要求1所述的温控调光膜，其特征在于：所述纳米粒子表面接枝有表面活性剂。
8.根据权利要求1所述的温控调光膜，其特征在于，所述温控调光膜在低于液晶的相变温度时，可屏蔽80％以上的近红外光，且在可见光波段的透过率高于75％；而在高于液晶的相变温度时，在可见光和近红外光波段的光透过率低于10％。
9.权利要求1-8任一所述的温控调光膜的制备方法，包括：
将液晶材料、可聚合单体、引发剂、间隔粒子混合以得到均匀的混合物，并将其加至含有纳米粒子的溶液内，混合均匀后去除溶剂，后将得到的液体转移至导电薄膜之间，并使体系中非液晶性可聚合单体和的液晶性可聚合单体发生不完全聚合反应，后对导电薄膜施加电场，使剩余的可聚合单体聚合，得到温控调光膜。
10.根据权利要求9所述的温控调光膜，其特征在于，通过微乳液法、反相微乳液法或表面活性剂法将表面活性剂接枝在纳米粒子表面。