技术领域本实用新型涉及一种曝光系统，具体是一种DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。
背景技术：
直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
技术实现要素：
针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统，能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，同时，还可减少光路数量，更好的提高产能、减少成本、增加工作的效率。为了实现上述目的，本DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统包括在竖直方向上倾斜且相互平行置于底座两端上的DMD投影光路；以及交叉分布于所述DMD投影光路上的DMD集成组件，两端DMD投影光路上的DMD集成组件相互对称布置；被曝光的PCB板能够沿水平方向和与被曝光的PCB板平行的方向移动。进一步，所述底座两端上的DMD投影光路与竖直方向所成角度范围为1°到89°。与现有技术相比，本DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，同时，还可减少光路数量，更好的提高了产能、减少了成本、增加了工作的效率。附图说明图1是本实用新型的主体结构示意图；图中：1、PCB板，2、DMD投影光路，3、DMD集成组件，4、底座。具体实施方式下面结合附图对本实用新型做进一步说明。如图1所示，本DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统包括在竖直方向上倾斜且相互平行置于底座4两端上的DMD投影光路2；以及交叉分布于所述DMD投影光路2上的DMD集成组件3，两端DMD投影光路2上的DMD集成组件3相互对称布置；被曝光的PCB板1能够沿水平方向(步进轴)和与被曝光的PCB板1平行的方向(扫描轴)移动。被曝光的PCB板1是通过步进轴和扫描轴与直线电机，配合精密控制元件的驱动实现移动。所述DMD投影光路2是由一组微小的平面镜阵列组成。激光光源通过照明光路将激光打到所述DMD投影光路2上，反射到一旁。当所述DMD投影光路2接收到计算机发出的图像信号时通过软件处理控制相应的平面镜单元旋转一定角度将激光垂直照射到工件上。即所述DMD投影光路2是利用DMD器件上的微镜将数字信号经过电路的激发转化成图形投影在相应的基材上。即所述DMD投影光路2是利用DMD器件上的微镜将数字信号经过电路的激发转化成图形投影在相应的基材上。进一步，所述底座4两端上的DMD投影光路2与竖直方向所成角度范围为1°到89°。该角度范围可以根据实际生产需要任意调节，满足不同的生产需求。本DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统的工作原理如下：被曝光的PCB板1置于两端DMD投影光路2的中间，且PCB板1的倾斜角度与DMD投影光路2保持一致，使得DMD投影光路2与被曝光的PCB板1保持垂直，曝光时，被曝光的PCB板1能够沿水平方向和与被曝光的PCB板1平行的方向移动，通过两端交叉分布于所述DMD投影光路2上的DMD集成组件3同时对被曝光的PCB板1的双面进行曝光。综上所述，本DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，同时，还可减少光路数量，更好的提高了产能、减少了成本、增加了工作的效率。