EUV投射光刻的照明光学系统的制作方法

文档序号:11208655阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种EUV投射光刻的照明光学单元,包括场分面反射镜和光瞳分面反射镜。通过恰好一个场分面和恰好一个光瞳分面(29)沿着在光源与物场之间的照明通道引导相应使用的照明光部分束(16i)。可用作校正光瞳分面的至少一些光瞳分面(29)布置在作用其上的照明光部分束(16i)的束路径中,使得在像点处产生光源的像,像点位于沿着照明通道(16i)距光瞳分面(29)一定距离。用于可用作信号连接至位移致动器(31)的校正场分面的至少一些场分面的受控位移的校正控制装置(32)设计为使得校正场分面的校正位移路径如此之大,使得相应校正照明通道(16i)在光瞳分面(29)的边缘侧被修剪,使得照明光部分束(16i)不全部由光瞳分面(29)传输到物场中。本发明还涉及一种通过照明光学单元(4)的物场的横向场坐标(x)预定照明光(16)的最小照明强度的方法。

技术研发人员:A.温克勒;D.楞次;T.费希尔
受保护的技术使用者:卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日:2016.02.02
技术公布日:2017.09.29
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