着色硬化膜的制造方法及像素图案的形成方法与流程

本发明涉及一种着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。
背景技术：
：作为彩色滤光片的制造方法，已知有例如喷墨方式、电沉积法、印刷法、光刻法等，但近年来，光刻法正成为主流。当通过光刻法来制造彩色滤光片时，例如采用如下的方法：将着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜后，隔着具有规定的开口图案的光掩模曝光放射线，继而进行显影来将未曝光部分溶解去除，由此形成图案(专利文献1)。而且，在形成图案后，为了确保耐热性或耐溶剂性、对于基板的密接性、电特性等的可靠性，通常在200℃～250℃的温度下进行30分钟～60分钟左右的后烘烤，由此促进涂膜的硬化。近年来，柔性显示装置受到瞩目，正在研究从先前的玻璃基板替换成柔性的塑料基板。但是，塑料基板通常耐热性低，在200℃～250℃的后烘烤温度下容易引起塑料基板的伸长或收缩。考虑在使用此种塑料基板的情况下不进行后烘烤、或以更低的温度进行后烘烤，但涂膜的硬化容易变得不充分，因此当通过光刻法来反复涂布着色感放射线性组合物时，产生朝邻接的其他颜色的图案进行色移、或者着色图案的耐溶剂性或与基板的密接性下降等问题。针对此种问题，报告有通过使用包含如下树脂的彩色滤光片用感光性着色组合物，可形成即便是进行150℃以下的温度的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及感度良好的着色图案，所述树脂将于侧链上含有乙烯性不饱和双键的构成单元的含有率设为特定范围内(专利文献2、专利文献3)。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开平2-144502号公报[专利文献2]日本专利特开2015-125402号公报[专利文献3]日本专利特开2015-143840号公报技术实现要素：[发明所要解决的问题]本发明的课题在于提供一种即便不进行后烘烤或进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。[解决问题的技术手段]本发明者等人为了开发即便进行低温的后烘烤，也可以使用广泛的着色感放射线性组合物来形成所期望的着色图案的方法而进行研究的结果，发现将着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜，对该涂膜进行曝光并进行显影后，进行使用具有特定的分光分布的放射线的后曝光，由此可形成即便不进行后烘烤或进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色图案。即，本发明提供一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于：包括下述步骤(1)～步骤(4)。另外，本发明提供一种彩色滤光片的像素图案的形成方法，其特征在于：包括下述步骤(1)～步骤(4)。进而，本发明提供一种通过包含下述步骤(1)～步骤(4)的步骤所制造的着色硬化膜、具备该着色硬化膜(像素)的彩色滤光片、显示元件及发光元件、以及具备彩色滤光片的显示元件及发光元件。步骤(1)：将含有(a)着色剂、(b)聚合性化合物及(c)感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤(2)：对所述步骤(1)中所获得的涂膜照射放射线(1)的步骤；步骤(3)：对所述步骤(2)中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤(4)：对所述步骤(3)中所获得的涂膜照射放射线(2)的步骤。其中，放射线(1)与放射线(2)可相同，也可以不同。[发明的效果]根据本发明，可提供一种即便不进行后烘烤或进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。附图说明图1是表示实施例中所使用的放射线(a)的分光分布的图。图2是表示实施例中所使用的放射线(b)的分光分布的图。图3是表示实施例中所使用的放射线(c)的分光分布的图。图4是表示实施例中所使用的放射线(d)的分光分布的图。具体实施方式以下，对本发明进行详细说明。<着色硬化膜的制造方法>本发明的着色硬化膜的制造方法包括步骤(1)～步骤(4)。作为着色硬化膜，可列举：显示元件或固体摄像元件中所使用的各色像素、层间绝缘膜、平坦化膜、规定用以形成发光层的区域的触排(隔离壁)、黑色矩阵、隔片、保护膜等。另外，作为显示元件，例如可列举彩色液晶显示元件、有机电致发光(electroluminescence，el)元件、电子纸等，作为固体摄像元件，例如可列举电荷耦合元件(chargecoupleddevice，ccd)影像传感器、互补金属氧化物半导体(complementarymetaloxidesemiconductor，cmos)影像传感器等。以下，对各步骤进行详细说明。-步骤(1)-步骤(1)是将含有(a)着色剂、(b)聚合性化合物及(c)感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤。(基板)作为基板，可列举：对于可见光的透过率高的透明基板。作为具体例，例如可列举：硼硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、无碱玻璃、石英玻璃、合成石英玻璃、钠钙玻璃、白色蓝宝石等玻璃基板；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等树脂制基板。另外，作为基板，也可以使用搭载有发光元件的基板。作为发光元件，例如可列举发光二极管，半导体激光器，有机el元件等固体发光元件，固体发光元件的表面可由透明树脂或片材等包覆。作为基板，通常使用所述透明基板，可为玻璃基板，也可以是树脂制基板。发光元件与基板的接合形式并无特别限定，例如可适宜选择导电性膏、导热性片材、导热性粘接剂、双面胶、焊料等。其中，作为基板，就容易享有本发明的效果的观点而言，优选树脂制基板、发光元件搭载基板。另外，可对基板实施利用硅烷偶联剂等的化学品处理、等离子体处理、离子镀、溅镀、气相反应法、真空蒸镀等适宜的前处理，另外，为了面板化后的液晶驱动或有机el发光，可形成包含氧化铟、氧化锡等的透明电极。进而，能够以划分形成像素的部分的方式，在基板上形成遮光层(黑色矩阵)。作为遮光层，例如可列举：铬、氮化钛等的无机膜，铬/氧化铬的多层膜，分散有遮光剂的树脂膜。另外，可将黑色的感放射线性组合物涂布在基板上，并通过光刻法来形成所期望的图案。遮光层的膜厚通常为0.1μm～0.2μm。(涂布)作为着色感放射线性组合物的涂布方法，可采用公知的方法。例如可列举喷雾法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、缝模涂布法、棒涂法等，其中，就可获得膜厚均匀的涂膜的观点而言，优选旋涂法、缝模涂布法。涂布后，可进行预烘烤。预烘烤可将减压干燥与加热干燥组合来进行。减压干燥通常在70℃～110℃的温度下进行1分钟～15分钟左右，优选在80℃～100℃的温度下进行1分钟～10分钟。另外，涂膜的厚度作为干燥后的膜厚，通常为0.6μm～8μm，优选1.2μm～5μm。另外，作为在基板上形成着色感放射线性组合物的涂膜的其他例，也可以采用喷墨方式，例如可列举日本专利特开平7-318723号公报、日本专利特开2000-310706号公报等中所记载的方法。在该方法中，首先在基板上形成也兼具遮光功能的隔离壁，继而利用喷墨装置将着色感放射线性组合物喷出至该隔离壁内。其后，进行预烘烤而使溶媒蒸发。预烘烤的方法或条件与所述相同。另外，作为在基板上形成着色感放射线性组合物的涂膜的另一例，可采用干膜法，例如可列举日本专利特开平9-5991号公报等中所记载的方法。在该方法中，将着色感放射线性组合物涂布在膜状的支撑体上，并进行预烘烤而使有机溶剂蒸发，由此制造在支撑体上形成有着色感放射线性组合物层的干膜。而且，使用层压机将该形成有着色感放射线性组合物层的支撑体层压在基板上。其后，从支撑体上剥离着色感放射线性组合物层，而将着色感放射线性组合物层转印至基板上。将着色感放射线性组合物涂布在支撑体上的方法、或预烘烤的方法及条件与所述相同。-步骤(2)-步骤(2)是对步骤(1)中所获得的涂膜照射放射线(1)，即进行预曝光的步骤。步骤(2)通常只要隔着具有规定的图案的光掩模对步骤(1)中所获得的涂膜的至少一部分进行曝光即可，另外，也可以进行扫描曝光。再者，光掩模上的图案形状并无特别限定，可使用对应于目标用途的图案形状。作为放射线(1)，例如可列举：g射线、h射线、i射线、j射线等紫外线。其中，就抑制色移、以及改善耐溶剂性及与基板的密接性的观点而言，优选包含g射线、h射线及i射线的放射线，更优选包含g射线、h射线、i射线及j射线的放射线。再者，在分光分布中，436nm的峰值为g射线，405nm的峰值为h射线，365nm的峰值为i射线，313nm的峰值为i射线。作为光源，可使用：超高压、高压、中压、低压的各水银灯，化学灯，碳弧灯，氙灯，金属卤化物灯，可见及紫外的各种激光器等。曝光量通常为1mj/cm2～1,000mj/cm2，但为了提高所期望的效果，优选5mj/cm2～500mj/cm2，更优选10mj/cm2～100mj/cm2，进而更优选30mj/cm2～60mj/cm2。-步骤(3)-步骤(3)是对步骤(2)中所获得的涂膜进行显影的步骤。显影使用显影液，将曝光后的非硬化部(在负型的情况下为非曝光部)溶解去除。作为显影液，只要是溶解非硬化部且不溶解硬化部者，则可使用任何显影液，例如可使用各种有机溶媒的组合、碱性水溶液。其中，优选碱性水溶液。作为碱性水溶液，例如可列举：碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化四甲基铵、胆碱、1，8-二氮杂双环-[5.4.0]-7-十一烯、1，5-二氮杂双环-[4.3.0]-5-壬烯等的水溶液。在显影液中，例如也可以适量添加甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂，消泡剂，界面活性剂等。作为显影方法，例如可应用：喷淋显影法、喷雾显影法、浸渍(dip)显影法、水坑式(覆液)显影法等。显影条件例如可设为常温、5秒～300秒。再者，当使用碱性水溶液作为显影液时，显影后，通常利用水进行清洗。另外，清洗后，例如也可以通过压缩空气或压缩氮等来使涂膜风干。-步骤(4)-步骤(4)是对步骤(3)中所获得的涂膜照射放射线(2)，即进行后曝光的步骤。就提升硬化性、耐溶剂性及与基板的密接性，抑制色移，以及保护基板的观点而言，后曝光的曝光量优选200mj/cm2以上，更优选500mj/cm2以上，进而优选800mj/cm2以上，进而更优选1000mj/cm2以上，进而更优选1500mj/cm2以上，进而更优选2000mj/cm2以上。再者，就抑制色料的光劣化的观点而言，曝光量优选10000mj/cm2以下，更优选8000mj/cm2以下，进而更优选6000mj/cm2以下。作为该曝光量的范围，优选200mj/cm2～10000mj/cm2，更优选500mj/cm2～10000mj/cm2，进而优选800mj/cm2～8000mj/cm2，进而更优选1000mj/cm2～8000mj/cm2，进而更优选1500mj/cm2～6000mj/cm2，进而更优选2000mj/cm2～6000mj/cm2。用于后曝光的光源可列举与预曝光相同者。作为放射线(2)，可与预曝光中所使用的放射线(1)相同，也可以不同，例如，与预曝光同样地，可应用包含g射线、h射线及i射线的放射线，或包含g射线、h射线、i射线及j射线的放射线。具体而言，作为放射线(2)，存在以下的四种形态。(i)以与放射线(1)相同的曝光量照射具有与放射线(1)相同的分光分布的放射线的形态。(ii)以与放射线(1)不同的曝光量照射具有与放射线(1)相同的分光分布的放射线的形态。(iii)以与放射线(1)相同的曝光量照射具有与放射线(1)不同的分光分布的放射线的形态。(iv)以与放射线(1)不同的曝光量照射具有与放射线(1)不同的分光分布的放射线的形态。作为放射线(2)，就抑制色移、改善耐溶剂性及与基板的密接性的观点而言，优选所述(iii)或(iv)的形态，即具有与放射线(1)不同的分光分布，例如可列举下述的放射线。其中，就以更高的水准达成色移的抑制、耐溶剂性及与基板的密接性的改善的观点而言，优选(b)、(c)。另外，当(a)着色剂含有染料时，染料通常存在吸收紫外线或短波长可见光线并进行光分解的情况，因此优选在短波长侧高强度的成分更少的放射线(c)。(a)具有与放射线(1)不同的分光分布，且相对于波长365nm(i射线)中的峰值强度，波长313nm(j射线)中的峰值强度为1/6以上、未满1/3的放射线(例如，后述的实施例的放射线b)。(b)具有与放射线(1)不同的分光分布，且相对于波长365nm(i射线)中的峰值强度，波长313nm(j射线)中的峰值强度为1/3以上的放射线(例如，后述的实施例的放射线c)。再者，该波长313nm中的峰值强度的上限并无特别限制，但优选小于波长365nm中的峰值强度，更优选3/4以下。(c)具有与放射线(1)不同的分光分布，包含波长405nm(h射线)及波长436nm(g射线)，且相对于波长405nm(h射线)的峰值强度及波长436nm(g射线)的峰值强度中的更小的峰值强度，波长313nm(j射线)及波长365nm(i射线)中的峰值强度为1/4以下，优选1/10以下，更优选1/20的放射线(例如，后述的实施例的放射线d)。再者，该波长313nm(j射线)及波长365nm(i射线)中的峰值强度的下限并无特别限制。在此情况下，放射线(1)优选包含波长365nm(i射线)、波长405nm(h射线)及波长436nm(g射线)，且相对于波长365nm(i射线)中的峰值强度，波长313nm(j射线)中的峰值强度未满1/6的放射线。显示出此种分光特性的放射线例如可使用显示出如上所述的分光特性的光源而获得、或者使紫外线截止滤光片或带通滤光片介于从高压水银灯放射的放射线中而获得。在步骤(4)中，也可以对涂膜进行加热，即进行后烘烤。在此情况下，可将步骤(3)中所获得的涂膜供于下述的i)或ii)。即，当在步骤(4)中进行后烘烤时，能够以任意的顺序进行后烘烤与后曝光。i)在进行加热后，照射放射线(2)。ii)在照射放射线(2)后，进行加热。后烘烤通常在20℃～150℃下对经图案化的涂膜进行加热，但就提升硬化性、耐溶剂性及与基板的密接性，抑制色移，以及保护基板的观点而言，优选40℃～140℃，更优选70℃～130℃，进而更优选90℃～120℃。若后烘烤温度为该范围，则涂膜充分硬化而可形成耐溶剂性优异的着色硬化膜，另外，基板的收缩或变形减少，因此优选。进而，基板的收缩率与经图案化的涂膜的收缩率的差小，因此就经图案化的涂膜从基板上剥离的可能性变小的观点而言也优选。加热时间可根据加热温度而适宜设定，但通常为5分钟～120分钟，优选10分钟～100分钟，更优选15分钟～60分钟，进而更优选15分钟～40分钟。当在步骤(4)中进行后烘烤时，如上所述，能够以任意的顺序进行后烘烤与后曝光，但就获得密接性优异的着色硬化膜的观点而言，优选先进行后烘烤。即，更优选所述i)。如此，可提供通过本发明的着色硬化膜的制造方法所形成的着色硬化膜，着色硬化膜的膜厚通常为0.5μm～5μm，优选1μm～3μm。所获得的着色硬化膜的耐溶剂性、与基板的密接性良好，且可有效地抑制剥落。另外，即便将着色感放射线性组合物反复涂布在基板上，朝邻接的其他颜色的图案的色移也得到抑制。(着色感放射线性组合物)继而，对本发明的制造方法中所使用的着色感放射线性组合物进行说明。着色感放射线性组合物只要是含有(a)着色剂、(b)聚合性化合物及(c)感放射线性聚合起始剂者，则并无特别限定，可使用公知的着色感放射线性组合物。着色感放射线性组合物通常调配溶媒来用作液状组合物。以下，对着色感放射线性组合物的构成成分进行说明。-(a)着色剂-作为(a)着色剂，并无特别限定，可对应于用途而适宜选择色彩或材质，可使用颜料及染料的任一者。(a)着色剂可使用一种或两种以上。作为颜料，可为有机颜料及无机颜料的任一种，作为有机颜料，例如可列举在染料索引(c.i.；英国染色家学会(thesocietyofdyersandcolourists)公司发行)中被分类为颜料的化合物，具体而言，可列举日本专利特开2011-028219号公报的段落[0014]～段落[0016]、日本专利特开2013-205832号公报的段落[0028]中所记载的化合物。另外，作为无机颜料，例如可列举：氧化钛、硫酸钡、碳酸钙、氧化锌、硫酸铝、黄色铅、锌黄、红铁粉(红色氧化铁(iii))、镉红、群青、普鲁士蓝、氧化铬绿、钴绿、棕土、钛黑、合成铁黑、碳黑等。除此以外，也可以将日本专利特表2011-523433号公报的由式(ic)所表示的溴化二酮基吡咯并吡咯颜料用作红色颜料。另外，可列举：日本专利特开2001-081348号公报、日本专利特开2010-026334号公报、日本专利特开2010-191304号公报、日本专利特开2010-237384号公报、日本专利特开2010-237569号公报、日本专利特开2011-006602号公报、日本专利特开2011-145346号公报等中所记载的色淀颜料。另外，可列举：日本专利特表2012-515233号公报、日本专利特表2012-515234号公报、国际公开第2016/027798号的段落[0019]～段落[0025]等中所记载的内酰胺系颜料，或日本图像学会志第45卷第4号321页-327页(2006)等中所记载的苝系颜料。这些颜料之中，优选c.i.颜料红166、c.i.颜料红177、c.i.颜料红179、c.i.颜料红224、c.i.颜料红242、c.i.颜料红254、c.i.颜料红264、c.i.颜料红279、日本专利特表2011-523433号公报的由式(ic)所表示的溴化二酮基吡咯并吡咯颜料等红色颜料；c.i.颜料绿7、c.i.颜料绿36、c.i.颜料绿58、c.i.颜料绿59、c.i.颜料绿62、c.i.颜料绿63等绿色颜料；c.i.颜料蓝15：3、c.i.颜料蓝15：4、c.i.颜料蓝15：6、c.i.颜料蓝16、c.i.颜料蓝60、c.i.颜料蓝79、c.i.颜料蓝80等蓝色颜料；c.i.颜料黄83、c.i.颜料黄129、c.i.颜料黄138、c.i.颜料黄139、c.i.颜料黄150、c.i.颜料黄179、c.i.颜料黄180、c.i.颜料黄185、c.i.颜料黄211、c.i.颜料黄215、c.i.颜料黄231等黄色颜料；c.i.颜料橙38、c.i.颜料橙43、c.i.颜料橙64、c.i.颜料橙72等橙色颜料；c.i.颜料紫19、c.i.颜料紫23、c.i.颜料紫29等紫色颜料；苝黑(c.i.颜料黑31、c.i.颜料黑32、巴斯夫(basf)公司制造的路玛近黑(lumogenblack)fk4280、路玛近黑(lumogenblack)fk4281、派力奥根黑(paliogenblack)s0084、派力奥根黑(paliogenblack)l0086)、花青黑、快黑(fastblack)hb(c.i.26150)、内酰胺黑(巴斯夫公司制造的易加佛尔黑(irgaphorblack)s0100cf)等黑色颜料。当使用颜料作为(a)着色剂时，也可以利用再结晶法、再沉淀法、溶剂清洗法、升华法、真空加热法或这些方法的组合进行精制后使用。另外，颜料也可以根据期望，利用树脂对其粒子表面进行改质后使用。另外，有机颜料可通过所谓的盐磨(saltmilling)，对一次粒子进行微细化后使用。作为盐磨的方法，例如可采用日本专利特开平8-179111号公报中所揭示的方法。另外，也可以进一步含有选自公知的分散剂及分散助剂中的至少一种。作为染料，可从各种油溶性染料、直接染料、酸性染料、金属错合物染料等中适宜选择，例如可列举如下述般的标注有染料索引(c.i.)名者。c.i.溶剂黄4、c.i.溶剂黄14、c.i.溶剂黄15、c.i.溶剂黄24、c.i.溶剂黄82、c.i.溶剂黄88、c.i.溶剂黄94、c.i.溶剂黄98、c.i.溶剂黄162、c.i.溶剂黄179；c.i.溶剂红45、c.i.溶剂红49；c.i.溶剂橙2、c.i.溶剂橙7、c.i.溶剂橙11、c.i.溶剂橙15、c.i.溶剂橙26、c.i.溶剂橙56；c.i.溶剂蓝35、c.i.溶剂蓝37、c.i.溶剂蓝59、c.i.溶剂蓝67；c.i.酸性黄17、c.i.酸性黄29、c.i.酸性黄40、c.i.酸性黄76；c.i.酸性红91、c.i.酸性红92、c.i.酸性红97、c.i.酸性红114、c.i.酸性红138、c.i.酸性红151；c.i.酸性橙51、c.i.酸性橙63；c.i.酸性蓝80、c.i.酸性蓝83、c.i.酸性蓝90；c.i.酸性绿9、c.i.酸性绿16、c.i.酸性绿25、c.i.酸性绿27。除此以外，也可以使用日本专利特开2012-214718号公报的段落[0120]中所记载的由式(i-1)所表示的花青染料。在着色感放射线性组合物的固体成分中，(a)着色剂的含量通常为5质量％～70质量％，优选10质量％～60质量％。此处所述的固体成分是指后述的溶媒以外的成分。另外，当着色剂含有颜料与染料两者时，颜料的含有比例优选着色剂整体的25质量％以上，更优选35质量％以上。-(b)聚合性化合物-在本说明书中，所谓“聚合性化合物”，是指具有2个以上的可进行聚合的基的化合物。作为可进行聚合的基，例如可列举：乙烯性不饱和基、环氧乙烷基、氧杂环丁基、n-烷氧基甲基氨基等。作为(b)聚合性化合物，优选具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物、或具有2个以上的n-烷氧基甲基氨基的化合物。(b)聚合性化合物可使用一种或两种以上。作为具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物，可列举：脂肪族聚羟基化合物与(甲基)丙烯酸的反应物[多官能(甲基)丙烯酸酯]、经己内酯改性的多官能(甲基)丙烯酸酯、经环氧烷改性的多官能(甲基)丙烯酸酯、具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与多官能异氰酸酯的反应物[多官能(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯]、具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与酸酐的反应物[具有羧基的多官能(甲基)丙烯酸酯]等。作为多官能(甲基)丙烯酸酯的具体例，例如可列举：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。作为具有羧基的多官能(甲基)丙烯酸酯的具体例，例如可列举：季戊四醇三丙烯酸酯与丁二酸酐的反应物、二季戊四醇五丙烯酸酯与丁二酸酐的反应物等。另外，作为具有2个以上的n-烷氧基甲基氨基的化合物，例如可列举：具有三聚氰胺结构、苯并胍胺结构、脲结构的化合物等。再者，所谓三聚氰胺结构、苯并胍胺结构，是指具有1个以上的三嗪环或苯基取代三嗪环作为基本骨架的化学结构，且为也包含三聚氰胺、苯并胍胺或这些的缩合物的概念。作为具有2个以上的n-烷氧基甲基氨基的化合物的具体例，可列举：n，n，n’，n’，n”，n”-六(烷氧基甲基)三聚氰胺、n，n，n’，n’-四(烷氧基甲基)苯并胍胺、n，n，n’，n’-四(烷氧基甲基)甘脲等。相对于(a)着色剂100质量份，(b)聚合性化合物的含量通常为10质量份～1,000质量份，优选20质量份～700质量份。-(c)感放射线性聚合起始剂-(c)感放射线性聚合起始剂是通过放射线的曝光，而产生可使(b)聚合性化合物的硬化反应开始的活性种的化合物。(c)感放射线性聚合起始剂可使用一种或两种以上。作为(c)感放射线性聚合起始剂，例如可列举：硫杂蒽酮系化合物、苯乙酮系化合物、联咪唑系化合物、三嗪系化合物、○-酰基肟系化合物、鎓盐系化合物、安息香系化合物、二苯甲酮系化合物、α-二酮系化合物、多核醌系化合物、重氮系化合物或酰亚胺磺酸盐系化合物等。再者，(c)感放射线性聚合起始剂可与公知的增感剂或供氢体并用。相对于(b)聚合性化合物100质量份，(c)感放射线性聚合起始剂的含量通常为0.01质量份～120质量份，优选1质量份～100质量份。-(d)感放射线性酸产生剂-(d)感放射线性酸产生剂是通过放射线的曝光而产生酸的化合物。(d)感放射线性酸产生剂可使用一种或两种以上。作为(d)感放射线性酸产生剂，优选感应波长300nm以上、优选波长300nm～450nm的光而产生酸的化合物，其化学结构并无限制。另外，关于不直接感应波长300nm以上的光的感放射线性酸产生剂，只要是通过与增感剂并用而感应波长300nm以上的光、并产生酸的化合物，则也可以与增感剂组合后优选地使用。作为(d)感放射线性酸产生剂的例子，可列举：三氯甲基-均三嗪类、锍盐或錪盐、四级铵盐类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物、肟磺酸酯化合物等。这些之中，优选使用三嗪类。(d)感放射线性酸产生剂可使用一种或将两种以上组合使用。作为三氯甲基-均三嗪类、二芳基錪盐类、三芳基锍盐类、四级铵盐类、及重氮甲烷衍生物的具体例，可例示日本专利特开2011-221494号公报的段落号[0083]～段落号[0088]中所记载的化合物。相对于(c)感放射线性聚合起始剂100质量份，(d)感放射线性酸产生剂的含量优选10质量份～100质量份，更优选30质量份～80质量份。-粘合剂树脂-在着色感放射线性组合物中，可含有粘合剂树脂。粘合剂树脂并无特别限定，但优选具有羧基、酚性羟基等酸性官能基的树脂。其中，优选具有羧基的聚合体(以下，也称为“含有羧基的聚合体”)，更优选具有1个以上的羧基的乙烯性不饱和单量体(以下，也称为“不饱和单量体(b1)”)与其他可进行共聚的乙烯性不饱和单量体(以下，也称为“不饱和单量体(b2)”)的共聚物，进而更优选不饱和单量体(b1)与具有含氧饱和杂环基的乙烯性不饱和单量体的共聚物。作为含氧饱和杂环基，例如可列举构成环的原子数为3个～7个的环状醚基，作为其具体例，可列举：环氧乙烷基、氧杂环丁基、四氢呋喃基、3，4-环氧环己基、四氢吡喃基等。作为不饱和单量体(b1)，例如可列举：(甲基)丙烯酸、顺丁烯二酸、顺丁烯二酸酐、丁二酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]酯、ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、对乙烯基苯甲酸等。不饱和单量体(b1)可使用一种或将两种以上混合使用。另外，作为不饱和单量体(b2)，例如可列举：如n-苯基顺丁烯二酰亚胺、n-环己基顺丁烯二酰亚胺般的n-取代顺丁烯二酰亚胺；如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对羟基苯乙烯、对羟基-a-甲基苯乙烯、对乙烯基苄基缩水甘油醚、苊般的芳香族乙烯基化合物；如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、聚乙二醇(聚合度2～10)甲基醚(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(聚合度2～10)甲基醚(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(聚合度2～10)单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(聚合度2～10)单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、甘油单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸4-羟基苯酯般的(甲基)丙烯酸酯；如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、日本专利特开2013-203955号公报的段落[0076]～段落[0080]中所记载的化合物、3-[(甲基)丙烯酰氧基甲基]氧杂环丁烷、3-[(甲基)丙烯酰氧基甲基]-3-乙基氧杂环丁烷般的具有含氧饱和杂环基的(甲基)丙烯酸酯；如环己基乙烯基醚、异冰片基乙烯基醚、三环[5.2.1.02，6]癸烷-8-基乙烯基醚、五环十五烷基乙烯基醚、3-(乙烯氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷般的乙烯基醚；如聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸正丁酯、聚硅氧烷般的在聚合体分子链的末端具有单(甲基)丙烯酰基的大分子单体等。不饱和单量体(b2)可使用一种或将两种以上混合使用。粘合剂树脂的酸值优选10mgkoh/g～200mgkoh/g，更优选30mgkoh/g～270mgkoh/g，进而更优选50mgkoh/g～250mgkoh/g。此处，所谓“酸值”，表示对粘合剂树脂的固体成分1g进行中和所需的koh的mg数。在本发明中，粘合剂树脂可使用一种或将两种以上混合使用。另外，粘合剂树脂的重量平均分子量(mw)通常为1,000～100,000，优选3,000～50,000。进而，粘合剂树脂的重量平均分子量(mw)与数量平均分子量(mn)的比(mw/mn)优选1.0～5.0，更优选1.0～3.0。此处所述的mw、mn是指通过凝胶渗透色谱法(溶出溶媒：四氢呋喃)所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量、数量平均分子量。相对于(a)着色剂100质量份，粘合剂树脂的含量通常为10质量份～1,000质量份，优选20质量份～500质量份。-溶媒-作为溶媒，只要是使构成着色感放射线性组合物的各成分分散或溶解，且不与这些成分进行反应，并具有适度的挥发性者，则可适宜地选择来使用。溶媒可使用一种或两种以上。作为溶媒，例如可列举：乙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚等(聚)烷二醇单烷基醚；乳酸乙酯等乳酸烷基酯；乙醇、丙醇、2-乙基己醇、环己醇等(环)烷基醇；二丙酮醇等酮醇；丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等(聚)烷二醇单烷基醚乙酸酯；四氢呋喃等环状醚；甲基乙基酮等酮；丙二醇二乙酸酯等二乙酸酯；3-甲氧基丙酸甲酯等烷氧基羧酸酯；乙酸乙酯等脂肪酸烷基酯；甲苯等芳香族烃；n，n-二甲基甲酰胺等酰胺；内酰胺等。其中，优选(聚)烷二醇单烷基醚、(聚)烷二醇单烷基醚乙酸酯。溶媒的含量并无特别限定，但优选从着色感放射线性组合物中去除溶媒后的各成分的合计浓度变成5质量％～50质量％的量，更优选变成10质量％～40质量％的量。-添加剂-本发明的着色感放射线性组合物视需要也可以含有各种添加剂。作为添加剂，例如可列举：玻璃、氧化铝等填充剂；聚乙烯醇、聚(氟烷基丙烯酸酯)类等高分子化合物；氟系界面活性剂、硅酮系界面活性剂等界面活性剂；乙烯基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等密接促进剂；2，2-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，6-二-叔丁基苯酚等抗氧化剂；2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯并三唑、烷氧基二苯甲酮类等紫外线吸收剂；聚丙烯酸钠等抗凝聚剂；丙二酸、己二酸、氨基乙醇、氨基丙醇、氨基丙二醇等残渣改善剂；丁二酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]酯、ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯等显影性改善剂等。本发明的着色感放射线性组合物可通过适宜的方法来制备。例如，可通过使用珠磨机、辊磨机等将(a)成分～(c)成分与溶媒或任意地添加的其他成分一同混合·分散来制备。<彩色滤光片的像素图案的形成方法>与所述本发明的着色硬化膜的制造方法同样地，本发明的彩色滤光片的像素图案的形成方法包括步骤(1)～步骤(4)。例如，当制造在基板上配置有红色、绿色及蓝色的三原色的像素阵列的彩色滤光片时，首先使用红色的感放射线性着色组合物来供于步骤(1)～步骤(4)，由此形成红色的像素图案，继而针对形成有红色的像素图案的基板，使用绿色的感放射线性着色组合物来供于步骤(1)～步骤(4)，由此形成绿色的像素图案，然后针对形成有红色及绿色的像素图案的基板，使用蓝色的感放射线性着色组合物来供于步骤(1)～步骤(4)，由此形成绿色的像素图案。再者，在基板上形成各色的像素图案的顺序并不限定于所述例子，可适宜变更。另外，步骤(1)～步骤(4)的具体形态、及着色感放射线性组合物的具体形态如所述着色硬化膜的制造方法中所说明般。另外，构成彩色滤光片的像素图案并不限定于红色、绿色及蓝色，也可以设为将黄色、洋红色及青色作为三原色的像素图案。另外，除对应于三原色的像素的着色图案以外，也可以形成第4着色图案或第5着色图案。例如，如日本专利特表2005-523465号公报等中所揭示般，除对应于红色、绿色及蓝色的三原色的像素的着色图案以外，可配置用以扩大表色范围的第4像素(黄色像素)或第5像素(青色像素)。以所述方式形成的像素图案的膜厚通常为0.5μm～5μm，优选1μm～3μm。所获得的像素图案由于耐溶剂性、与基板的密接性良好，且端部的剖面为矩形或锥形形状，因此可有效地抑制剥落。另外，即便将着色感放射线性组合物反复涂布在基板上，也可以充分地抑制朝邻接的其他颜色的图案的色移。另外，为了提高显示元件的显示特性，可在像素图案上进而设置保护膜。作为保护膜，可列举：由硬化性组合物形成的有机膜、sinx膜及siox膜等无机膜、有机无机混合膜等。再者，作为保护膜的形成方法，例如可列举：日本专利特开平4-53879号公报、日本专利特开平6-192389号公报、日本专利特开平3-188153号公报、日本专利特开平4-53879号公报、日本专利特开平6-192389号公报、日本专利特开平8-183819号公报、日本专利特开2006-195420号公报、日本专利特开2008-208342号公报等中所记载的方法。本发明的制造方法例如适合于以彩色液晶显示元件用彩色滤光片、固体摄像元件的色分解用彩色滤光片、有机el元件用彩色滤光片、电子纸用彩色滤光片为首的各种彩色滤光片的制造。例如可提供具备通过本发明的制造方法所形成的着色硬化膜(像素)的彩色滤光片，以及具备该彩色滤光片的显示元件及发光元件，进而可提供具备通过本发明的制造方法所形成的着色硬化膜(例如层间绝缘膜、平坦化膜、规定用以形成发光层的区域的触排(隔离壁)、黑色矩阵、隔片或保护膜)的显示元件或发光元件。另外，本发明也可以提供具备发光元件搭载基板的照明装置。彩色液晶显示元件例如可设为配置有薄膜晶体管(thinfilmtransistor，tft)的驱动用基板、与设置有本实施形态的彩色滤光片的其他基板隔着液晶层而对向的结构。另外，彩色液晶显示元件也可以设为在配置有薄膜晶体管(tft)的驱动用基板的表面上形成本实施形态的彩色滤光片而成的基板、与形成有氧化铟锡(indiumtinoxide，ito：掺杂有锡的氧化铟)电极的基板隔着液晶层而对向的结构。彩色液晶显示元件具备背光单元。作为背光单元，例如可使用将冷阴极荧光管(coldcathodefluorescentlamp，ccfl)等荧光管与散射板组合而成的结构者。另外，也可以使用将白色发光二极管(lightemittingdiode，led)作为光源的背光单元。在彩色液晶显示元件中，可应用扭曲向列(twistednematic，tn)型、超扭曲向列(supertwistednematic，stn)型、面内切换(in-planeswitching，ips)型、垂直取向(verticalalignment，va)型、光学补偿双折射(opticallycompensatedbirefringence，ocb)型等适宜的液晶模式。有机el元件可采用适宜的结构，例如可列举日本专利特开平11-307242号公报中所揭示的结构。另外，电子纸也可以采用适宜的结构，例如可列举日本专利特开2007-41169号公报中所揭示的结构。[实施例]以下，列举实施例来更具体地说明本发明的实施形态。但是，本发明并不限定于下述实施例。<粘合剂树脂的合成>合成例1根据日本专利特开2013-203955号公报的合成例6中所记载的方法，获得含有具有下述结构单元的树脂的溶液。继而，使用丙二醇单甲基醚乙酸酯，以固体成分浓度变成40质量％的方式进行调整，而获得粘合剂树脂(x-1)溶液。[化1]<颜料分散液的制备>颜料分散液制备例1作为(a)着色剂，使用9.6质量份的c.i.颜料红269及2.4质量份的c.i.颜料黄139，作为分散剂，使用byk-lpn21116(毕克化学(bykchemie)公司制造，固体成分浓度为40质量％)13.0质量份，作为粘合剂树脂，使用粘合剂树脂(x-1)(固体成分浓度为40质量％)10.0质量份，以及作为溶媒，使用丙二醇单甲基醚乙酸酯57.0质量份及丙二醇单乙基醚8.0质量份，通过珠磨机来进行混合·分散而制备红色的颜料分散液(r-1)。颜料分散液制备例2～颜料分散液制备例11在颜料分散液制备例1中，如表1所示般变更各成分的种类及量，除此以外，以与颜料分散液制备例1相同的方式制备红色的颜料分散液(r-2)～红色的颜料分散液(r-4)、绿色的颜料分散液(g-1)～绿色的颜料分散液(g-3)、蓝色的颜料分散液(b-1)及黑色的颜料分散液(bk-1)～黑色的颜料分散液(bk-3)。[表1]表1中，各成分如下所示。·pgmea：丙二醇单甲基醚乙酸酯·pgee：丙二醇单乙基醚·花青染料-1：日本专利特开2012-214718号公报的段落[0120]中所记载的“由式(i-1)所表示的盐”(花青染料)·内酰胺系颜料：易加佛尔(irgaphor)(注册商标)黑s0100cf(巴斯夫公司制造)<着色组合物的制备>着色组合物制备例1将颜料分散液(r-1)542.5质量份，粘合剂树脂(x-1)溶液(固体成分浓度为40质量％)37.6质量份，作为(b)聚合性化合物的卡亚拉得(kayarad)dpha(日本化药股份有限公司制造。二季戊四醇六丙烯酸酯与二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物)18.4质量份，作为(c)感放射线性聚合起始剂的艳佳固(irgacure)369(巴斯夫公司制造。2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁烷-1-酮)0.7质量份及nci-930(艾迪科(adeka)股份有限公司制造)5.5质量份，作为氟系界面活性剂的美佳法(megafac)f-554(迪爱生(dic)股份有限公司制造)0.3质量份，以及作为溶媒的丙二醇单甲基醚乙酸酯99.2质量份、乙酸3-甲氧基丁酯253.5质量份及二丙二醇甲基醚乙酸酯(dipropyleneglycolmethyletheracetate，dpma)42.3质量份混合，而制备红色的着色组合物(rs-1)。着色组合物制备例2～着色组合物制备例18在着色组合物制备例1中，如表2所示般变更各成分的种类及量，除此以外，以与着色组合物制备例1相同的方式制备红色的着色组合物(rs-2)～红色的着色组合物(rs-8)、绿色的着色组合物(gs-1)～绿色的着色组合物(gs-6)、蓝色的着色组合物(bs-1)及黑色的着色组合物(bks-1)～黑色的着色组合物(bks-3)。表2中，各成分如下所示。·b-1：卡亚拉得(kayarad)dpha(日本化药股份有限公司制造)·c-1：艳佳固(irgacure)369(巴斯夫公司制造)·c-2：nci-930(艾迪科股份有限公司制造)·d-1：2-[2-(4-甲氧基苯基-2-基)乙烯基]-4，6-双(三氯甲基)-1，3，5-三嗪(和光纯药工业股份有限公司制造)·d-2：2-(3，4-亚甲基二氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-1，3，5-三嗪(和光纯药工业股份有限公司制造)·x-2：美佳法(megafac)f-554(迪爱生股份有限公司制造)·mba：乙酸3-甲氧基丁酯·dpma：二丙二醇甲基醚乙酸酯本实施例中所使用的放射线如表3中所记载般。[表3]再者，将放射线(a)的分光分布示于图1中，将放射线(b)的分光分布示于图2中，将放射线(c)的分光分布示于图3中，将放射线(d)的分光分布示于图4中。在图1中，波长313nm、波长365nm、波长405nm及波长436nm的光相对强度分别为16.19、100.00、78.96及91.48。在图2中，波长313nm、波长365nm、波长405nm及波长436nm的光相对强度分别为23.06、100.00、78.72及90.83。在图3中，波长313nm、波长365nm、波长405nm及波长436nm的光相对强度分别为44.10、100.00、71.64及81.44。在图4中，波长313nm、波长365nm、波长405nm及波长436nm的光相对强度分别为0.00、0.01、69.14及79.24。因此，放射线(a)的波长313nm中的峰值强度未满波长365nm中的峰值强度的1/6，放射线(b)的波长313nm中的峰值强度为波长365nm中的峰值强度的1/6以上、未满1/3，放射线(c)的波长313nm中的峰值强度为波长365nm中的峰值强度的1/3以上。另外，放射线(d)是包含405nm(h射线)及436nm(g射线)的各波长，且相对于h射线的峰值强度及g射线的峰值强度中的更小的峰值强度，313nm及365nm中的峰值强度为1/20以下的放射线。<着色硬化膜的制造及评价>实施例a-1使用缝模涂布机将作为第1着色组合物的着色组合物(rs-1)涂布在作为基板的帝人帝特龙(teijintetoron)膜hb(帝人杜邦薄膜(teijindupontfilms)股份有限公司制造。聚对苯二甲酸乙二酯膜。厚度为25μm)上后，在80℃的加热板上进行10分钟预烘烤而形成膜厚为2.0μm的涂膜。冷却至室温后，使用高压水银灯，并隔着光掩模，以40mj/cm2的曝光量对涂膜曝光放射线(a)。其后，在显影压力1kgf/cm2(喷嘴直径为1mm)下，喷出包含23℃的0.45质量％氢氧化钾水溶液的显影液，由此进行90秒喷淋显影，继而利用超纯水进行清洗，并进行风干。继而，在100℃的洁净烘箱内对风干后的涂膜进行20分钟后烘烤，冷却至室温后，以1,000mj/cm2的曝光量曝光放射线(b)。由此，制作由第1着色组合物形成的着色硬化膜(纵30μm×横30μm)以纵10行×横10列形成的岛状图案(共计100个着色硬化膜)。进行相同的操作，而制作3片基板。耐溶剂性的评价使用缝模涂布机，以膜厚变成2.0μm的方式，将作为第2着色组合物的着色组合物(gs-1)涂布在第一片基板上。利用光学显微镜观察基板，将由第1着色组合物形成的岛状图案未溶解的情况评价为“○”，将由第1着色组合物形成的岛状图案溶解的情况评价为“×”。将结果示于表4中。密接性的评价使用缝模涂布机，将作为第2着色组合物的着色组合物(gs-1)涂布在第二片基板上后，在80℃的加热板上进行10分钟预烘烤而形成膜厚为2.0μm的涂膜。冷却至室温后，使用高压水银灯，并隔着光掩模，以40mj/cm2的曝光量对涂膜曝光放射线(a)。其后，在显影压力1kgf/cm2(喷嘴直径为1mm)下，喷出包含23℃的0.45质量％氢氧化钾水溶液的显影液，由此进行90秒喷淋显影。其后，利用超纯水清洗基板，进行风干后，在100℃的洁净烘箱内进行20分钟后烘烤。由此，在所述岛状图案(共计100个着色硬化膜)的旁边形成由第2着色组合物形成的着色硬化膜的岛状图案(形状与所述第1着色组合物的岛状图案相同)。此时，由第1着色组合物形成的岛状图案与由第2着色组合物形成的岛状图案的位置关系不重叠而以30μm间隔以内邻接、或设为重叠范围变成3μm以内的范围内。利用光学显微镜观察基板，并清点残留在基板上的由第1着色组合物形成的岛状图案的数量。将95个以上的情况评价为“○”，将90个～94个的情况评价为“△”，将89个以下的情况评价为“×”。将其结果示于表4中。可以说残留在基板上的岛状图案的数量越多，密接性越良好。色移的评价针对形成在第三片基板上的岛状图案，使用彩色分析仪(大冢电子股份有限公司制造的mcpd2000)，以c光源、2度视场，测定cie表色系中的色度坐标值(x，y)及刺激值(y)。使用缝模涂布机，将作为第2着色组合物的着色组合物(gs-1)涂布在所述第三片基板上后，在80℃的加热板上进行10分钟预烘烤而形成膜厚为2.0μm的涂膜。冷却至室温后，使用高压水银灯，并隔着光掩模，以40mj/cm2的曝光量对涂膜曝光放射线(a)。其后，在显影压力1kgf/cm2(喷嘴直径为1mm)下，喷出包含23℃的0.45质量％氢氧化钾水溶液的显影液，由此进行90秒喷淋显影。其后，利用超纯水清洗基板，进行风干后，在100℃的洁净烘箱内进行20分钟后烘烤。由此，在所述岛状图案(共计100个着色硬化膜)的旁边形成由第2着色组合物形成的着色硬化膜。图案形状及图案的位置关系与所述“密接性的评价”相同。针对基板上的由第1着色组合物形成的岛状图案，使用彩色分析仪(大冢电子股份有限公司制造的mcpd2000)，以c光源、2度视场，对由第2着色组合物形成的岛状图案未重叠的部分测定cie表色系中的色度坐标值(x，y)及刺激值(y)，并求出使用第2着色组合物形成着色硬化膜的前后的颜色变化，即将未满1.0的情况评价为“○”，将为1.0以上、未满3.0的情况评价为“△”，将为3.0以上的情况评价为“×”，将其结果示于表4中。再者，可以说越小，越抑制色移。实施例a-2～实施例a-12在实施例a-1中，使用表4中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，除此以外，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。但是，仅实施例a-12，将在100℃下进行20分钟后烘烤后的曝光中所使用的放射线设为3,000mj/cm2的放射线(a)，而非1,000mj/cm2的放射线(b)。将其结果示于表4中。再者，关于使用黑色的着色组合物(bks-1)～黑色的着色组合物(bks-3)作为第1着色组合物的情况，色移的评价是以光学浓度的变化量进行评价，而非即，将所述刺激值(y)(％)换算成光学浓度＝-log10(y/100)，并求出使用第2着色组合物形成着色硬化膜的前后的光学浓度的变化量，由此进行色移的评价。将变化量未满3.0％的情况评价为“○”，将变化量为3.0％以上、未满5.0％的情况评价为“△”，将变化量为5.0％以上的情况评价为“×”，将其结果示于表4中。再者，可以说光学浓度的变化量越小，越抑制色移。在后述的各实施例及比较例中，关于使用黑色的着色组合物(bks-1)～黑色的着色组合物(bks-3)作为第1着色组合物的情况的色移的评价也同样地进行。[表4]第1着色组台物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移实施例a-1rs-1gs-1○○△实施例a-2rs-2gs-1○○△实施例a-3rs-3gs-1○○△实施例a-4rs-4gs-1○○△实施例a-5gs-1bs-1○○○实施例a-6gs-2bs-1○○○实施例a-7gs-3bs-1○○○实施例a-8bs-1rs-1○○△实施例a-9bks-1rs-1○○○实施例a-10bks-2rs-1○○○实施例a-11bks-3rs-1○○△实施例a-12bks-1rs-1○○△实施例b-1～实施例b-11在实施例a-1中，使用表5中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，并照射放射线(c)来代替放射线(b)，除此以外，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表5中。[表5]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移实施例b-1rs-1gs-1○○○实施例b-2rs-2gs-1○○○实施例b-3rs-3gs-1○○○实施例b-4rs-4gs-1○○○实施例b-5gs-1bs-1○○○实施例b-6gs-2bs-1○○○实施例b-7gs-3bs-1○○○实施例b-8bs-1rs-1○○○实施例b-9bks-1rs-1○○○实施例b-10bks-2rs-1○○○实施例b-11bks-3rs-1○○○参考例c-1～参考例c-11在实施例a-1中，使用表6中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，并在60℃的洁净烘箱内进行20分钟第1着色组合物的后烘烤，除此以外，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表6中。[表6]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移参考例c-1rs-1gs-1○○×参考例c-2rs-2gs-1○○×参考例c-3rs-3gs-1○○×参考例c-4rs-4gs-1○△×参考例c-5gs-1bs-1○△×参考例c-6gs-2bs-1○△×参考例c-7gs-3bs-1○△×参考例c-8bs-1rs-1○△×参考例c-9bks-1rs-1○○×参考例c-10bks-2rs-1○○×参考例c-11bks-3rs-1○△×参考例d-1～参考例d-11在实施例a-1中，使用表7中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，并在160℃的洁净烘箱内进行20分钟的第1着色组合物的后烘烤，除此以外，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性及密接性的评价。再者，为了防止在第1着色组合物的后烘烤时基板过度地变形，而无法涂布第2着色组合物的情况，利用金属制模框固定基板后实施第1着色组合物的后烘烤。将其结果示于表7中。再者，参考例d-1～参考例d-11的密接性的评价结果均为“×”，因此未进行色移的评价。[表7]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移参考例d-1rs-1gs-1○×-参考例d-2rs-2gs-1○×-参考例d-3rs-3gs-1○×-参考例d-4rs-4gs-1○×-参考例d-5gs-1bs-1○×-参考例d-6gs-2bs-1○×-参考例d-7gs-3bs-1○×-参考例d-8bs-1rs-1○×-参考例d-9bks-1rs-1○×-参考例d-10bks-2rs-1○×-参考例d-11bks-3rs-1○×-比较例e-1～比较例e-11在实施例a-1中，使用表8中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，且不进行放射线(b)的曝光，除此以外，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性的评价。将其结果示于表8中。再者，除比较例e-10以外，耐溶剂性的评价结果均为“×”，因此未进行密接性及色移的评价。[表8]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移比较例e-1rs-1gs-1×--比较例e-2rs-2gs-1×--比较例e-3rs-3gs-1×--比较例e-4rs-4gs-1×--比较例e-5gs-1bs-1×--比较例e-6gs-2bs-1×--比较例e-7gs-3bs-1×--比较例e-8bs-1rs-1×--比较例e-9bks-1rs-1×--比较例e-10bks-2rs-1○△×比较例e-11bks-3rs-1×--实施例f-1使用缝模涂布机将作为第1着色组合物的着色组合物(rs-1)涂布在作为基板的聚对苯二甲酸乙二酯膜(帝人帝特龙(teijintetoron)膜hb，帝人杜邦薄膜股份有限公司制造，厚度为25μm)上后，在80℃的加热板上进行10分钟预烘烤而形成膜厚为2.0μm的涂膜。冷却至室温后，使用高压水银灯，并隔着光掩模，以40mj/cm2的曝光量对涂膜曝光放射线(a)。其后，在显影压力1kgf/cm2(喷嘴直径为1mm)下，喷出包含23℃的0.45质量％氢氧化钾水溶液的显影液，由此进行90秒喷淋显影，继而利用超纯水进行清洗，并进行风干。继而，以1,000mj/cm2的曝光量对风干后的涂膜曝光放射线(b)后，在100℃的洁净烘箱内进行20分钟后烘烤。由此，制作由第1着色组合物形成的着色硬化膜(纵30μm×横30μm)以纵10行×横10列形成的岛状图案(共计100个着色硬化膜)。进行相同的操作，而制作3片基板。继而，使用着色组合物(gs-1)作为第2着色组合物，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表9中。实施例f-2～实施例f-11在实施例f-1中，使用表9中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，除此以外，以与实施例f-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表9中。[表9]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移实施例f-1rs-1gs-1○○△实施例f-2rs-2gs-1○○△实施例f-3rs-3gs-1○○△实施例f-4rs-4gs-1○△△实施例f-5gs-1bs-1○○○实施例f-6gs-2bs-1○○○实施例f-7gs-3bs-1○○○实施例f-8bs-1rs-1○○△实施例f-9bks-1rs-1○○○实施例f-10bks-2rs-1○○○实施例f-11bks-3rs-1○○○实施例g-1～实施例g-11在实施例a-1中，使用表10中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，并将放射线(b)的曝光量替换成2,000mj/cm2，除此以外，以与实施例a-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表10中。[表10]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移实施例g-1rs-1gs-1○○○实施例g-2rs-2gs-1○○○实施例g-3rs-3gs-1○○○实施例g-4rs-4gs-1○△△实施例g-5gs-1bs-1○○○实施例g-6gs-2bs-1○○○实施例g-7gs-3bs-1○○○实施例g-8bs-1rs-1○○○实施例g-9bks-1rs-1○○○实施例g-10bks-2rs-1○○○实施例g-11bks-3rs-1○○○实施例h在实施例b-1中，使用根据日本专利特开2015-232641号公报的段落[0301]～段落[0302]中所记载的方法所获得的“有机el元件1(el-1)”作为基板，除此以外，以与实施例b-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。其结果，评价均为“○”。实施例j-1～实施例j-7在实施例f-1中，使用表11中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，并照射放射线(d)来代替放射线(b)，除此以外，以与实施例f-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表11中。[表11]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移实施例j-1rs-5gs-1○○△实施例j-2rs-6gs-1○○△实施例j-3rs-7gs-1○○△实施例j-4rs-8gs-1○○△实施例j-5gs-4bs-1○○○实施例j-6gs-5bs-1○○○实施例j-7gs-6bs-1○○○着色组合物制备例19～着色组合物制备例22在着色组合物制备例1中，如表12所示般变更各成分的种类及量，除此以外，以与着色组合物制备例1相同的方式制备蓝色的着色组合物(bs-2)及黑色的着色组合物(bks-4)～黑色的着色组合物(bks-6)。[表12]实施例j-8～实施例j-11在实施例f-1中，使用表13中所记载的着色组合物作为第1着色组合物及第2着色组合物，并照射放射线(d)来代替放射线(b)，除此以外，以与实施例f-1相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。将其结果示于表13中。[表13]第1着色组合物第2着色组合物耐溶剂性密接性色移实施例j-8bs-2rs-5○○△实施例j-9bks-4rs-5○○○实施例j-10bks-5rs-5○○○实施例j-11bks-6rs-5○○○实施例k在实施例j-4中，照射放射线(b)来代替放射线(d)，除此以外，以与实施例j-4相同的方式进行耐溶剂性、密接性及色移的评价。其结果，耐溶剂性、密接性及色移均为“○”。但是，根据分光分布测定，判明由着色组合物(rs-8)形成的着色硬化膜在放射线(b)的照射后退色。根据该结果，可想到着色组合物(rs-8)中所含有的花青染料-1因放射线(b)的照射而分解的可能性。当前第1页12