一种遮光层、彩色滤光片及显示面板的制作方法

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种遮光层、彩色滤光片及显示面板。

背景技术：

在现有的显示屏技术中，为提高背光的透过率，节省电能，通常采用减小彩色滤光片的黑色矩阵层的尺寸，增大开口率来实现。传统的彩膜曝光设备无法有效的减少被曝光图形的尺寸，因此，越来越多的厂家引入了可实现更加细线化的设备，如尼康曝光机，尼康曝光机利用多镜头拼接的方式实现对图形的曝光，曝光后的图形宽度可达几微米的精度。

本发明的发明人在长期的研发中发现，在目前现有技术中，该光学镜头拼接曝光在镜头拼接处会因曝光能量损耗等因素，造成曝光后的镜头拼接处的图形尺寸与非镜头拼接处的图形尺寸存在差异，从而影响彩色滤光片及整个显示面板的显示效果。

技术实现要素：

本发明主要解决的技术问题是提供一种遮光层、彩色滤光片及显示面板，以在提高彩色滤光片及显示面板的透光率的同时，改善其显示效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种遮光层，曝光机通过所述遮光层进行曝光，所述曝光机包括多个拼接的镜头。所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处，在所述曝光机进行曝光时，所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片。所述彩色滤光片包括黑色矩阵层；所述黑色矩阵层是利用遮光层作为掩膜，在曝光机的曝光下形成；所述曝光机包括多个拼接的镜头；所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处，在所述曝光机进行曝光时，所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种显示面板。所述显示面板包括上述彩色滤光片。

本发明实施例的有益效果是：区别于现有技术，本发明实施例利用包括多个拼接镜头的曝光机对遮光层进行曝光，其中，遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，其中，第二区域对应于多个镜头的拼接处，在曝光机进行曝光时，使曝光机所产生的光通过第一区域的光强度和通过第二区域的光强度相等。本发明实施例通过多镜头拼接曝光，能够增加彩色滤光片及显示面板的开口率，提高其透光率，且本发明实施例使曝光机所产生的光通过第一区域的光强度和通过第二区域的光强度相等，能够改善曝光机在镜头拼接处所产生的曝光差异，从而能够改善曝光形成的图形的差异，进而改善彩色滤光片及显示面板的显示效果。

附图说明

图1是本发明遮光层一实施例的结构示意图；

图2a是本发明遮光层另一实施例的结构示意图；

图2b是利用图2a实施例的遮光层及曝光机对黑色矩阵层进行曝光的结构示意图；

图3是本发明遮光层的半色调膜一实施例的部分结构的结构示意图；

图4是本发明遮光层的半色调膜另一实施例的结构示意图；

图5是本发明彩色滤光片一实施例的结构示意图；

图6是本发明显示面板一实施例的结构示意图。

具体实施方式

请参阅图1，图1是本发明遮光层一实施例的结构示意图。本实施例遮光层101作为掩膜，在曝光机102的曝光下形成所需图形，其中，曝光机102具有多个拼接镜头103。本实施例遮光层101包括交替设置的第一区域104和第二区域105，第二区域105对应于多个镜头103的拼接处，在曝光机102进行曝光时，曝光机102所产生的光通过第一区域104的光强度和通过第二区域105的光强度相等。

在以遮光层101为掩膜进行曝光时，通过遮光层101的光强不同，曝光后获得的图形的尺寸不同。采用多个拼接镜头曝光机102能获得更小尺寸的图形。为弥补在镜头拼接处的曝光能量损耗导致的拼接处与非拼接处曝光后的图形尺寸的差异。本实施例在遮光层101对光强进行调整，使得曝光机102所产生的光通过第一区域104的光强度和通过第二区域105的光强度相等，从而使得利用遮光层101曝光后得到的图形的各部分的尺寸均相同。

本发明中的图形尺寸至少包括图形的宽度及厚度。

本实施例的第一区域104和第二区域105的具体结构可以根据所需具体图形来进行设置。

区别于现有技术，本实施例的多镜头拼接曝光机102通过滤光层101进行曝光，能够增加彩色滤光片及显示面板的开口率，提高其透光率，且使曝光机102所产生的光通过第一区域104的光强度和通过第二区域105的光强度相等，能够改善曝光机102在镜头拼接处所产生的曝光差异，从而能够改善曝光形成的图形的差异，进而改善彩色滤光片及显示面板的显示效果。

本发明进一步提供另一实施例的遮光层，本实施例所揭示的遮光层在上述实施例的遮光层的基础上进行描述。请一并参阅图2a、图2b，图2a是本发明遮光层的另一实施例的截面结构示意图；图2b是利用图2a实施例的遮光层及曝光机对黑色矩阵层进行曝光的结构示意图。本实施例的遮光层201进一步包括掩膜板202，因曝光机203的镜头204拼接处会存在一定的曝光光损耗，曝光机203所产生的光通过位于第一区域205的掩膜板202的光强度大于通过位于第二区域206的掩膜板202的光强度。为改善经曝光机203曝光后的图像尺寸的均匀性，本实施例的遮光层201还进一步包括半透膜207，半透膜207位于第一区域205的透光率小于半透膜207位于第二区域206的透光率，从而弥补光通过位于第一区域205的掩膜板202的光强度大于通过位于第二区域206的掩膜板202的光强度的问题，使曝光机203所产生的光通过第一区域205的遮光层201的光强度和通过第二区域206的遮光层201的光强度相等，从而使经曝光机203曝光后形成的图形尺寸一致。

黑色矩阵层208是彩色滤光片的重要的组件，黑色矩阵层208成网状结构，网线部分209用于遮挡各色阻周边的线路区，防止线路区漏光，网孔部分210用于形成各色阻。其中，本实施例的掩膜板202的第一区域205和第二区域206均包括多个透光区211及多个遮光区212。多个透光区211相连，并间隔多个遮光区212。多个透光区211用于形成该网状结构的网线部分209，多个遮光区212用于形成该网状结构的网孔部分210。为增大黑色矩阵层208的透光率，需将黑色矩阵层208的网孔210周围的网线209的宽度尽可能的缩小，本实施例采用曝光机203对遮光层201进行曝光形成黑色矩阵层208，不仅能够实现微米级的网线209的宽度，增加透光率，且能够保证黑色矩阵层208各网线部分209的尺寸一致，能够改善显示效果。

当然，在其它实施例中，可以将透光区及遮光区调换设置，利用遮光区用于形成该网状结构的网线部分，透光区用于形成该网状结构的网孔部分。

在另一实施例中，还可以采用半色调膜来代替半透膜，且半色调膜位于第一区域的平均透光率小于半色调膜位于第二区域的平均透光率。如图3所示，半色调膜301由多个透光子区302及多个遮光子区303组成，且多个透光子区302及多个遮光子区303交错分布。当然，在其它实施例中，如图4所示，半色调膜401的多个遮光子区402连接，以间隔多个透光子区403，当然，也可以将多个透光子区403连接，以间隔多个遮光子区402。

在上述实施例中，可以通过调节多个透光子区和/或多个遮光子区的面积大小、形状、透光率等来实现半透膜位于第一区域的透光率小于半透膜位于第二区域的透光率。

本发明不限制多个透光子区及多个遮光子区的形状，可以是圆形、多边形等中的任一种或多种。

当然，在其它实施例中，遮光层的半透膜或半色调膜可以只覆盖第一区域的掩膜板。且本发明实施例不限制半透膜或半色调膜覆盖于掩膜板的一侧或相对两侧。

请参阅图5，图5是本发明彩色滤光片一实施例的结构示意图。本实施例彩色滤光片501包括黑色矩阵层502。黑色矩阵层502是利用上述实施例的遮光层作为掩膜，在上述实施例的曝光机的曝光下形成的。关于该遮光层的结构、该曝光机的结构及曝光工作原理已在上述实施例中进行了详细的叙述，这里不赘述。

当然，本实施例彩色滤光片501还进一步包括基板503、色阻层504及导电膜505等。其中，基板503设置于黑色矩阵层502的一侧，色阻层504中的色阻形成于黑色矩阵层502的网孔中，导电膜505设置于色阻层504远离基板502的一侧。

区别于现有技术，本实施例彩色滤光片501的黑色矩阵层502的尺寸小，且各部分结构的尺寸一致，能够在提高彩色滤光片501的透光率的同时，改善其显示效果。

请参阅图6，图6是本发明显示面板一实施例的结构示意图。本实施例显示面板601包括彩色滤光片602。彩色滤光片602为上述实施例的彩色滤光片，其结构及工作原理已在上述实施例中进行了详细的叙述，这里不赘述。

当然，本实施例显示面板601还包括阵列基板603及液晶层604。液晶层604在彩色滤光片602及阵列基板603的控制下调整背光的透光率。

区别于现有技术，本实施例显示面板601能够在提高透光率的同时，改善显示效果。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。