技术总结
本实用新型揭示了一种光罩及检测结构。本实用新型提供的光罩，包括第一模块区、第二模块区和第三模块区，所述第二模块区围绕所述第一模块区，所述第三模块区围绕所述第二模块区，所述第三模块区包括多个线条，每个线条的线宽依次增大，所述第二模块区的线宽大于第三模块区中线条的最大线宽。由此获得的检测结构，能够依据清洗工具转速的不同而黏附不同的残留物缺陷，进而通过残留物缺陷的检测，可以获悉清洗工具转速的偏离情况，可以及时修正，以确保清洗工具转速的正确性。
技术研发人员：易旭东
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
文档号码：201720276071
技术研发日：2017.03.17
技术公布日：2017.12.05