本公开涉及一种用于相机模块的自动聚焦设备，更具体而言，涉及一种具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，该自动聚焦设备包括用于球体的改进支撑结构，这些球体引导加载有透镜的托架等在光轴方向上的运动。
背景技术：
随着用于图像处理的硬件技术的发展以及用户对图像拍摄需求的增加，已经向安装至诸如移动电话和智能电话之类的移动终端的相机模块以及独立的相机装置应用了诸如自动聚焦(AF)和光学图像稳定(OIS)之类的各种功能。
自动聚焦功能通过在光轴方向上线性移动透镜或具有透镜的组件来调节对象的聚焦，从而在位于透镜后端处的图像传感器(CMOS、CCD等)上产生清晰图像。
自动对焦功能可以以各种方式实现。有代表性的是，将磁体(永磁体)安装在AF托架(或移动器)处，将线圈安装在定子(壳体或者另一种托架)处，并且通过施加有适当幅度和方向的电力而在(设置在定子处的)线圈与(设置在移动器处的)磁体之间产生电磁力，由此使移动器在光轴方向上移动。
另外，近年来，已经采用了集成有AF功能和OIS功能的装置或致动器。在这种情况下，以与以上描述的AF结构一体的方式实现了下面这种结构，这种结构使加载有透镜的OIS托架(或框架、透镜组件等)在AF托架内在垂直于光轴方向的方向上移动。在一些实施方式中，还可以将透镜安装在AF托架处，并且设置在AF托架外的OIS托架在垂直于光轴方向的方向上移动。
同时，只具有AF功能或同时具有AF功能或OIS功能的传统装置包括磁体520，该磁体520用于接收由AF线圈的电磁力产生的驱动力，如图1所示，并且布置在与光轴相同方向上的球体510、510-1、510-2插设在AF托架(或移动器)500和壳体(或定子)(未示出)之间以改善在光轴方向上移动的AF托架500的行为特征。
在该结构中，可以在移动器和定子之间维持适当距离，并且通过球体滚动、运动以及与球体的点接触而使摩擦力最小，可以使AF托架在光轴方向上更灵活、准确地移动。
在现有技术中，普遍使用具有相同尺寸(或直径)d1至d6的多个球体b1至b6。
在这种情况下，所有球体在理论上同时进行点接触，因而可以认为，即使AF托架(或移动器)500在光轴方向上移动，也能够维持AF托架的水平方向。然而，这与实际情况不同，并且在AF托架的水平倾斜中可能发生缺陷。
其代表性原因在于，所有球体不可能具有完全相同的尺寸，因而无法实现理想的相同性，因而AF托架500不可能同时进行点接触。
另外，由于AF托架500不是固定在特定位置，而是在光轴方向上反复地移动和停止，因此产生了不同强度的静态摩擦力和动态摩擦力，并且由于不同摩擦力而产生间隙。由于该原因，所有球体不能同时进行点接触，因而，在AF托架处发生倾斜缺陷。
另外，即使AF托架的一侧由于在AF托架的磁体和设置在定子处的轭之间产生的吸引力而紧密地附着至球体，但是由于AF托架具有在水平方向上延伸的形状，因此更多重力作用在AF托架的距紧密地附着至球体的那一侧更远的部分(即，更多地延伸的部分)上。由于该原因，所有球体不能同时进行点接触。由于上述因素组合地施加，所以在AF托架处发生倾斜缺陷。
由于现有技术中没有考虑上述问题而简单地布置多个球体，因此在传统装置中，当AF托架500在光轴方向上移动时，与AF托架500进行点接触的球体频繁地发生改变，这破坏了AF托架500的平衡。结果，在AF托架500处发生了如图2所示的倾斜缺陷θ1和θ2。
倾斜缺陷使光路变形，光会沿着这样的光路几乎以最大分离角(θ＝θ1+θ2)通过透镜引入到图像传感器600。因而，在聚焦调整中发生同样多的误差，由此导致在生成清晰图像方面出现问题。
近年来，实现了安装在智能电话等上的相机模块的轻薄设计。如果相机模块具有如上所述的纤薄设计，则AF托架的宽厚比增加，因而，以上描述的AF托架的倾斜问题将变得更严重。
另外，在具有AF功能的传统装置中，如图1所示，布置在光轴方向上的三个球体分别设置在右侧和左侧。这里，如果想要将相机模块或具有AF功能的装置小型化，则相机模块应该容纳球体体积，因而对其中AF托架由具有更小直径的大量球体来支撑的结构具有巨大需求。
技术实现要素：
技术问题
设计本公开是为了解决现有技术的问题，因此本公开旨在提供一种自动聚焦设备，其中用于AF操作的移动器和定子由球体物理地支撑，从而使得直接支撑移动器和定子的这些球体之间具有非对称或不同的左右间隔，这最接近于由三个球体支撑的结构，由此使依赖于进行点接触的球体变化的间隙或分离现象最小化。
本公开的这些和其它目的和优点可以从如下详细描述得到理解，并且将从本公开的示例性实施方式变得完全明显。此外，将容易地理解到，本公开的目的和优点可以通过所附权利要求中所示的手段及其组合来实现。
技术方案
在本公开的一个方面中，提供了一种具有非对称支撑结构的自动聚焦设备，该自动聚焦设备包括：具有磁体的第一框架；第二框架，该第二框架具有用于使所述第一框架在光轴方向上移动的自动聚焦线圈；位于所述第一框架和所述第二框架之间的第一球体组，该第一球体组具有沿着所述光轴方向布置的数量为n的球体，n为4以上的自然数；以及在与所述第一球体组不同的位置处位于所述第一框架和所述第二框架之间的第二球体组，该第二球体组具有沿着所述光轴方向布置的数量为m的球体，m为4以上的自然数，其中所述第一球体组包括两个第一支撑球体，所述两个第一支撑球体比所述第一球体组中的其它球体具有更大尺寸，并且所述第二球体组包括两个第二支撑球体，所述两个第二支撑球体比所述第二球体组中的其它球体具有更大尺寸。
这里，本公开的所述第一支撑球体可以位于所述第一球体组的两端处，并且所述第二支撑球体可以位于所述第二球体组的中央处并且彼此相邻。另外，所述第一支撑球体和所述第二支撑球体可以具有相同尺寸。
更优选地，所述第一球体组和所述第二球体组分别具有四个球体，在这种情况下，所述第一支撑球体可以位于所述第一球体组中基于所述光轴方向而言的第一位置和第四位置，并且所述第二支撑球体可以位于所述第二球体组中基于所述光轴方向而言的第二位置和第三位置。
另外，本公开的所述第一框架可以具有沿着所述光轴方向延伸的第一引导凹槽和第二引导凹槽，所述第二框架可以具有分别面对所述第一引导凹槽和第二引导凹槽的第一容纳凹槽和第二容纳凹槽，并且在这种情况下，所述第一球体组可以位于所述第一引导凹槽和所述第一容纳凹槽之间，并且所述第二球体组可以位于所述第二引导凹槽和所述第二容纳凹槽之间。
优选地，所述第一引导凹槽和所述第一容纳凹槽中的至少一者可以具有V形横截面。
有益效果
根据本公开的一个实施方式，用于AF操作的框架(AF托架)被构造成由直径大于其它球体的四个球体支撑，其中支撑球体之间的距离不对称或不同，从而最接近于三球体支撑结构，由此使AF托架(框架)处的倾斜缺陷最小化。
另外，根据本公开的实施方式，AF框架的左侧和右侧由具有小直径的四个或更多个球体支撑，对该小直径进行优化而使设备实现了轻且小的设计。
附图说明
附图例示了本公开的优选实施方式并且用来与上述公开一起提供本公开的技术特征的进一步理解，因而不应将本公开解释为限于附图。
图1是示出了传统AF操作的结构的图。
图2是用于例示传统AF操作时发生的倾斜缺陷的图。
图3是示出了根据本公开的一个实施方式的自动聚焦设备的分解图。
图4是示出了图3中描绘的本公开的第一框架和第二框架的详细图。
图5是示出了根据本公开的实施方式的球体的图。
图6是用于例示本公开的结构的图，在该结构中，当AF框架沿着光轴移动时，倾斜缺陷减小。
图7是用于例示根据本公开的另一个实施方式的第一框架、第二框架等的联接关系的图。
附图标记列表
100： 自动聚焦设备
110： 第一框架 111： 磁体
113： 引导凹槽 113-1： 第一引导凹槽
113-2： 第二引导凹槽
120： 第二框架 120-1： 第二子框架
120-2： 第二主框架 121： AF线圈
123： FPCB 125： 驱动芯片
126： 容纳凹槽 126-1： 第一容纳凹槽
126-2： 第二容纳凹槽 127： 孔传感器
130： 球体 130-1： 第一球体组
130-2： 第二球体组
具体实施方式
下面，将参照附图详细描述本公开的优选实施方式。在描述之前，应该理解，在该说明书以及所附权利要求中使用的术语不应该被解释为限于一般字典含义，而是应该基于为了最佳说明而允许发明人适当地限定术语的原理根据与本公开的技术方面对应的含义和概念来进行解释。
因此，这里提出的描述仅仅是为了例示目的之用的优选示例，并不是为了限制本公开的范围，因此应该理解，在不脱离本公开的范围的情况下，可以针对这些优选示例进行其它等效和修改。
根据本公开的自动聚焦设备100通过在线圈和磁体之间产生的电磁力在光轴方向(Z轴方向)上向前或向后线性地移动可以加载透镜的AF托架，从而精确地匹配对象的焦距，以相对于对象产生更清晰的图像。在一些实施方式中，本公开不仅可以应用于仅具有AF功能的装置，而且还可以应用于集成地具有AF功能和OIS功能的装置。
图3是示出了根据本公开的一个实施方式的具有非对称支撑结构的自动聚焦设备100的分解图。
如图3所示，根据本公开的一个实施方式的自动聚焦设备100可以包括第一框架110、第二框架120和多个球体130。
第一框架110包括磁体111，并且用于集中磁力的后轭(未示出)可以进一步安装在磁体111的后表面处。第一框架110是用于AF操作的移动器，并且相当于以上描述的AF托架或AF框架。
在仅具有AF功能的装置中，透镜(未示出)被加载在第一框架110处以与第一框架110一起物理地移动。因而，当第一框架110在光轴方向上移动时，透镜也在光轴方向(Z轴方向)上移动，由此调节距离图像传感器的距离以实现自动聚焦功能。
在集成地具有AF功能和OIS功能的装置中，在X轴和Y轴方向(垂直于光轴方向Z)上移动的OIS框架(或托架)可以设置在第一框架110处。
透镜(或透镜组件)可以安装在OIS框架(未示出)处。在这种情况下，如果第一框架110在光轴方向上移动，则OIS框架也在光轴方向上移动，相应地，透镜也在光轴方向上移动。如果进行用于光学图像稳定的OIS操作，则可以将OIS框架构造成在在第一框架的顶部处在垂直于光轴方向的方向上移动，以便补偿由于手颤抖引起的运动。
本公开的第二框架120被设置成与第一框架110对应。如果第一框架110是用于AF操作的移动器，则第二框架120相当于定子。
第二框架120可以包括AF线圈121、FPCB 123、驱动芯片125和孔传感器127。AF线圈121产生与从外部施加的电源的幅度和方向对应的电磁力以使具有磁体111的第一框架110在光轴方向上移动。
孔传感器127利用霍尔效应感测磁体111的位置(第一框架的位置，即透镜的位置)，并且将对应信号发送到本公开的驱动芯片125。驱动芯片125使用孔传感器的输入信号，从而向AF线圈121施加适当幅度和方向的电。
这样，通过反馈透镜基于光轴方向的精确位置来实现自动对焦功能。AF线圈121、驱动芯片125和孔传感器127可以安装在FPCB 123上，该FPCB 123连接至外部模块、电源、装置等等。
如图3所示，第二框架120可以分开地构造有第二子框架120-1和第二主框架120-2，或者实现为单个统一的物体。
如图3所示，多个球体130位于第一框架110和第二框架120(第二子框架120-1)之间，并且第一框架110和第二框架120保持彼此间隔开与球体130的直径对应的距离。
第一框架110和第二框架120之间的间隔通过球体130来维持。此外，用于对设置在第一框架110处的磁体111产生吸引力的轭(未示出)可以进一步设置在第二框架120处，从而第一框架110可以保持与球体130点接触。
尽管多个球体130被设计成如上所述那样与第一框架110和第二框架120这二者进行点接触，但是不可能同时在四个或更多个位置处进行点接触，除非这是理想的情况。因而，如果第一框架110线性移动，则与第一框架110进行点接触的球体频繁地改变，由此在第一框架110处导致倾斜缺陷。
本公开认识到了该问题，为了解决该问题并且为了优化设备的小型纤薄设计，首先将第一框架110和第二框架120构造成由左球体组和右球体组来支撑，每个球体组由四个或更多个球体构成。
另外，在本公开中，与传统技术不同，属于每个球体组的球体不是由相同尺寸的球体构成。换言之，每组中均包括比属于同一组的其它球体具有更大尺寸的两个球体(下文称为“大直径球体”)，并且将第一框架110和第二框架120构造成由大直径球体支撑。
如果将四个大直径球体构造成比其它球体(下文称为“小直径球体”)大得多，则由于球体之间的接触，它们可能干涉球体的旋转运动。因此，可以根据实施方式以各种方式来选择大直径球体和小直径球体之间的尺寸关系，以不干扰球体的旋转运动。
在这方面，大直径球体与小直径球体相比可以具有大约105％到120％的尺寸。同时，考虑到装置大小等等，可以各种方式来选择球体的绝对尺寸。
如果将与大直径球体进行点接触的第一框架110或第二框架120的形状、形式、台阶等调节成与每个大直径球体的尺寸或位置对应，则可以将第一框架110实现为具有水平性。由于该原因，大直径球体不需要具有相同尺寸。然而，为了更简单且更精确地实现产品，大直径球体可以以相同尺寸设计。
图4是示出了本公开的第一框架110和第二框架120的详细视图。
如上所述，本公开的第一框架110沿着光轴方向向前和向后移动。因而，为了对沿着光轴方向的运动进行有效的引导，如图3和图4所示，可以沿着光轴方向(Z轴方向)布置本公开的多个球体130。
另外，为了通过点接触对第一框架110进行更稳定的物理支撑，多个球体130可以包括沿着光轴方向布置的球体数量为n的第一球体组130-1和设置在与第一球体组130-1不同的位置处并且沿着光轴方向布置的球体数量为m的第二球体组130-2。
n和m为四以上的自然数，并且n和m可以是相同数字或不同数字。
在这种情况下，将属于第一球体组130-1的两个球体构造成比属于第一球体组130-1的其它球体具有更大的尺寸，并且将属于第二球体组130-2的两个球体构造成比属于第二球体组130-2的其它球体具有更大的尺寸，从而第一框架110或第二框架120由这些大直径球体支撑。
由于框架由大直径球体支撑，因此在如下描述中将大直径球体称为支撑球体。具体地说，在第一球体组130-1中，将尺寸大于属于第一球体组的其它球体的两个球体称为第一支撑球体，并且在第二球体组130-2中，将尺寸大于属于第二球体组的其它球体的两个球体称为第二支撑球体。
对于更优选的实施方式，可以将第一支撑球体定位在第一球体组130-1的两端处，并且可以将第二支撑球体在第二球体组130-2的中央处定位成彼此相邻。
然而，尽管在本公开的附图中描绘了两个球体组，但是除了第一球体组130-1和第二球体组130-2之外，还可以进一步包括附加球体组，以便更有效地支持第一框架110(AF托架)的线性运动。
具有沿着光轴方向延伸的形状的引导凹槽113可以设置在第一框架110处以便防止多个球体130偏离到外侧并且更有效地引导第一框架110在光轴方向上的运动。此外，如图4所示，引导凹槽113可以由位于右侧的第一引导凹槽113-1和位于左侧的第二引导凹槽113-2构成(基于图4)。
容纳凹槽126可以形成在第二框架120处以对应于引导凹槽113。容纳凹槽126可以由对应于第一框架110的第一引导凹槽113-1的第一容纳凹槽126-1和对应于第一框架110的第二引导凹槽113-2的第二容纳凹槽126-2构成，即，布置在面对第二引导凹槽113-2的位置。
在这种情况下，以上描述的第一球体组130-1可以设置成部分地容纳在第一引导凹槽113-1和第一容纳凹槽126-1之间，并且第二球体组130-2可以设置成部分地容纳在第二引导凹槽113-2和第二容纳凹槽126-2之间。
第一引导凹槽113-1和第二引导凹槽113-2中的任一个引导凹槽113都可以具有V形横截面，并且其它引导凹槽可以具有U形横截面。这还可以同样地应用于第一容纳凹槽126-1和第二容纳凹槽126-2。
如果两个引导凹槽113或两个容纳凹槽126都具有不同形状，则可以具有不同的接触部分和不同的旋转特征，因而，可以进一步改善在光轴方向上移动的第一框架110的操作特征。
如果引导凹槽113或容纳凹槽126具有V形横截面，则球体130在两个点处没有间隙地与引导凹槽113或容纳凹槽126进行点接触。
为了使球体130更有效地支撑第一框架110并且通过使用上述特征更有效地引导第一框架110在光轴方向上线性移动，用于引导第一球体组130-1(该第一球体组130-1具有位于其两端的两个第一支撑球体)的第一引导凹槽113-1和第一容纳凹槽126-1中的至少一者可以具有V形横截面。
在一个实施方式中，设置在第一框架110处的第一引导凹槽113-1和第二引导凹槽113-2都可以具有V形横截面，并且设置在第二框架处的第一容纳凹槽126-1可以具有V形横截面，而第二容纳凹槽126-2可以具有U形或梯形横截面。
图5是示出了根据本公开的一个实施方式的设置在第一框架110处的球体130的图。
参照图5，第一支撑球体为属于第一球体组130-1的球体中的B11和B14，而第二支撑球体为属于第二球体组130-2的球体中的B22和B23。第一支撑球体和第二支撑球体可以被构造成具有相同直径和尺寸(D11＝D14＝D22＝D23)。
如图所示，位于第一支撑球体B11和B14之间的球体B12和B13的直径小于第一支撑球体的直径(D12＝D13＜D11＝D14)，并且取决于实施方式，球体B12和B13可以具有不同尺寸。另外，第一支撑球体B11、B14可以具有相同尺寸，但是由于间隙或误差，它们在物理上可能并不相同。在这种情况下，第一支撑球体B11、B14仍然被构造成比其它球体B12、B13具有更大的直径。
位于第二球体组130-2的中央并且比彼此相邻的第二支撑球体B22、B23更向外定位的球体B21、B24可以具有比第二支撑球体小的直径(D21＝D24＜D22＝D23)。此外，球体B21和球体B24可以具有不同尺寸D21、D24，但是优选它们具有相同尺寸。
第二支撑球体B22、B23也可以实现为具有相同尺寸，但是由于公差等原因它们可能部分地具有不同尺寸，在这种情况下，第二支承球体B22、B23也可以具有比其它球体B21、B24大的直径。
如图5中所示，属于第一球体组130-1的两个第一支撑球体B11、B14(第一支撑球体B11、B14具有比属于同一组的其它球体大的尺寸)可以位于第一球体组130-1的两端。
另外，属于第二球体组130-2的两个第二支撑球体B22、B23(第二支撑球体B22、B23具有比属于同一组的其它球体大的尺寸)可以在第二球体组130-2的中央处定位成彼此相邻。例如，如果第二球体组130-2具有四个球体，则基于光轴方向而言，第二支撑球体B22、B23位于第二位置和第三位置处。
在该构造中，可以引起框架在更宽阔的区域上得到平衡的物理支撑，并且还可以使在第一框架110在光轴方向上移动的同时可能发生的分离或间隙最小化。
如果五个球体属于第一球体组130-1，则两个第一支撑球体可以位于五个球体中的任何位置处，但是可以设置在关于位于中央的球体相互对称的位置处，优选设置在五个球体当中的两端处，以有效地实现并行支撑。
此外，如果第二球体组130-2具有五个球体，则第二支撑球体可以位于第二位置和第三位置或者位于第三位置和第四位置以增加并行支撑的效力并且使由支撑球体引起的分离或间隙最小化。
图6是用于例示减小AF框架(第一框架)110沿着光轴移动时的倾斜缺陷的本公开的结构的图。
在图6所描述的球体组当中，位于左侧的球体组相当于第一球体组130-1，位于右侧的球体组相当于第二球体组130-2。第一球体组130-1和第二球体组130-2的左右位置可以取决于实施方式在任何时间改变。
如图6所示，第一球体组130-1的第一支撑球体B11、B14位于第一球体组的两端处，而第二球体组130-2的第二支撑球体B22、B23位于第二球体组的中央。
如上所述，即使第一框架110或第二框架120被设计成由四个球体支撑，这四个球体也可以不是完全相同的。此外，由于第一框架110在光轴方向上线性移动，第一框架110不能总是与四个球体保持点接触。
因而，当第一框架110线性移动时，与第一框架110进行点接触的球体由于物理运动、外部振动等而频繁地改变，因此由于该改变而发生细小的倾斜缺陷。
本公开旨在将这种细小的倾斜缺陷最小化，并且第一框架110由四个支撑球体(第一支撑球体和第二支撑球体)支撑，使得第一支撑球体位于第一球体组130-1的两端，第二支撑球体位于第二球体组130-2的中央，如图所示。
在该构造中，第一支撑球体B11、B14之间的间距P1被最大化，并且第二支撑球体B22、B23之间的间距P2被最小化。
换言之，由于第一支撑球体之间的间距P1被最大地扩展，而第二支撑球体之间的间距P2被最小地减小成相对来说小于P1，因此可以使第一框架110总是与四个支撑球体(两个第一支撑球体和两个第二支撑球体)当中的第一支撑球体B11、B14进行接触。
因此，即使与第一框架110进行点接触的球体在第一框架110线性移动的同时在四个支撑球体之间改变，至少所述第一支撑球体B11、B14总是与第一框架110保持接触，并且可以使第一框架110在间距P2被最小化的第二支撑球体B22、B23处改变接触点。
另外，如上所述，第二支撑球体B22、B23被设计成具有相同尺寸，并且其间距P2被最小化。因而，即使点接触发生改变，也可以使由接触点的改变引起的水平倾斜最小化。
如果四个大直径球体位于每个球体组的两端处，则对应组中的大直径球体之间的距离或间距变成彼此相等。因而，当第一框架110线性移动时，没有一个球体总是与第一框架110进行点接触。结果，当第一框架110线性移动时，进行点接触的球体频繁地发生改变，由此增加了倾斜缺陷。
从对应观点来看，如果第二支撑球体不彼此相邻，则将第二支撑球体之间的间距P2增加到更接近于第一支撑球体之间的间距P1，因而降低了第一支撑球体总是与第一框架110接触的几率。因而，期望第二支撑球体彼此相邻，从而第二支撑球体之间的间距P2被最小化。
如图6所示，支撑第一框架110的结构具有梯形形状，如果第二支撑球体B22、B23之间的间距被理想地最小化，则支撑第一框架110的结构可以更接近三角形形状，即三球体支撑结构。
如果第一框架110由三个球体支撑，则它们的物理点接触可以恒定，因而可以将由第一框架110的线性运动引起的倾斜现象最小化。如果第一支撑球体和第二支撑球体之间的间距如上所述那样不对称，则支撑结构可以更接近于三球体支撑结构，由此使第一框架110处的倾斜缺陷最小化。
图7是示出了根据本公开的另一个实施方式的第一框架110、第二框架120等的联接关系的图。尽管图4和图5示出了球体130设置在第一框架110处，但图7示出了球体130设置在第二框架120处。在图7中，第一框架110被透明地描绘出从而可以清楚地示出第二框架120的结构。
如图7所示，第一框架110或第二框架120的形状或结构与在其它图中所示的形状或结构不同。如果本公开可以以这种方式实现，则第一框架110或第二框架120可以以各种形状和结构实现。
如上所述，如果向AF线圈121施加适当幅度和方向的电，则AF线圈121在磁体111处产生电磁力，从而具有磁体111的第一框架110借助于该电磁力而在光轴方向上线性移动。
此时，第一框架110在由属于第一球体组130-1的两个第一支撑球体和属于第二球体组130-2的两个第二支撑球体支撑的同时在光轴方向上线性移动。
位于第一球体组130-1的两端处的两个第一支撑球体以最大间距P1支撑第一框架110，并且总是与第一框架110接触，由此更准确地引导第一框架110在光轴方向上移动。第二支撑球体位于第二球体组130-2的中央，因而即使与第一框架110进行接触的第二支撑球体改变，也可以将由该改变引起的运动最小化。
在以上本公开中，诸如“第一”和“第二”之类的修饰语仅仅是具有将部件彼此相对标识的工具性概念的术语，因而不应该将它们解释为表示具体顺序、优先次序等等。
已经详细地描述了本公开。然而，应该理解，该详细描述和具体示例尽管表示了该公开的优选实施方式，但仅仅是以例示的方式给出的，这是因为根据该详细描述，该公开的范围内的各种改变和修改对本领域技术人员来说都将显而易见。
用于例示本公开及其实施方式的附图可能被稍微扩大地示出以强调或突出本公开的技术特征，但是应该理解，考虑到上述描述和附图，可以由本领域技术人员进行各种修改。