本发明属于光纤制备技术领域，具体涉及一种激光光纤，还涉及一种激光光纤的制造方法。
背景技术：
高功率光纤激光器由于具有光束质量好、电光效率高、体积小、重量轻等传统激光器无法比拟的诸多优点，在工业制造领域具有广泛的应用。高功率光纤激光器用激光光纤，通常通过掺杂稀土元素以及其他共掺元素来实现。在高功率光纤激光实际使用中，通常需要高浓度掺杂来提高激光光纤的吸收系数，从而可以用较短的光纤长度实现高的输出功率，降低非线性效应出现的阈值。但纤芯掺杂元素浓度越大，纤芯和包层之间应力差越大，光纤内部容易出现材料缺陷而导致光纤性能降低，同时高功率激光伴随着高热应力引起光热损伤，严重影响光纤的使用寿命。高功率条件下光纤涂覆层发热严重，长时间使用会导致涂层质量降低甚至烧损，严重降低光纤激光器的稳定性和可靠性。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是提供一种激光光纤，实现尽可能大的提高激光光纤承载高功率的能力。
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种激光光纤，包括芯部和包层，所述芯部和包层之间设有第一缓冲层，所述芯部的折射率为n1、膨胀系数为η1；所述包层的折射率为n3、膨胀系数为η3；所述第一缓冲层的折射率为n2、膨胀系数为η2；η1＞η2＞η3，n2＝n3，
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述包层包括非缓冲层和至少一个第二缓冲层，所述非缓冲层包覆在第一缓冲层外侧，所述第二缓冲层包覆在非缓冲层外侧，所述非缓冲层的折射率为n3、膨胀系数为η3；所述第二缓冲层的折射率为n4；
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述第二缓冲层外侧包覆有涂覆层。
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述涂覆层包括第一涂覆层和第二涂覆层，所述第一涂覆层包覆在第二缓冲层外侧，所述第二涂覆层包覆在第一涂覆层外侧；所述第一涂覆层的折射率为n5；所述第二涂覆层的折射率为n6；n4≥n5，n6＞n5。
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述涂覆层为经过改性后的涂覆材料层。
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述包层为非圆对称结构。
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述包层为d字形、八边形、六边形或者梅花形。
为了解决上述技术问题，本发明还提供了一种激光光纤制造方法，其包括以下步骤，
(1)制作套管：基于ovd或vad沉积法，在靶棒上沉积非缓冲层区域和第二缓冲层区域，沉积产生非缓冲层和第二缓冲层后玻璃化烧结，祛除靶棒获得套管；
(2)制作芯棒：基于mcvd方法，在沉积管中依次沉积第一缓冲层和芯部，沉积结束后萎缩成光纤预制棒芯棒；
(3)组装芯棒：基于ric光棒技术，将步骤(1)中获得的套管和步骤(2)中获得的芯棒组装成光纤预制棒；
(4)拉制步骤(3)中获得光纤预制棒，获得以上结构的激光光纤。
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述第一缓冲层和第二缓冲层均掺杂有al、p共掺或f、al、p共掺。
本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述芯部掺杂有yb、al或者p。
本发明的激光光纤，通过第一缓冲层缓冲芯部和包层的应力差，抑制光纤内部因芯部和包层应力差过大而产生的结构缺陷，同时不影响芯部和包层的波导结构，以此来实现尽可能大的提高激光光纤承载高功率的能力。
附图说明
图1是本发明优选实施例中激光光纤的结构示意图。
其中：2-芯部，4-第一缓冲层，6-非缓冲层，8-第二缓冲层，10-第一涂覆层，12-第二涂覆层。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本发明并能予以实施，但所举实施例不作为对本发明的限定。
实施例一
如图1所述，本实施例公开了一种激光光纤，包括芯部2、包覆在芯部2外侧的第一缓冲层4、包覆在第一缓冲层4外侧的非缓冲层6、包覆在非缓冲层6外侧的第二缓冲层8、包覆在第二缓冲层8外侧的第一涂覆层10、包覆在第一涂覆层10外侧的第二涂覆层12，上述第二缓冲层8可以是一个或者多个。
上述芯部的折射率为n1、膨胀系数为η1；上述第一缓冲层的折射率为n2、膨胀系数为η2；上述非缓冲层的折射率为n3、膨胀系数为η3；上述第二缓冲层的折射率为n4；上述第一涂覆层的折射率为n5；上述第二涂覆层的折射率为n6。本实施例技术方案中，控制：①、
本实施例技术方案中，在芯部2和包层之间设置第一缓冲层4来缓冲芯部和包层的应力差，抑制光纤内部因芯部2和包层之间应力差过大而产生的结构缺陷，同时不影响芯部2和包层的波导结构，以此来实现尽可能大的提高激光光纤承载高功率的能力。
另一方面，包层中的第二缓冲层8将溢出的高阶模或泵浦光限制在包层和第二缓冲层8内，抑制高功率情况下光纤发热对涂覆层的损害。
进一步的，本实施例技术方案中，上述第一涂覆层10和第二涂覆层12均采用经过改性后的涂覆材料层，优选的，在现有涂覆材料中添加ain(氮化铝膜)、碳纳米管、碳涂覆材料，目的在于提高涂覆层的导热系数，在高功率使用时能够快速散热。
本实施例技术方案中，组成上述包层的非缓冲层6和第二缓冲层8在制造包层的过程中形成，无需后续组装，保证非缓冲层6和第二缓冲层8具有最佳的同心度。进一步的，上述包层为非圆对称结构，具体的，上述包层为d字形、八边形、六边形或者梅花形，使得每次折射都会激发活性元素。
实施例二
本实施例公开一种激光光纤制造方法，其包括以下步骤，
(1)制作套管：基于ovd或vad沉积法，在靶棒上沉积非缓冲层区域和第二缓冲层区域，沉积过程中，上述第二缓冲层掺杂有al、p共掺或f、al、p共掺，以此来降低第二缓冲层8的折射率，直至
(2)制作芯棒：基于mcvd方法，在沉积管中依次沉积第一缓冲层和芯部，上述第一缓冲层掺杂有al、p共掺或f、al、p共掺，上述芯部掺杂有yb、al或者p，以此来降低第一缓冲层4的折射率，直至
(3)组装芯棒：基于ric光棒技术，将步骤(1)中获得的套管和步骤(2)中获得的芯棒组装成光纤预制棒；
(4)拉制步骤(3)中获得光纤预制棒，获得以上结构的激光光纤。拉制激光光纤过程中用紫外光固化第一层涂覆层10和第二层涂覆层，获得实施例一种的激光光纤。
以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例，本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换，均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。