本发明涉及显示技术领域，具体的，涉及配向膜的制作方法和应用。
背景技术：
目前tft-lcd液晶面板中，配向液(pi)的涂布方式主要包括apr版转印(coater)和喷墨印刷方式(inkjet)两种，其中，coater涂布方式的节拍时间(tacttime)较长，配向液的利用率低，设备复杂，且切换涂布产品也较为繁琐；inkjet涂布方式相比于coater涂布方式，虽然具有更低的tacttime以及较好的配向液利用率，且设备简单，产品切换更简便等优势，但碍于配向液扩散不均等膜面问题，并未完全取代coater涂布方式，尤其在有机膜产品以及高分辨产品上，膜面效果欠佳。
因此，有关配向膜的制作方法有待深入研究。
技术实现要素：
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种具有制作方法简单、配向膜膜面均匀、配向液利用率高或成本低等优点的制作配向膜的方法。
发明人是基于以下的认识和发现获得本发明的：
目前采用喷涂(比如喷墨印刷)形成配向液时，在基板的异形区(比如凹陷区或凸起区)周围配向液可能会流向异形区，也可能不会，也就是说，在异形区周围配向液的流动性不可控，若有的异形区中有配向液流过并被配向液覆盖，有的异形区中没有配向液流过，如此，在配向液固化后就会引起配向膜膜面不均匀的现象，进而就会影响使用该基板的显示装置的显示，产生mura现象(亮度不均匀，造成各种痕迹的现象)。针对该技术问题，发明人进行了深入的研究，意外的发现，可以通过一定手段改变异形区周围配向液的温度，进而控制该配向液的流动，使得配向液向异形区流动并覆盖异形区或者抑制配向液向异形区流动，如此就可以使得异形区全部被配向液覆盖，或者全部没有被配向液覆盖，进而待配向液固化后，也就不会存在配向膜膜面不均匀的现象，最终改善使用该基板的的显示装置的显示质量。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种制作配向膜的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供基板，所述基板的一个表面上设置有配向液区和异形区，所述异形区选自凹陷区和凸起区中的至少一种；在所述配向液区上喷涂配向液以形成配向液膜；调整所述异形区周围的所述配向液的流动性，使得所述配向液向所述异形区流动并覆盖所述异形区或者抑制所述配向液向所述异形区流动；对所述配向液进行固化处理。发明人发现，通过控制该配向液的流动，使得配向液向异形区流动并覆盖异形区或者抑制配向液向异形区流动，如此就可以使得异形区全部被配向液覆盖，或者全部没有被配向液覆盖，进而待配向液固化后，也就不会存在配向膜膜面不均匀的现象，最终改善使用该基板的显示装置的显示质量，而且上述制作方法简单，易操作，设备简单，成本低，易于工业化生产。
根据本发明的实施例，所述凹陷区的凹陷深度大于等于100纳米或者所述凸起区的凸起高度大于等于所述配向液膜的厚度，所述调整所述异形区周围的所述配向液的流动性为抑制所述配向液向所述异形区流动。
根据本发明的实施例，所述喷涂为喷墨打印。
根据本发明的实施例，使得所述配向液向所述异形区流动并覆盖所述异形区是通过使得所述异形区周围的所述配向液的温度升高且低于所述配向液中溶剂的沸点实现的；抑制所述配向液向所述异形区流动是通过使得所述异形区周围的所述配向液的温度高于所述配向液中溶剂的沸点实现的。根据本发明的实施例，所述调整所述配向液的流动性是通过光照实现的。
根据本发明的实施例，利用光照调整所述异形区周围的所述配向液的流动性的步骤包括：提供具有开口的遮挡板，所述开口与所述异形区对应设置，且所述开口在所述基板上的正投影分别大于所述异形区在所述基板上正投影；使红外光通过所述开口照射到所述异形区周围的所述配向液。
在本发明的另一个方面，本发明提供了一种制作阵列基板或彩膜基板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括；利用前面所述的方法制作配向膜的步骤。由此，上述方法制备的阵列基板或彩膜基板中的配向膜的膜面均匀，进而可以大大提高使用该阵列基板或彩膜基板的显示面板或显示装置的显示质量，提高其市场竞争力，而且上述制作方法简单，易操作，设备简单，成本低，易于工业化生产。当然，本领域技术人员可以理解，该制作阵列基板或彩膜基板的方法包括前面所述制作配向膜方法的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
在本发明的又一个方面，本发明提供了一种阵列基板或彩膜基板。根据本发明的实施例，是利用前面所述的方法制备的。由此，上述阵列基板或彩膜基板中的配向膜的膜面均匀，进而可以大大提高使用该阵列基板或彩膜基板的显示面板或显示装置的显示质量，提高其市场竞争力。当然，本领域技术人员可以理解，该阵列基板或彩膜基板包括前面所述的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
在本发明的又一个方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，包括前面所述的阵列基板和彩膜基板中的至少之一。由此，该显示装置的显示质量高，制作成本低、市场竞争力强。当然，本领域技术人员可以理解，该显示装置包括前面所述阵列基板或彩膜基板的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例，所述阵列基板和所述彩膜基板的至少之一上的异形区未被配向膜覆盖，且未被所述配向膜覆盖的所述异形区与所述彩膜基板上的黑矩阵对应设置。
附图说明
图1是本发明一个实施例中制作配向膜的流程示意图。
图2是本发明另一个实施例中基板的结构示意图。
图3是本发明又一个实施例中阵列基板的结构示意图。
图4是本发明又一个实施例中阵列基板的结构示意图。
图5是本发明又一个实施例中制作阵列基板中配向膜的结构示意图。
图6是本发明又一个实施例中阵列基板的结构示意图。
图7是本发明又一个实施例中基板的结构示意图。
图8是本发明又一个实施例中基板的结构示意图。
附图标记：
10-基板；11-配向液区；121-凹陷区；122-凸起区；13衬底；14-走线；15-栅极；16-栅绝缘层；17-漏极；18-源极；19-有源层；20-钝化层(平坦层)；21-像素电极；30-配向液膜；40遮挡板；41-开口
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种制作配向膜的方法。根据本发明的实施例，参照图1，该方法包括：
s100：提供基板10，基板的一个表面上设置有配向液区11和异形区，异形区选自凹陷区121和凸起区122中的至少一种，结构示意图参照图2。
需要说明的是，所述异形区是指不同于其周围平坦区域的区域，在本发明的实施例中，异形区通常指凹陷区或凸起区，其中，所述凹陷区是指该区域均低于四周平面的区域，比如在制备阵列基板时为了便于绝缘层两侧导电材料的电连接，会在绝缘层制备过孔，在整个阵列基板制作完成后该过孔的对应位置处就会有上述的凹陷区；凸起区是指该区域均高于周围平面的区域，比如走线区的金属走线，其中，凹陷区和凸起区并不包括台阶型区域(例如图2中的a处)。配向液区是指后续工艺中需要形成配向液膜的区域。
根据本发明的实施例，本领域技术人员可以根据实际需求灵活选择所需设置配向膜的基板的具体种类。在本发明的实施例中，基板选自未设置配向膜的阵列基板和彩膜基板。由此，采用本申请中制作配向膜的方法可以提高阵列基板或彩膜基板中配向膜的膜面均匀性，进而提高使用该阵列基板或彩膜基板的显示装置的显示效果，及其市场竞争力。
根据本发明的实施例，阵列基板或彩膜基板的具体结构可以为本领域中任意一种结构的阵列基板或彩膜基板。在本发明的一些实施例中，阵列基板的结构可以参见图3(图3-图6均阵列基板，且以凹陷区作为异形区为例)，具体的：该阵列基板包括衬底13，设置于衬底一个表面上的栅极15和走线14，设置于衬底13的表面上并覆盖栅极15和走线14的栅绝缘层16，设置于栅绝缘层16远离衬底一侧的有源层19、源极18、漏极17，设置于栅绝缘层16远离衬底一侧并覆盖有源层、源极和漏极的钝化层(或平坦层)20，以及设置于钝化层(或平坦层)20远离衬底一侧的像素电极21，且像素电极21通过钝化层(或平坦层)20的过孔与漏极17进行电连接，由此在过孔的对应位置处就会形成一个凹陷区121，此外根据钝化层(或平坦层)20的制作工艺，通常在有源层处的沟道区也会形成一个凹陷区121。当然，根据不同结构的阵列基板，在制作过程中可能也会在其他位置处形成凹陷区和/或凸起区，对此本申请就不做详细的描述了。此外，本领域技术人员熟知，彩膜基板的在制作过程中也会形成一定的凹陷区和/或凸起区，在此也不再详细描述了。
s200：在配向液区上喷涂配向液以形成配向液膜，结构示意图参见图4。
根据本发明的实施例，本领域技术人员可以根据实际需求灵活选择喷涂的具体方式。在本发明的实施例中，喷涂为喷墨打印。由此，配向液的利用率高，节拍时间低，且设备简单，更换制作配向膜的基板时也较为简便，而且，通过结合本申请的上述制作配向膜的方法，可以很好的解决前面所述的目前采用喷墨打印而导致配向膜膜面不均匀的现象。
根据本发明的实施例，本领域技术人员可以根据对产品的不同需求等实际情况灵活设计形成配向液膜的厚度。在本发明的一些实施例中，配向液膜的厚度为65纳米-120纳米。由此，可以满足阵列基板或彩膜基板等不同基板对最终获得的配向膜厚度的要求。
需要说明的是，采用喷涂的方式形成配向液膜时，配向液膜为一滴一滴的状态，并非完全均匀的平铺在基板上，图4中只是为了便于作图，将其画为均匀平铺的状态，最终，配向液可通过自由扩散完全平铺于配向液区，通过固化处理后形成配向膜。
s300：调整异形区周围的配向液的流动性，使得配向液向异形区流动并覆盖异形区或者抑制配向液向异形区流动。
根据本发明的实施例，调整异形区周围的配向液的流动性主要是通过改变异形区周围的配向液的温度实现的，使得异形区周围的配向液与其他区域的配向液之间产生扩散势能差、温度差以及粘度差，进而实现调整异形区周围配向液的流动性，具体的：当使得配向液向异形区流动并覆盖异形区时，可通过使得异形区周围的配向液的温度升高且低于配向液中溶剂的沸点进行实现，此时异形区周围的配向液与其他区域的配向液之间产生扩散势能差，扩散系数是影响异形区周围配向液流动的主导因素，即提高了异形区周围配向液的扩散系数，其流动性变大，促进其向异形区的流动；当抑制配向液向异形区流动时，可通过使得异形区周围的配向液的温度高于配向液中溶剂的沸点来实现，此时，由于温度较高，溶剂快速蒸发掉，配向液的粘度变化远大于扩散系数的变化，此时，粘度是影响异形区周围的配向液流动的主导因素，由于异形区周围配向液粘度变大，其流动性就会变差，进而实现抑制异形区周围配向液向异形区继续流动。
根据本发明的实施例，为了较好的控制前面所述的调整配向液的流动性，在本发明的一些实施例中，调整配向液的流动性是通过光照实现的，通过改变光照强度来改变异形区周围配向液的温度。根据本发明的实施例，采用的光可以为红外光。由此，由于红外光具有热效应，红外光被异形区周围的配向液吸收后转化为热能，可使异形区周围的配向液的温度升高，进而改变该配向液的扩散系数或者粘度，控制其流动性。
根据本发明的实施例，利用光照调整异形区周围的配向液的流动性目的可以通过以下步骤实现：
步骤一：提供具有开口41的遮挡板40，开口与异形区(图中仅以凹陷区121为例)对应设置，且开口在基板上的正投影大于异形区在基板上正投影，结构示意图参照图5。
根据本发明的实施例，为了有效遮挡光照射到非异形区周围的配向液，在本发明的实施例中，可选用曝光掩膜板作为遮挡板。由此，遮挡效果较佳。
步骤二：使红外光通过开口41照射到异形区周围的配向液30，结构示意图参照图5。
由此，通过开口，红外光照射到异形区周围的配向液，使得红外光照射到的配向液与不被红外光照射到的配向液之间产生扩散势能差、温度差以及粘度差，由此，便可以控制异形区周围被红外光照射到的配向液的流动性，使得异形区周围的配向液向异形区流动并覆盖异形区或者抑制配向液向异形区流动。而且由于遮挡板在非开口区的遮挡，可以防止非开口区对应的配向液因被红外光照射到而导致流动性过大，进而导致过多的配向液流到凹陷区中，不利于最终形成的配向膜膜面均匀性；或者非开口区配向液因被红外光照射到而导致流动性太小，也会不利于配向膜膜面的均匀性。
根据本发明的实施例，如前所述，若有的异形区中有配向液流过并被配向液覆盖，有的异形区中没有配向液流过并被覆盖，在配向液固化后就会引起配向膜膜面不均匀的现象，进而就会影响使用该基板的显示装置的显示，但是当异形区全被配向液覆盖或全不被配向液覆盖，均不会引起配向膜膜面不均匀的现象，也就不会影响使用该基板的显示装置的显示效果，下面就跟本发明的一些实施例详细描述一下促进异形区周围配向液流向异形区并被配向液覆盖和抑制配向液流向异形区这两种情况：
在本发明的一些实施例中，当需使得配向液向异形区流动并覆盖异形区时，可通过一定手段(下面均以采用光照为例)使得异形区周围的配向液的温度升高且低于配向液中溶剂的沸点进行实现，具体的：以凹陷区为例，凹陷区周围的配向液的温度升高且低于配向液中溶剂的温度，光照射到的配向液与不被光照射到的配向液之间产生扩散势能差，扩散系数是影响凹陷区周围配向液流动的主导因素，即提高了凹陷区周围配向液的扩散系数，其流动性变大，促进其向凹陷区的流动，凹陷区121被配向液覆盖时的结构示意图参照图6；当凹陷区中的配向液的厚度满足使用需求时，就需要开始抑制配向液继续向凹陷区中流动，以防止凹陷区周围配向液的厚度太薄以及凹陷区中配向液的厚度太厚造成配向膜膜面不均匀，影响显示效果，此时便可以通过加强光照，使得凹陷区周围配向液的温度高于溶剂的沸点来实现抑制配向液的流动，具体的；加强光照强度，使得凹陷区周围的配向液温度高于溶剂的沸点温度，让溶剂快速蒸发掉，配向液的粘度变化远大于扩散系数的变化，此时，粘度是影响凹陷区周围的配向液流动的主导因素，由于凹陷区周围配向液粘度变大，其流动性就会变差，进而实现抑制凹陷区周围配向液向凹陷区继续流动。
在本发明的另一些实施例中，当基板上也包括凸起区时，参照图1和图7，在喷涂形成配向液膜(图7)后，通过光照使异形区周围的配向液的温度升高且低于配向液中溶剂的温度，光照射到的配向液与不被光照射到的配向液之间产生扩散势能差，扩散系数是影响异形区周围配向液流动的主导因素，即提高了异形区周围配向液的扩散系数，其流动性变大，促进其向异形区的流动，异形区被配向液覆盖时的结构示意图参照图8。
在本发明的又一些实施例中，当抑制配向液流向异形区时，则可以通过光照使得异形区周围的配向液的温度高于配向液中溶剂的沸点来实现，具体的：加强光照强度，使得异形区周围的配向液温度高于溶剂的沸点温度，让溶剂快速蒸发掉，配向液的粘度变化远大于扩散系数的变化，此时，粘度是影响异形区周围的配向液流动的主导因素，由于配向液粘度变大，其流动性就会变差，进而实现抑制异形区周围配向液向异形区流动。
根据本发明的实施例，当所述凹陷区的凹陷深度较浅(比如低于100纳米)或凸起区的凸起高度低于所喷涂的配向液膜的厚度时，本领域技术人员可以根据实际需求灵活设计异形区周围配向液的流动，即可以促进异形区周围的配向液流向异形区并覆盖异形区，参照图6和图8，也可以抑制异形区周围的配向液流向异形区，参照图4和图7。但是当凹陷区的凹陷深度大于等于100纳米或者凸起区的凸起高度大于等于配向液膜的厚度，则需利用光照调整异形区周围的配向液的流动性为抑制配向液向异形区流动。具体的：如果凹陷区的凹陷深度(大于等于100纳米，比如150纳米、200纳米)过大，由于配向液流向凹陷区时凹陷区的侧壁也会沾有一定量的配向液，凹陷区越深，侧壁沾有的配向液量就会越多，如此，凹陷区周围的配向液量就会大大减少，待其固化后，相比于未被光照射到的配向膜的膜厚，凹陷区周围的配向膜膜厚就会比较薄，进而就会影响使用该基板的显示装置的显示质量，所以，就可以选择抑制异形区周围配向液的流动；如果凸起区的凸起高度大于等于配向液膜的厚度，凸起区周围的配向液是难以流过凸起区的，故而选择抑制配向液的流动。
根据本发明的一些实施例，当上述基板为阵列基板，且用于4k或8k等高端电子产品时，通常会在设置配向膜之前，在阵列基板上形成一层较厚的有机膜，该有机膜就会加深凹陷区的凹陷深度，而该深度通常都会大于100纳米，故而，对于这种结构的产品，就会采用抑制异形区周围配向液的流动，来提高配向膜膜面的均匀性，进而提高产品的显示效果。
当然本领域技术人员可以理解，通常配向液中的溶剂并非只有一种，当多种溶剂不形成共沸混合物，那么前面所述的使异形区周围配向液的温度低于溶剂的沸点温度，是指的低于所有溶剂的沸点温度，使异形区周围配向液的温度高于溶剂的沸点温度，本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择高于任一种或多种溶剂的沸点温度，当然，也可以高于所有溶剂的沸点温度；当多种溶剂形成共沸混合物，那么前面所述的使异形区周围配向液的温度低于溶剂的沸点温度，是指的低于上述共沸混合物的沸点温度，使异形区周围配向液的温度高于溶剂的沸点温度，是指的高于上述共沸混合物的沸点温度。总而言之，使异形区周围配向液的温度低于溶剂的沸点温度就是在保证溶剂不被蒸发掉的前提下提高异形区周围配向液的流动性，使异形区周围配向液的温度高于溶剂的沸点温度就是将异形区周围配向液中的部分溶剂蒸发掉，以此来提高异形区周围配向液的粘度，进而抑制其流动。
s400：对配向液进行固化处理。
在本发明的一些实施例中，可以采用常规的热固化设备或光固化设备；在本发明的另一些实施例中，可以直接将本发明方案中的遮挡板撤掉，调节光照的强度，使得配向液中的温度最低为接近多种溶剂中溶剂的最高沸点温度，或者接近共沸混合物的沸点温度，比如，多种溶剂形成共沸混合物，其沸点为250℃，那么固化温度可以选择高于230℃即可，当然，固化温度越高，溶剂蒸发的就越快，固化时间也就越短，具体情况本领域技术人员根据实际需求灵活设计即可，在此不作限制要求。此外上述固化处理方法操作简单，不用更换固化设备，节约成本，且节约工艺时间。
发明人发现，上述制作配向膜的方法中，通过控制该配向液的流动(比如通过采用光照的手段改变配向液的温度来实现控制配向液的流动)，使得配向液向异形区流动并覆盖异形区或者抑制配向液向异形区流动，如此就可以使得异形区全部被配向液覆盖，被或者全部没有被配向液覆盖，进而待配向液固化后，也就不会存在配向膜膜面不均匀的现象，最终改善使用该基板的显示装置的显示质量，而且上述制作方法简单，易操作，设备简单，成本低，易于工业化生产。
在本发明的另一个方面，本发明提供了一种制作阵列基板或彩膜基板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括；利用前面所述的方法制作配向膜的步骤。由此，上述方法制备的阵列基板或彩膜基板中的配向膜的膜面均匀，进而可以大大提高使用该阵列基板或彩膜基板的显示面板或显示装置的显示质量，提高其市场竞争力，而且上述制作方法简单，易操作，设备简单，成本低，易于工业化生产。当然，本领域技术人员可以理解，该制作阵列基板或彩膜基板的方法包括前面所述制作配向膜方法的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
当然本领域技术人员可以理解，上述制作阵列基板或彩膜基板的方法中，除了包括利用前面所述的方法制作配向膜的步骤，还包括制作常规阵列基板或彩膜基板的步骤，比如，在制作阵列基板时，还会包括遮光层、薄膜晶体管、电极和存储电容等结构的制作步骤，其中，上述各结构的制作步骤本领域技术人员根据实际需求灵活选择常规制作方法即可，在此不作限制要求；在制作彩膜基板时，还会包括黑矩阵、彩色滤光层和平坦层等结构的制作步骤，其中，上述各结构的制作步骤本领域技术人员根据实际需求灵活选择常规制作方法即可，在此不作限制要求。
在本发明的又一个方面，本发明提供了一种阵列基板或彩膜基板。根据本发明的实施例，是利用前面所述制作阵列基板或彩膜基板的方法制备的。由此，上述阵列基板或彩膜基板中的配向膜的膜面均匀，进而可以大大提高使用该阵列基板或彩膜基板的显示面板或显示装置的显示质量，提高其市场竞争力。当然，本领域技术人员可以理解，该阵列基板或彩膜基板包括前面所述的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
在本发明的又一个方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，包括前面所述的阵列基板和彩膜基板中的至少之一。由此，该显示装置的显示质量高，制作成本低、市场竞争力强。当然，本领域技术人员可以理解，该显示装置包括前面所述阵列基板或彩膜基板的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例，阵列基板和彩膜基板的至少之一上的异形区均被配向膜覆盖，那么在后续制作显示装置时，异形区可以选择与彩膜基板的黑矩阵对应设置，也可以选择不与黑矩阵对应设置，本领域技术人员根据实际需求灵活选择即可，在此也不作限制要求。
根据本发明的实施例中，阵列基板和彩膜基板的至少之一上的异形区未被配向膜覆盖，且未被配向膜覆盖的异形区与彩膜基板上的黑矩阵对应设置。由此，未被配向膜覆盖的异形区就不会对该显示装置的显示效果产生不良影响。
根据本发明的实施例，上述显示装置的具体种类没有限制要求，本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择。在本发明的实施例中，上述显示装置包括但不限于手机、电视、平板电脑、游戏机以及一切具有显示功能的电子设备或可穿戴设备。
本领域技术人员可以理解，上述显示装置除了前面所述的阵列基板或彩膜基板，还包括常规显示装置所必备的结构或部件，以手机为例，除了前面所述的阵列基板或彩膜基板，还包括液晶层、声音处理模组、照相模组、cpu处理器、指纹模组等结构或部件。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。