本发明涉及投影屏幕技术领域，尤其是涉及一种抗光幕布及其制备方法。
背景技术
近年来，随着投影机亮度的不断提高，投影显示系统在各种场所的应用优势越发明显。而在部分应用场所中，投影屏幕通常被安装在自然采光条件良好，且具有明亮的照明光源的位置，使得投影屏幕在使用时存在大量的环境光，造成画面失真及对比度和色彩还原度的降低。
现有技术中为了提高对比度，设计了抗光幕布。而目前常见的抗光幕布存在较多应用缺陷，如结构缺陷造成的生产良率低、保养麻烦、使用寿命短，或者仅为了提高亮度导致观看视角过小，或者是结构及工艺复杂、成本过高等等。
有鉴于此，特提出本发明。
技术实现要素：
本发明的第一目的在于提供一种抗光幕布，所述抗光幕布采用单张基材，通过合理的结构设置，得到的幕布具有优异的抗光性、亮度以及观看视角，解决了现有技术中无法兼顾抗光性、亮度和观看视角的技术问题。
本发明的第二目的在于提供一种所述抗光幕布的制备方法，所述制备方法操作简单，可适性好，适用于大规模生产。
为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：
一种抗光幕布，包括吸光层、基材层和反射层；所述反射层远离基材层的一侧表面涂覆有反射材料；
所述吸光层包括多个微结构单元，所述多个微结构单元在所述幕布的平面内连续延伸，并且，所述微结构单元的剖面结构为三角形结构或梯形结构；
所述反射层远离基材层的一侧表面包括反射结构。
优选的，所述抗光幕布还包括雾化层，所述雾化层、吸光层、基材层、反射层依次设置。更优选的，所述雾化层与所述吸光层一体成型。
本发明所述的抗光幕布，使用单张基材，在光线入射一侧设置雾化层和吸光层，另一侧设置反射层，使得所述抗光幕布亮度高、抗光且具有广视角的效果。其中，所述投影光的光线经雾化层进入后，雾化层将光线进行扩散，经反射层射出后，再进行光的聚集，增强幕布亮度，同步起防眩光的效果；所述吸光层配合所述雾化层，在环境光入射后基本被吸收，不会继续反射等，提供抗光的效果；根据投影机的参数，设置所述反射层的结构，使得投影光经反射层反射后，基本以垂直于屏幕方向、平行或近似平行射出。
优选的，所述微结构单元的剖面结构为梯形结构，所述梯形结构的底边平行于所述雾化层的平面，所述梯形结构的高为10-50μm，所述梯形结构的底边长度为10-50μm。
优选的，所述梯形结构的腰与所述雾化层的平面的夹角分别为80-90°和40-50°。
优选的，所述微结构单元的剖面结构为三角形结构，所述三角形结构远离雾化层的顶点与雾化层的垂直高度为10-50μm，所述三角形结构与雾化层的平面的相接边的长度为10-50μm。
优选的，所述三角形结构与所述雾化层的平面的夹角分别为80-90°和40-50°。
吸光层的微结构单元按照上述结构设置，能够增加吸收环境光的量，降低对投影光的吸收，保证投影幕布的亮度。
优选的，相邻所述微结构单元之间的距离由上至下递增。更优选的，相邻所述微结构单元之间的距离为50-150μm。
吸光层的设置是为了吸收环境光，提高抗光的效果，但由于吸光层的设置，同时对投影光也存在一定的吸收作用，因而，为了保证幕布亮度的均匀性，经光学模拟综合权衡，按照上述的吸光层的结构设置，相邻微结构单元之间的距离由上至下递增，环境光如从相对幕布的斜上方入射，投影光从相对幕布的斜下方入射，吸光层能够最大限度的吸收环境光，而对投影光的影响相对较小，例如，在吸收环境光50％时，仅降低投影幕布亮度10-20％，在提高抗光性的同时，兼顾尽可能保证幕布的亮度。
优选的，所述雾化层远离吸光层的一侧表面包括多个依次排列的微透镜结构，使得所述雾化层的雾度为20-80％。
采用微透镜结构，控制雾度在上述范围内，使得投影光在经过所述幕布时，发生扩散，经反射结果射出后，微结构进一步对光进行聚集增强，提高投影幕布的亮度；同时，微结构能够起到防止眩光和耐刮抗污的效果。
优选的，所述反射结构包括菲涅尔结构或非对称三角结构。
优选的，所述反射结构的结构设置为菲涅尔结构。更优选的，所述反射层为uv树脂层。进一步优选的，所述uv树脂的透过率≥85％。
所述反射结构的倾斜反射面与基材层平面的夹角β近似等于从投影光线到达反射结构的倾斜反射面的入射角γ；由于投影机投射的入射光经过幕布时，会发生一定的折射，将折射影响考虑后，通常按照所述反射结构的倾斜反射面与基材层平面的夹角β的二倍等于投影机的入射角θ的关系进行设置反射结构，折射偏差角度在约±10°，即2β＝θ±10℃。按照上述要求设置反射结构，能够使得投影光经反射层反射后，基本以垂直于屏幕方向、平行或近似平行射出。本发明所采用的uv树脂，其透过率≥85％，以实现较好的光学特性，并且在紫外条件下即可固化，成型工艺简单；对uv树脂的种类不进行限定，透过率≥85％、可在紫外光照条件下固化的树脂均可实现。
优选的，所述反射材料包括铝和/或银。更优选的，所述反射材料中包括光扩散粒子。更优选的，所述光扩散粒子包括二氧化锆粒子、玻璃珠粒子、珍珠粒子中的一种或多种。进一步优选的，所述光扩散粒子的粒径为3-100μm。
优选的，所述反射材料中，光扩散粒子的添加量为1-30wt％。
在反射材料中添加光扩散粒子，能够将光线漫反射，增加幕布的均匀性，增加可视视角。
优选的，所述吸光层和雾化层为uv树脂层。进一步优选的，所述uv树脂的透过率≥85％。
本发明所采用的uv树脂，其透过率≥85％，以实现较好的光学特性，并且在紫外条件下即可固化，成型工艺简单；对uv树脂的种类不进行限定，透过率≥85％、可在紫外光照条件下固化的树脂均可实现。并且，一体成型，提高了加工效率，避免繁琐操作。
优选的，所述吸光层和所述雾化层中添加有吸光材料。更优选的，所述吸光材料包括颜料。进一步优选的，所述颜料包括油墨、树脂中的一种或多种。
所述颜料用于的添加用于吸收环境光，提高抗光性能。
优选的，所述吸光层中吸光材料的添加量为0.1-10wt％。
优选的，所述雾化层中吸光材料的添加量为0.1-10wt％。
优选的，所述基材层包括pet基材层、pvc基材层和pp基材层中的任一种。更优选的，所述基材层的厚度为0.1-0.4mm。
优选的，所述反射层的厚度为0.05-0.2mm。
优选的，所述反射材料的涂覆厚度为0.005-0.1mm。
优选的，所述雾化层的厚度为5-50μm。
上述各层的厚度设置在兼顾光学性能的同时，降低各层厚度，以制备得到较薄的抗光幕布，节省成本和空间，使用方便。
优选的，所述抗光幕布还包括支撑层，所述支撑层贴合于所述反射材料。更优选的，所述支撑层为黑色支撑层。与反射材料同步防止漏光。
本发明还提供了一种所述抗光幕布的制备方法，包括如下步骤：
(a)在基材两侧表面分别涂覆树脂，通过第一模具在一侧表面固化形成吸光层和雾化层，通过第二模具在另一侧表面固化形成反射层；
(b)在所述反射层远离基材层的一侧表面涂覆反射材料。
本发明通过模具，在基材一侧表面一体成型吸光层和雾化层，工艺简单，并且所述吸光层配合所述雾化层，在环境光入射后基本被吸收，不会继续反射等，提供抗光的效果。
优选的，在所述雾化层表面通过激光加工、喷砂、腐蚀和/或机加工形成微透镜结构。
优选的，所述第一模具表面包括多个微结构单元，所述多个微结构单元沿其表面连续延伸，并且，所述微结构单元的剖面结构为三角形结构或梯形结构。
优选的，所述第二模具表面包括菲涅尔结构或非对称三角结构。
通过模具压印，在基材两侧形成设定的结构，操作简单，产品可适性好。
优选的，所述固化方法包括：紫外光固化。
综上，与现有技术相比，本发明达到了以下技术效果：
(1)本发明使用单张基材，在光线入射一侧设置雾化层和吸光层，另一侧设置反射层，使得所述抗光幕布亮度高、抗光且具有广视角的效果；
(2)本发明所述的雾化层使用微透镜结构，同时集合着色功能，将入射光扩散以及反射光聚集，具有提升亮度、对比度以及防止眩光的作用；并且雾化层表面采用微透镜面，具有较好的抗刮耐污功能；
(3)本发明将吸光层与雾化层一体成型，吸光层的设置是为了吸收环境光，提高抗光的效果；同时对吸光层的结构尺寸、角度及间距分布等进行设计，以最大限度吸收环境光，同时尽可能保证幕布的亮度；
(4)本发明根据投影机的参数，设置所述反射层的结构，使得投影光经反射层反射后，基本以垂直于屏幕方向、平行或近似平行射出；同时，在反射材料中添加光扩散粒子，使其均匀分布，用于反射投影的入射光，取得高亮效果，并且能够将光线漫反射，增加幕布的均匀性，增加可视视角；
(5)本发明所述的制备方法，操作简单，可适性好，适用于大规模生产。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的抗光幕布的剖面结构示意图；
图2为本发明实施例提供的抗光幕布的主要光路示意图；
图3为本发明实施例提供的抗光幕布的雾化层的表面微透镜结构照片；
图4为本发明实施例提供的经抗光幕布的吸光层的主要光路示意图；
图5为本发明实施例提供的抗光幕布的吸光层的微结构单元的剖面结构示意图；
图6为本发明又一实施例提供的抗光幕布的吸光层的微结构单元的剖面结构示意图；
图7为本发明实施例提供的抗光幕布的反射层及涂覆的反射材料的结构示意图。
附图标记：
1-雾化层；2-吸光层；3-基材层；
4-反射层；5-反射材料；6-支撑层；
21-微结构单元；41-反射结构。
具体实施方式
下面将结合附图和具体实施方式对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，但是本领域技术人员将会理解，下列所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
本发明提供了一种抗光幕布，包括吸光层、基材层和反射层；所述反射层远离基材层的一侧表面涂覆有反射材料；
所述吸光层包括多个微结构单元，所述多个微结构单元在所述幕布的平面内连续延伸，并且，所述微结构单元的剖面结构为三角形结构或梯形结构；
所述反射层远离基材层的一侧表面包括反射结构。
在本发明一优选实施方式中，所述抗光幕布还包括雾化层，所述雾化层、吸光层、基材层、反射层依次设置；
优选的，所述雾化层与所述吸光层一体成型。
在本发明一优选实施方式中，所述微结构单元的剖面结构为梯形结构，所述梯形结构的底边平行于所述雾化层的平面，所述梯形结构的高为10-50μm，所述梯形结构的底边长度为10-50μm。
在本发明一优选实施方式中，所述梯形结构的腰与所述雾化层的平面的夹角分别为80-90°和40-50°。
在本发明一优选实施方式中，所述微结构单元的剖面结构为三角形结构，所述三角形结构远离雾化层的顶点与雾化层的垂直高度为10-50μm，所述三角形结构与雾化层的平面的相接边的长度为10-50μm。
在本发明一优选实施方式中，所述三角形结构与所述雾化层的平面的夹角分别为80-90°和40-50°。
在本发明一优选实施方式中，相邻所述微结构单元之间的距离由上至下递增。更优选的，相邻所述微结构单元之间的距离为50-150μm。
本发明通过调整微结构单元的尺寸、角度以及间距分布等，使其具有最大程度吸收环境光的能力，具有抗光效果，同时兼顾保证幕布的亮度。所述微结构可根据实际环境光的主要入射角度、光强度等进行调节。
在本发明一优选实施方式中，所述雾化层远离吸光层的一侧表面包括多个依次排列的微透镜结构，使得所述雾化层的雾度为20-80％。
微透镜的结构无其它特殊要求，通过微透镜结构，使所述雾化层的雾度在20-80％范围内，具有使入射光扩散以及反射光聚集的效果即可。
在本发明一优选实施方式中，所述反射材料包括铝和/或银。更优选的，所述反射材料中包括光扩散粒子。更优选的，所述光扩散粒子包括二氧化锆粒子、玻璃珠粒子、珍珠粒子中的一种或多种。进一步优选的，所述光扩散粒子的粒径为3-100μm。
在本发明一优选实施方式中，所述反射材料中，光扩散粒子的添加量为1-30wt％。
在反射材料中添加光扩散粒子，能够将光线漫反射，增加幕布的均匀性，增加可视视角。
在本发明一优选实施方式中，所述反射结构包括菲涅尔结构或非对称三角结构。
在本发明一优选实施方式中，所述反射结构的结构设置为菲涅尔结构。更优选的，所述反射层为uv树脂层。进一步优选的，所述uv树脂的透过率≥85％。
按照上述要求设置反射结构，能够使得投影光经反射层反射后，基本以垂直于屏幕方向、平行或近似平行射出。本发明所采用的uv树脂，其透过率≥85％，以实现较好的光学特性，并且在紫外条件下即可固化，成型工艺简单；对uv树脂的种类不进行限定，透过率≥85％、可在紫外光照条件下固化的树脂均可实现。
在本发明一优选实施方式中，所述吸光层和雾化层为uv树脂层。进一步优选的，所述uv树脂的透过率≥85％。
本发明所采用的uv树脂，其透过率≥85％，以实现较好的光学特性，并且在紫外条件下即可固化，成型工艺简单；对uv树脂的种类不进行限定，透过率≥85％、可在紫外光照条件下固化的树脂均可实现。
在本发明一优选实施方式中，所述吸光层和所述雾化层中添加有吸光材料。更优选的，所述吸光材料包括颜料。进一步优选的，所述颜料包括油墨、树脂中的一种或多种。
在本发明一优选实施方式中，所述吸光层中吸光材料的添加量为0.1-10wt％。所述雾化层中吸光材料的添加量为0.1-10wt％。
在本发明一优选实施方式中，所述基材层包括pet基材层、pvc基材层和pp基材层中的任一种。更优选的，所述基材层的厚度为0.15-0.4mm。
在本发明一优选实施方式中，所述反射层的厚度为0.05-0.2mm。所述反射材料的涂覆厚度为0.005-0.1mm。所述雾化层的厚度为5-50μm。
所述各层的厚度根据实际需求进行调整，以最大化吸收环境光的抗光效果，并兼顾保证幕布的亮度。
在本发明一优选实施方式中，所述抗光幕布还包括支撑层，所述支撑层贴合于所述反射材料。更优选的，所述支撑层为黑色支撑层。与反射材料同步防止漏光。
本发明还提供了一种所述抗光幕布的制备方法，包括如下步骤：
(a)在基材两侧表面分别涂覆树脂，通过第一模具在一侧表面固化形成吸光层和雾化层，通过第二模具在另一侧表面固化形成反射层；
(b)在所述反射层远离基材层的一侧表面涂覆反射材料。
本发明通过模具，在基材一侧表面一体成型吸光层和雾化层，工艺简单，并且所述吸光层配合所述雾化层，在环境光入射后基本被吸收，不会继续反射等，提供抗光的效果。
在本发明一优选实施方式中，在所述雾化层表面通过激光加工、喷砂、腐蚀和/或机加工形成微透镜结构。
在本发明一优选实施方式中，所述第一模具表面包括多个微结构单元，所述多个微结构单元沿其表面连续延伸，并且，所述微结构单元的剖面结构为三角形结构或梯形结构。所述第二模具表面包括菲涅尔结构或非对称三角结构。
通过模具压印，在基材两侧形成设定的结构，操作简单，产品可适性好。
在本发明一优选实施方式中，所述固化方法包括：紫外光固化。
根据采用的不同uv树脂的光固化条件，选择适宜的紫外光固化条件即可。
图1为本发明实施例提供的抗光幕布的剖面结构示意图。所述抗光幕布，依次包括雾化层1、吸光层2、基材层3和反射层4，所述反射层4远离基材层3的一侧表面涂覆有反射材料5。在优选实施方式中，所述反射材料5另一侧贴合有支撑层6，优选为黑色支撑层，用以同步防止漏光。图2为本发明实施例提供的抗光幕布的主要光路示意图。
所述雾化层1远离所述吸光层2的一侧表面包括多个依次排列的微透镜结构。所述雾化层1的厚度优选为5-50μm。并且，通过设置所述微透镜结构，使得所述雾化层1的雾度为20-80％，使得投影光的光线经所述雾化层1进入后，雾化层1将光线进行扩散，经反射层4射出后，再进行光的聚集，增强幕布亮度，同步起防眩光的效果。请同时参阅图3，其是本发明实施例提供的抗光幕布的雾化层的表面微透镜结构照片，所述雾化层1外表面采用微透镜面，具有较好的抗刮耐污功能。
请同时参阅图4，其是本发明实施例提供的抗光幕布的吸光层的微结构单元的剖面结构示意图。所述吸光层2包括多个微结构单元21，所述多个微结构单元21在所述幕布的平面内连续延伸。并且，所述微结构单元21的剖面结构为三角形结构或梯形结构。图4中所示的，所述微结构单元21的剖面结构为三角形结构，所述三角形结构远离雾化层1的顶点与所述雾化层1的垂直高度d为10-50μm，所述三角形结构与雾化层1的平面的相接边的长度为10-50μm。所述三角形结构与所述雾化层1的平面的夹角分别为α1和α2，其中，α1为80-90°，α2为40-50°。相邻所述微结构单元21之间的距离p由上至下递增，优选p为50-150μm。经光学模拟综合权衡，按照这一的吸光层的结构设置，例如，在吸收环境光50％时，仅降低投影幕布亮度10-20％，在提高抗光性的同时，兼顾尽可能保证幕布的亮度。
如图5所示，其为本发明另一实施例提供的抗光幕布的吸光层的微结构单元的剖面结构示意图。所述微结构单元21的剖面结构为梯形结构，所述梯形结构的底边平行于所述雾化层1的平面，所述梯形结构的高d为10-50μm，所述梯形结构的底边长度l为10-50μm，上底和下底长度均优选在此范围内。所述梯形结构的腰与所述雾化层1的平面的夹角分别为α1和α2，其中，α1为80-90°，α2为40-50°。相邻所述微结构单元21之间的距离p为50-150μm，优选p由上至下递增，以在提高抗光性的同时，兼顾尽可能保证幕布的亮度。
所述吸光层2一体成型于所述雾化层1的表面。在本发明中，所述吸光层2和雾化层1为uv树脂层，所述uv树脂的透过率≥85％。对uv树脂的种类不进行限定，透过率≥85％、可在紫外光照条件下固化的树脂均可实现。
所述吸光层2和所述雾化层1中添加有吸光材料，所述吸光材料包括颜料。所述颜料包括油墨、树脂中的一种或多种。所述吸光层2中吸光材料的添加量为0.1-10wt％。所述雾化层1中吸光材料的添加量为0.1-10wt％，用以吸收环境光，提高抗光性能。
所述基材层3可选pet基材层。所述基材层的厚度为0.15-0.4mm。
所述反射层4远离基材层3的一侧表面包括反射结构41，所述反射结构41包括菲涅尔结构或非对称三角结构。所述反射层的厚度可以为0.05-0.2mm。所述反射结构的结构设置为菲涅尔结构，使投影机投射的入射光到达反射结构的倾斜反射面，经反射面反射后，基本以垂直于屏幕方向、平行或近似平行射出。在本发明中，所述反射层为uv树脂层，所述uv树脂的透过率≥85％。按照上述要求设置反射结构，能够使得投影光经反射层反射后，基本以垂直于屏幕方向、平行或近似平行射出。
请参阅图6，其是本发明实施例提供的抗光幕布的反射层及涂覆的反射材料的结构示意图。所述反射材料5包括铝和/或银。所述反射材料5中优选添加有光扩散粒子，所述光扩散粒子包括二氧化锆粒子、玻璃珠粒子、珍珠粒子中的一种或多种。所述光扩散粒子的粒径为3-100μm。所述反射材料5可以通过喷涂、印刷等工艺加工，使其均匀涂覆于所述反射层4的反射结构41上，所述反射材料的涂覆厚度为0.005-0.1mm，具有高可见光的反射。在反射材料中添加光扩散粒子，能够将光线漫反射，增加幕布的均匀性，增加可视视角。
实施例1
本实施例所述的抗光幕布的制备方法，步骤如下：
(1)在0.2mm厚的pet基材层一侧的表面涂覆有uv树脂(厂商：kdx，型号：ftd22a)，通过表面设置有菲涅尔结构的第二模具，压印uv树脂，压印厚度为0.1mm；然后通过紫外光照射直至uv树脂完全固化，脱模，在pet基材层表面形成反射层；
(2)在步骤(1)得到的基材层另一侧的表面涂覆有uv树脂(厂商：kdx，型号：ftd22a)，其中按质量百分数计，添加有5％的油墨颜料，通过第一模具，压印uv树脂；然后通过紫外光照射直至uv树脂完全固化，脱模，在pet基材层表面形成吸光层和雾化层；通过激光加工在所述雾化层表面形成微透镜结构，使所述雾化层的雾度为50％，所述雾化层的厚度为30μm；
其中，形成的吸光层包括多个微结构单元，所述多个微结构单元在所述幕布的平面内连续延伸；所述微结构单元的剖面结构为三角形结构，所述三角形结构远离雾化层1的顶点与所述雾化层1的垂直高度d为30μm，所述三角形结构与雾化层1的平面的相接边的长度l为30μm；所述三角形结构与所述雾化层1的平面的夹角分别为α1＝90°、α2＝45°；相邻所述微结构单元21之间的距离p为50-150μm，p由上至下递增，依次加0.5μm；
(3)在所述反射层远离基材层的一侧表面涂覆反射材料；所述反射材料包括铝和光扩散粒子，所述光扩散粒子为二氧化锆粒子(厂商：kdx)，所述反射材料中，光扩散粒子的添加量为10wt％，即得所述抗光幕布。
其中，所述步骤(1)、(2)和(3)的顺序可根据实际需求进行调整，不局限于此。
实施例2
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：步骤(2)中，形成的吸光层包括多个微结构单元，所述多个微结构单元在所述幕布的平面内连续延伸；所述微结构单元的剖面结构为梯形结构，所述梯形结构的底边平行于所述雾化层的平面，所述梯形结构的高d为20μm，所述梯形结构的上下底边长度l分别为10和30μm；所述三角形结构与所述雾化层1的平面的夹角分别为α1＝90°、α2＝45°；相邻所述微结构单元21之间的距离p为50-150μm，p由上至下递增，依次加0.5μm。
实施例3
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：相邻所述微结构单元21之间的距离p为50μm，p由上至下保持不变。
实施例4
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：所述微结构单元的剖面结构为三角形结构，所述三角形结构远离雾化层1的顶点与所述雾化层1的垂直高度d为20μm，所述三角形结构与雾化层1的平面的相接边的长度l为34.6μm；所述三角形结构与所述雾化层1的平面的夹角分别为α1＝90°、α2＝30°；相邻所述微结构单元21之间的距离p为50-150μm，p由上至下递增，依次加0.5μm。
实施例5
本实施例参考实施例1的制备方法，区别在于：步骤(2)中，通过第一模具在pet基材层形成吸光层；形成的所述抗光幕布依次包括吸光层、基材层和反射层，反射层远离基材层的一侧表面涂覆有反射材料。
实施例6
本实施例所述的抗光幕布的制备方法，步骤如下：
(1)在0.2mm厚的pet基材层一侧表面涂覆反射材料；所述反射材料成分与实施例1中相同；
(2)在步骤(1)涂覆的反射材料表面涂覆uv树脂(厂商：kdx，型号：ftd22a)，通过表面设置有菲涅尔结构的第二模具，压印uv树脂，压印厚度为0.1mm；然后通过紫外光照射直至uv树脂完全固化，脱模，在pet基材层表面形成反射层；
(3)在步骤(2)得到的反射层表面，涂覆有uv树脂(厂商：kdx，型号：ftd22a)，其中按质量百分数计，添加有5％的油墨颜料，通过第一模具，压印uv树脂；然后通过紫外光照射直至uv树脂完全固化，脱模，在pet基材层表面形成吸光层；吸光层的具体结构与实施例1中相同；
形成的所述抗光幕布依次包括吸光层、反射层和基材层，反射层远离基材层一面涂覆有反射材料。
实施例7
本实施例参考实施例6的制备方法，区别在于：在基材层的另一侧表面涂覆uv树脂(厂商：kdx，型号：ftd22a)，其中按质量百分数计，添加有5％的油墨颜料，通过模具压印树脂，然后通过紫外光照射直至uv树脂完全固化，脱模，通过激光加工在其表面形成微透镜结构，使其雾度为50％，形成雾化层，厚度为30μm。
形成的所述抗光幕布依次包括吸光层、反射层、基材层和雾化层，反射层远离基材层一面涂覆有反射材料。
实施例8
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：步骤(2)中，通过第一模具在在pet基材层表面仅形成吸光层，然后再通过模具形成雾化层，再通过激光加工在所述雾化层表面形成微透镜结构，使所述雾化层的雾度为50％，所述雾化层的厚度为30μm。
形成的所述抗光幕布依次包括雾化层、吸光层、基材层和反射层，反射层远离基材层的一侧涂覆有反射材料。
实施例9
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：步骤(2)中，通过激光加工在所述雾化层表面形成微透镜结构，使所述雾化层的雾度为80％。
实施例10
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：通过表面设置有非对称三角结构的第二模具，使形成的反射层表面形成包括非对称三角结构的反射结构。
实施例11
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：所述基材层的厚度为0.4mm，所述反射层的厚度为0.2mm，所述反射材料的涂覆厚度为0.1mm，所述雾化层的厚度为50μm。
实施例12
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：所述基材层的厚度为0.15mm，所述反射层的厚度为0.05mm，所述反射材料的涂覆厚度为0.005mm，所述雾化层的厚度为3μm。
实施例13
本实施例参考实施例1的制备方法，区别仅在于：所述反射材料中未添加光扩散粒子。
比较例1
比较例1参考实施例1的制备方法，区别在于：未在雾化层表面设置微透镜结构，以及未在吸光层表面设置微结构单元。
实验例1
为了对比说明本发明各实施例和比较例制备得到的幕布的性能，进行以下测试，测试结果如表1所示。
测试方法：参考jb/t13294-2017。
表1不同幕布的性能
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。