技术特征：
技术总结
本发明涉及衍射光栅制作技术领域，特别涉及一种应用刻划机制作平面双闪耀光栅的方法；本发明先将调整好的第一光栅刻刀和第二光栅刻刀分别安装在刻划机上的第一光栅刻划刀架系统和第二光栅刻划刀架系统上；将待刻划的光栅基底安装在刻划机上的工作台；调整第一光栅刻划刀架系统和第二光栅刻划刀架系统；分别调整第一光栅刻划刀架系统上用于控制第一光栅刻刀的第一抬落接近开关和第二光栅刻划刀架系统上用于控制第二光栅刻刀的第二抬落接近开关，从而调节第一光栅刻刀和第二光栅刻刀的光栅刻划区域在光栅基底上的位置、刻划区域面积以及两块刻划光栅区域之间的间隙Δx；启动刻划机，进行平面双闪耀光栅的制作。
技术研发人员：糜小涛;丛敏;张善文;于宏柱;于海利;吉日嘎兰图;李晓天;齐向东;巴音贺希格
受保护的技术使用者：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
技术研发日：2018.11.26
技术公布日：2019.02.05