显示装置、阵列基板及其工艺方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明公开一种显示装置、阵列基板以及其工艺方法，其中，该阵列基板包括：多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素，所述子像素包括主像素区和副像素区；其中，所述主像素区处的绝缘层厚度为第一厚度d1，所述副像素区处的绝缘层厚度为第二厚度d2，所述d1和d2满足：d1＞d2。本发明技术方案能简化阵列基板的结构。

技术研发人员：曹军红
受保护的技术使用者：惠科股份有限公司
技术研发日：2018.12.25
技术公布日：2019.03.22