本实用新型涉及通讯装置技术领域，特别涉及一种高精度光通信薄膜。
背景技术：
随着激光技术与光通信技术的快速发展，光学薄膜技术取得了良好发展契机，在激光与光通信领域中的应用日益广泛。现阶段，光电子工业与微电子技术正朝着微型化与集成化方向发展。光学薄膜由膜的分层分质构成，是利用界面对光束进行传播的光学介质材料。光学薄膜出现于上世纪三十年代，现在已在光电子技术、光通信技术与激光技术领域中发挥了重大作用，在各种各样的光学仪器制造中得到了广泛应用。
现有的光通信薄膜多采用Al2O3材料，因Al2O3材料本身性能缺乏稳定性，造成光通信薄膜的不稳定性，传统膜系的增透带宽在两增透波长位置存在尖锐或带窄问题造成的镀制重复性问题，传统的光通信薄膜中存在着温度变化不同，给光通信薄膜使用性能造成影响。为此，我们提出一种高精度光通信薄膜。
技术实现要素：
本实用新型的主要目的在于提供一种高精度光通信薄膜，该光通信薄膜采用在倍频增透膜的位置设置较宽阔的增透带，对于光通信薄膜的制备更为有利，解决了传统膜系的增透带宽在两增透波长位置存在尖锐或带窄问题造成的镀制重复性问题，通过设置匹配层，便于对光通信薄膜进行固定，增加了光通信薄膜使用的牢固度，采用SiO2材质的镀膜层，可提高光通信薄膜的折射率，提高了光通信薄膜的透过率，保证了光通信薄膜的使用效果，通过窄带滤光片可以改变滤光片中心波长的漂移，有助于提高滤光片的温度稳定性，可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
一种高精度光通信薄膜，包括光通信薄膜，所述光通信薄膜内部设有KTP晶体，所述KTP晶体上部连接倍频增透膜，所述倍频增透膜内部设有增透带和窄带滤光片且增透带与窄带滤光片交错连接，所述光通信薄膜表面连接镀膜层且镀膜层位于倍频增透膜上部，所述光通信薄膜背部设有基体膜，所述基体膜四周连接匹配层。
进一步地，所述镀膜层内部的材质为SiO2。
进一步地，所述匹配层采用双层结构。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
1、该一种高精度光通信薄膜，采用在倍频增透膜的位置设置较宽阔的增透带，对于光通信薄膜的制备更为有利，解决了传统膜系的增透带宽在两增透波长位置存在尖锐或带窄问题造成的镀制重复性问题。
2、该一种高精度光通信薄膜，通过设置匹配层，便于对光通信薄膜进行固定，增加了光通信薄膜使用的牢固度。
3、该一种高精度光通信薄膜，采用SiO2材质的镀膜层，可提高光通信薄膜的折射率，提高了光通信薄膜的透过率，保证了光通信薄膜的使用效果。
4、该一种高精度光通信薄膜，通过窄带滤光片可以改变滤光片中心波长的漂移，有助于提高滤光片的温度稳定性。保证该一种高精度光通信薄膜使用效果和使用效益，适合广泛推广。
附图说明
图1为本实用新型一种高精度光通信薄膜的剖面结构示意图。
图2为本实用新型一种高精度光通信薄膜的背部结构示意图。
图中：1、光通信薄膜；2、KTP晶体；3、倍频增透膜；4、增透带；5、窄带滤光片；6、镀膜层；7、基体膜；8、匹配层。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
如图1-2所示，一种高精度光通信薄膜，包括光通信薄膜1，所述光通信薄膜1内部设有KTP晶体2，所述KTP晶体2上部连接倍频增透膜3，所述倍频增透膜3内部设有增透带4和窄带滤光片5且增透带4与窄带滤光片5交错连接，所述光通信薄膜1表面连接镀膜层6且镀膜层6位于倍频增透膜3上部，所述光通信薄膜1背部设有基体膜7，所述基体膜7四周连接匹配层8。
其中，所述镀膜层6内部的材质为SiO2。
其中，所述匹配层8采用双层结构。
需要说明的是，本实用新型为一种高精度光通信薄膜，工作时，在KTP晶体2上要设置倍频增透膜3，保证激光器使用功能的正常发挥，在倍频增透膜3的位置设置较宽阔的增透带4，对于光通信薄膜1的制备更为有利，这对传统膜系的增透带4宽在两增透波长位置存在尖锐或带窄问题造成的镀制重复性问题，在基本膜7堆两侧添设了相应匹配层8，可对光通信薄膜1起到优化，SiO2材质的镀膜层6可提高高光通信薄膜1的折射率。
保证该一种高精度光通信薄膜的使用效益。
磷酸钛氧钾(KTP)晶体是一种具有优良的非线性光学性质的非线性光学晶体。KTP晶体是正光性双晶，其透光波段为
350nm～4.5um，可以实现1.064um钕离子激光及其他波段激光倍频、和频、光参量振荡的位相匹配(一般采用Ⅱ类位相匹配)。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。