显示面板及显示终端的制作方法

本实用新型涉及显示面板技术领域，特别是涉及一种显示面板及显示终端。

背景技术：

显示面板一般由上下两个基板即array基板(阵列基板)和CF板(Color Filter，色滤光基板)对盒形成，对盒后上下基板的四周用边框胶进行贴合防止液晶溢出和水汽侵入，并维持液晶盒周边盒厚。传统的显示面板的周边盒厚的均匀性较差，从而影响面板的显示效果。

技术实现要素：

基于此，有必要针对传统的显示面板的周边厚度的均匀性较差，从而影响面板的显示效果的问题，提供一种显示面板及显示终端。

一种显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；所述显示面板包括：

第一基板；

第二基板，与所述第一基板相对间隔设置；

框胶，设置于所述第一基板和所述第二基板之间且位于所述非显示区；以及

多功能层，设置于所述第一基板上且位于所述非显示区；所述多功能层包括支撑部；所述支撑部内嵌于所述框胶中且与所述第二基板面接触，所述多功能层为阻光层。

上述显示面板，在第一基板上形成有多功能层。该多功能层位于非显示区。该多功能层包括支撑部，支撑部内嵌于框胶中且与第二基板面接触，从而在实现第一基板与第二基板的电连接的同时，起到较好的支撑作用，并且在第二基板和第一基板贴合时可以更加精确的控制显示面板的厚度，确保显示面板周边厚度的均匀性，不会影响面板的显示效果。并且多功能层为阻光层，从而无需再为非显示区设置遮光层，有利于实现显示面板的轻薄化。

在其中一个实施例中，所述多功能层包括支撑层和导电层；所述支撑层形成于所述第一基板上；所述支撑层包括所述支撑部；所述支撑层开设有第一过孔；所述第一过孔位于所述第一基板的公共电极上方；

所述导电层形成于所述支撑层上；所述导电层中位于所述支撑部上的区域与所述第二基板电连接；所述导电层还通过所述第一过孔与所述第一基板电连接。

在其中一个实施例中，所述第一基板包括：

衬底；

薄膜晶体管层，形成在所述衬底上，包括公共电极；

第一钝化层，形成在所述薄膜晶体管层上且远离所述衬底；以及

像素电极，形成于所述第一钝化层上且位于所述显示区；

其中，所述导电层通过所述第一过孔与所述第一基板的公共电极连接；所述像素电极和所述公共电极的厚度相同。

在其中一个实施例中，所述第一基板还包括形成于所述薄膜晶体管层的栅极上的支撑物；所述支撑部和所述支撑物具有相同的结构且在同一道工序中制备得到；所述支撑物和所述支撑层均由遮光材料形成。

在其中一个实施例中，所述支撑部为多个；多个所述支撑部相互间隔排布在所述非显示区；各支撑部上靠近所述第二基板的一端均位于第一平面；所述第一平面平行于所述第二基板的表面。

在其中一个实施例中，所述支撑部与所述第二基板接触的总面积为所述非显示区面积的1％～5％。

在其中一个实施例中，所述支撑部包括第一支撑部和第二支撑部；所述第一支撑部形成于第一区域；所述第一区域位于所述第一基板的公共电极上方；所述第二支撑部位于第一基板的第二区域。

一种显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；所述显示面板包括：

第一基板；

第二基板，与所述第一基板相对间隔设置；

液晶层，设置于所述第一基板和所述第二基板之间；

框胶，设置于所述第一基板和所述第二基板之间且位于所述非显示区；所述框胶包围所述液晶层；以及

多功能层，设置于所述第一基板上且位于所述非显示区；所述多功能层包括支撑部；所述支撑部内嵌于所述框胶中且与所述第二基板面接触，以实现所述第一基板和所述第二基板的电连接；

所述多功能层包括支撑层和导电层；所述支撑层形成于所述第一基板上；所述支撑层包括所述支撑部；所述支撑层开设有第一过孔；所述第一过孔位于所述第一基板的公共电极上方；所述导电层形成于所述支撑层上；所述导电层中位于所述支撑部上的区域与所述第二基板电连接；所述导电层还通过所述第一过孔与所述第一基板电连接；

所述支撑层为遮光层；所述支撑部与所述第二基板接触的总面积为所述非显示区面积的1％～5％。

在其中一个实施例中，所述第一基板包括：

衬底；

薄膜晶体管层，形成在所述衬底上，包括公共电极；

第一钝化层，形成在所述薄膜晶体管层上且远离所述衬底；以及

像素电极，形成于所述第一钝化层上且位于所述显示区；

其中，所述导电层通过所述第一过孔与所述第一基板的公共电极连接；所述像素电极和所述公共电极的厚度相同；

所述第一基板还包括形成于所述薄膜晶体管层的栅极上的支撑物；所述支撑部和所述支撑物具有相同的结构且在同一道工序中制备得到；所述支撑物和所述支撑层均由遮光材料形成。一种显示终端，其特征在于，包括如前述任一实施例所述的显示面板。

附图说明

图1为传统的显示面板的结构示意图；

图2为一实施例中的显示面板的俯视图；

图3为图2所示实施例的显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”以及“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，需要说明的是，当元件被称为“形成在另一元件上”时，它可以直接连接到另一元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以直接连接到另一元件或者同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。

液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。例如，显示面板越来越多的应用在如移动电话、个人数字助理(PAD)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等显示终端上。传统的显示面板一般由上下两个基板即第一基板(Array)110与第二基板(CF基板)120对盒形成，如图1所示。对盒后上下基板的四周用边框胶130进行贴合防止液晶溢出和水汽侵入，并维持液晶盒周边盒厚。为了使贴合后的上下基板形成的显示面板盒厚均匀，并使上下基板的公共电极电性导通，一般在外围封框胶130的区域掺入一定比例的硅球140和金球150。硅球140在面板周边结构中起支撑周边盒厚的作用，金球150用于导通上下基板。经实用新型人发现，由于球形的硅球140和金球150是独立于TFT第一基板110和第二基板120，并掺杂在用于粘合第一基板110和第二基板120的框胶内，与上下的两个基板的接触面积很小，极不稳定，很难控制周边盒厚，导致显示面板的周边厚度不均匀，从而影响面板显示效果。

为解决上述问题，本实用新型一实施例提供了一种显示面板。显示面板可以为LCD显示面板(Liquid Crystal Display，液晶显示面板)、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板、QLED(Quantum Dot light Emitting Diode，量子点发光二极管)显示面板等。同时，显示面板10可以为平面显示面板或曲面显示面板。可以理解，显示面板10的类型包括但并不限于上述示例。当显示面板10为LCD显示面板时，可以为VA(Vertical Alignment liquid crystal，垂直排列液晶型)、TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)或者IPS(In-Plane Switching，平面转换型)等LCD显示面板。在本实施例中，以液晶显示面板为例进行说明。

一种显示面板包括显示区20和非显示区22，如图2所示。非显示区22围绕显示区20。非显示区22不进行显示而作为边框区域以放置电路以及如摄像头、LOGO等元器件。非显示区22可以围绕在显示区20的四周，也可以仅仅设置在显示区20的一侧，或者三侧，以实现人们对全屏显示的需求。

图3为图2所示的显示面板的结构示意图。参见图3，该显示面板包括第一基板210、第二基板220、液晶层230、框胶240以及多功能层250。在本实施例中，第二基板220与第一基板210相对间隔设置，通常也可以称之为上下基板，也即第一基板210为下基板，而第二基板220为上基板。液晶层230设置在第一基板210和第二基板220之间。框胶240设置在第一基板210和第二基板220之间，并位于非显示区22。框胶240包围液晶层230。框胶240用于实现第一基板210和第二基板220之间的贴合，并防止液晶层230中的液晶溢出和水汽侵入，并维持显示面板周边厚度。多功能层250设置在第一基板210上且位于非显示区22。多功能层250包括支撑部252。支撑部252内嵌于框胶240中，且与第二基板220面接触，最终实现第一基板210和第二基板220之间的电连接。可以理解，本案中第一基板210和第二基板220之间的电连接，是指第一基板210的公共电极212与第二基板220的公共电极226连接。多功能层250为阻光层，也即其至少包含一层遮光材料。

上述显示面板，在第一基板210上形成有多功能层250。该多功能层250位于非显示区22。该多功能层250包括支撑部252。支撑部252内嵌于框胶240中且与第二基板220面接触，实现第一基板210与第二基板220的电连接。由于支撑部252和多功能层250为一体结构，而多功能层250直接形成在第一基板210上，也即支撑部252并非如传统的金球一样相对于第一基板210和第二基板220是独立的，故其稳定性会受到第一基板210以及第二基板220的影响，稳定性较好。并且，多功能层250形成于第一基板210上，支撑部252与第一基板220为面接触，具有较大的接触面积，稳定性较好，容易实现第一基板210和第二基板220的对盒，且容易对显示面板的周边厚度进行控制，不会带来显示面板的周边厚度不均匀的问题，从而不会影响面板显示效果。并且多功能层250为阻光层，从而无需再为非显示区设置遮光层，有利于实现显示面板的轻薄化。

在一实施例中，第一基板210包括基板202、薄膜晶体管层、第一钝化层204以及像素电极218。第一钝化层204形成在薄膜晶体管层上。第一钝化层204作为保护层，用于对薄膜晶体管层进行保护，以将薄膜晶体管层中的金属表面转化为不易被氧化的状态,而延缓金属的腐蚀速度。

薄膜晶体管层包括栅极206、栅极绝缘层208、半导体层(图中未示)、源漏极(图中未示)以及公共电极212。其中，栅极206形成在基板202上。公共电极212同样形成在基板202上。栅极206和公共电极212可以在同一制备工序中制备得到，也即栅极206和公共电极212的材质相同，均为导电材料，如金属等。栅极绝缘层208形成在基板202上且覆盖栅极206和公共电极212的部分区域，并裸露公共电极212的部分区域，以方便公共电极212与其他元器件电连接。半导体层形成在栅极绝缘层208上远离栅极层206的一侧。源漏极形成在栅极绝缘层208上，并分别与半导体层的两端连接。在一实施例中，薄膜晶体管层中还包括数条数据线(图中未示)。数据线为导电走线中的一种，其与源漏极形成在同一水平面上。数据线与源极连接，以将外部的数据信号输出至对应的薄膜晶体管的源极。可以理解，薄膜晶体管层210上还设置有扫描线和功率线。扫描线则与薄膜晶体管层的栅极206连接。数据线与源极漏极连接，故扫描线是与栅极同一工艺制作，在同一水平面上；数据线与源极漏极在同一工艺制作，在同一水平面上。扫描线和数据线相交形成阵列排布的像素区域。

在一实施例中，基板202可以采用玻璃或者塑料等本领域习知的材料。栅极206的材料可以为铝、铜等金属导电材料中的一种或者多种。在其他的实施例中，栅极206也可以采用其他导电材料。栅极绝缘层208的材料可以为氮化硅或者氧化硅。栅极绝缘层208的材料也可以为氧化硅和氮化硅的组合。可以理解，栅极绝缘层208还可以采用其他本领域技术人员习知的材料。在一实施例中，半导体层包括非晶硅层和N+型掺杂非晶硅层(图中未示)。非晶硅层和N+型掺杂非晶硅层依次层叠设置于栅极绝缘层208上。非晶硅(amorphous silicon，a-Si)又称无定形硅，是单质硅的一种形态。非晶硅不具有完整的金刚石晶胞，纯度不高，但是其熔点、密度和硬度明显低于晶体硅。非晶硅层(a-Si层)作为有源层，其可以采用等离子增强气相化学沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)连续沉积形成。N+型掺杂非晶硅层形成在非晶硅层上方。在本实施例中，采用等离子增强气相化学沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)连续沉积形成N+型掺杂非晶硅层。源漏极通过同一金属层制备而成。源漏极可以采用铝、铜、钼等导电材料制备而成。第一钝化层204作为保护层，用于对薄膜晶体管层进行保护，以将薄膜晶体管层中的金属表面转化为不易被氧化的状态,而延缓金属的腐蚀速度。第一钝化层204可以采用PV绝缘材料。

像素电极218形成在第一钝化层204上。薄膜晶体管层110可以采用本领域常用的薄膜晶体管层结构来，且本领域技术人员均知晓像素电极218与薄膜晶体管层110中的漏极连接。

在一实施例中，多功能层250包括支撑层250a和导电层250b。支撑层250a形成在第一基板210中的第一钝化层204的上方，且位于非显示区22。支撑层250a包括支撑部252。支撑层250a上形成有第一过孔254。第一过孔254位于第一基板210的公共电极212上方。导电层250b形成在支撑层250a上。导电层250b通过第一过孔254与第一基板210中的公共电极212电连接。导电层250a中位于支撑部252上的区域与第二基板220连接，从而实现第一基板210与第二基板220之间的电连接。其中，第一过孔254的大小一般根据所需要挖孔的层的厚度来定义，一般为5微米～30微米。

在一实施例中，多功能层250中的支撑部252为多个。多个支撑部252包括第一支撑部252a和第二支撑部252b。其中，第一支撑部252a形成于第一区域。第一区域位于第一基板210的公共电极212上方。第二支撑部252b则形成在第二区域。第二区域可以为非显示区中或者框胶240所覆盖的区域中除了第一区域以外的区域。此时，第一过孔254形成在第一支撑部252a的两侧。导电层250b通过该第一过孔254与第一基板210的公共电极212电连接，并在第一支撑部252a和第二支撑部251b上靠近第二基板220的端面与第二基板220连接。在一实施例中，各支撑部252上靠近第二基板220的端面均位于第一平面。该第一平面平行于第二基板220的表面，从而确保支撑部252与第二基板220之间为面接触而不是传统的点接触，可以起到较好的支撑作用。在一实施例中，各支撑部252与第二基板220接触的总面积为非显示区22的面积的1％～5％，此时整个多功能层250具有较好的支撑作用。

在一实施例中，支撑层250a覆盖整个非显示区22，且支撑层250a为遮光层。支撑层250a可以为黑矩阵等由黑色有机胶形成的膜层。在一实施例中，第一基板210还包括形成在薄膜晶体管层的栅极上的支撑物(图中未示)。支撑物和支撑部252具有相同的结构，也即其大小、形状均相同。支撑物和支撑部252可以在同一道工序中制备得到，从而可以节省一道工序，有利于降低产品制备难度。支撑物提供支撑作用，但是并不和支撑部252一样能够提供电连接作用。在一实施例中，支撑物和支撑层250a的材料均为遮光材料，如黑矩阵，从而形成第一基板210的遮光层。此时，第二基板220上不设置遮光层(BM层)。参见图3，第二基板220包括第二基板222、形成在第二基板222上的彩色滤光层224以及形成在彩色滤光层224和第二基板222上的公共电极226。在本实施例中，彩色滤光层224可以为色阻块。色阻块的种类可以根据像素设计确定。例如，当采用包含红色子像素(R子像素)、蓝色子像素(B子像素)和绿色子像素(G子像素)的像素结构时，色阻块包括红色色阻块、蓝色色阻块以及绿色色阻块。当采用其他的像素结构时，色阻块的种类会随之变化，而并不限于某一特定的组成。多功能层250在实现支撑以及导电连接作用的同时还作为遮光层，从而在进行第一基板210与第二基板220的对盒时，可以更加精确的控制周边厚度。在其他的实施例中，多功能层250可以不具备遮光作用，此时，第二基板220上还需要形成有覆盖非显示区的遮光层(BM)，如图1所示。

在一实施例中，多功能层250中的导电层250b、第一基板210的像素电极212以及第二基板220的公共电极226均有相同的导电材料制备，如ITO(氧化铟锡)等。在一实施例中，导电层250b与第一基板210中的像素电极212在同一工艺步骤中制备得到。也即此时，第一基板210在形成第一钝化层204后，进行支撑层250a的制备，然后在制备得到250a后在整个第一基板210的表面沉积一层厚度均匀的导电材料如ITO，然后通过刻蚀等分别形成像素电极212和多功能层250的导电层250b。导电层250b实现第二基板220的公共电极226和第一基板210的公共电极218之间的电连接。

在一实施例中，支撑部252的结构可以根据需要进行设置，只要能够实现支撑作用且与第二基板220为面接触即可。具体地，支撑部252的横截面的形状可以为圆形、椭圆形、矩形或者其他形状。本申请中，横截面均指平行于第二基板220的表面的平面。进一步地，支撑部252的横截面为对称图形，且支撑部规则排布在非显示区22中，以更好地控制周边厚度的均匀性。支撑部252的形状能够满足支撑作用以及确保导电层250b与第一基板210和第二基板220之间的电连接即可。在一实施例中，将支撑部252的纵截面中与第二基板220接触的边称为上底，而与第一基板210接触的边称为下底。上底的宽度可以为10微米～20微米，而下底的宽度可以为20微米～30微米。上底和下底的宽度并不需要严格限定，而是可以根据实际产品尺寸来进行调节。在一实施例中，当支撑层250a同时作为遮光层时，未形成有支撑部252的区域的厚度与传统的遮光层的厚度相同，为1微米～1.5微米。进一步地，支撑部252可以为实心结构，从而具有较好的支撑作用。

本实用新型一实施例还提供一种显示终端，该显示终端包括如前述任一实施例中所述的显示面板。显示终端可以如移动电话、个人数字助理(PAD)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。