技术总结
本实用新型提供一种紫外线曝光机用氮气幕，包括氮气幕壳体、底座、气道、出气孔、连接块和围挡边，氮气幕壳体呈圆弧形并固定安装在底座上，氮气幕壳体内设置有出气孔，氮气幕壳体内部设置有连接气源与出气孔的气道，氮气幕壳体外径圈上设置有连接块，氮气幕壳体靠近凸起一侧的外圆周上设置有围挡边，氮气幕壳体表面涂布有特氟龙，材质采用陶瓷。本实用新型通过氮气幕的机构完善了氮气对产品的保护，有效的防止了因为紫外线照射使空气中的氧气和水蒸气发生反应，造成紫外线的减弱从而导致的胶膜粘性过高产生的品质隐患。
技术研发人员：朱文龙
受保护的技术使用者：海太半导体（无锡）有限公司
技术研发日：2018.11.16
技术公布日：2019.07.16