透镜移动设备及包括其的相机模块和光学装置的制作方法

实施例涉及一种透镜移动设备，并且涉及分别包括该透镜移动设备的相机模块和光学装置。

背景技术：

难以将在现有的一般的相机模块中使用的音圈电机(vcm)的技术应用于超小型、低电力相机模块，因此与之相关的研究已积极地进行。

对配备有相机的诸如智能电话和移动电话的电子产品的需求和生产越来越多。用于移动电话的相机正趋向于分辨率提高和小型化。结果，致动器也已经小型化、直径增大并且被多功能化。为了实现用于移动电话的高分辨率相机，需要提高用于移动电话的相机的性能及其附加功能，例如，自动聚焦、手抖校正和变焦。

技术实现要素：

技术问题

实施例提供一种透镜移动设备、及分别包括该透镜移动设备的相机模块和光学装置，该透镜移动设备能够提高af动作的速度，能够抑制线筒在af动作期间的移动，并且能够增大磁体和线圈的可能的尺寸范围。

此外，实施例提供一种新型透镜移动设备、及分别包括该透镜移动设备的相机模块和光学装置，该透镜移动设备被配置为通过辊而不是板簧沿光轴方向引导线筒。

技术方案

根据第一实施例的透镜移动设备包括：基座，所述基座包括主体以及设置在主体的角部处的第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱；线筒，所述线筒设置在主体上；第一辊单元，所述第一辊单元设置于在第一支柱中形成的第一凹槽中；第二辊单元，所述第二辊单元设置于在与第一支柱相邻的第二支柱中形成的第二凹槽中；磁体，所述磁体设置在线筒处；以及线圈，所述线圈设置在第一支柱与第二支柱之间并且与磁体相对应，其中，第一辊单元与第一凹槽的至少两个区域接触，第二辊单元与第二凹槽的至少两个区域接触，其中，第一凹槽包括第一开口，第一辊单元的一部分通过第一开口暴露，第二凹槽包括第二开口，第二辊单元的一部分通过第二开口暴露，其中，线筒包括：第一支撑件，所述第一支撑件设置在第一开口中以与第一辊接触；以及第二支撑件，所述第二支撑件设置在第二开口中以与第二辊接触。

第一支撑件可以从线筒的外表面突出，第二支撑件可以从线筒的外表面突出。第一辊单元可以与第一凹槽的四个区域接触，并且第二辊单元可以与第二凹槽的四个区域接触。

根据第一实施例的透镜移动设备可以进一步包括电路板，所述电路板固定到基座，并且线圈耦接到所述电路板，并且电路板固定到第一支柱和第二支柱。

电路板可以包括与线圈导电地连接的端子，所述端子包括第一端子和第二端子并且设置在主体处。

根据第一实施例的透镜移动设备可以进一步包括磁性体，所述磁性体在线圈的下方设置在基座处以与磁体协作而产生吸引力。磁性体可以设置在基座的外表面上。磁性体可以包括：板，所述板设置在基座的主体的外表面上；第一延伸部，所述第一延伸部设置在第一支柱的外表面上并且从板向上延伸；以及第二延伸部，所述第二延伸部设置在第二支柱的外表面上并且从板向上延伸。

第一辊单元和第二辊单元中的每一个可以包括多个辊，所述多个辊中的每一个具有柱形形状。第一辊单元和第二辊单元中的每一个可以设置成绕垂直于光轴的轴可旋转。

多个辊中的每一者的直径与纵向长度之比可以为1:1.5至1:5。线筒可以包括设置在其侧表面处的第一突起至第四突起，并且磁体可以设置于在第一突起中形成的安装凹部中，第一突起设置在第一支柱与第二支柱之间，第二突起设置在第二支柱与第三支柱之间，第三突起设置在第三支柱与第四支柱之间，第四突起设置在第四支柱与第一支柱之间。

第一辊单元可以设置为相对于第一基准线以第一角度倾斜，第二辊单元可以设置为相对于第一基准线以第二角度倾斜。第一基准线可以是与从第一支柱朝向第二支柱的方向平行的假想线，并且第一角度可以与第二角度不同。

辊的中心轴与第一基准线之间的角度可以为30°至60°，中心轴可以是延伸穿过辊的直径中心并且与辊的纵向方向平行的轴，并且辊可以绕中心轴可旋转。

透镜移动设备可以进一步包括设置在第一凹槽和第二凹槽中的润滑剂，并且润滑剂可以与第一凹槽和第一辊单元接触，并且可以与第二凹槽和第二辊单元接触。

根据第二实施例的透镜移动设备包括：基座，所述基座包括主体、第一支柱以及与第一支柱相邻的第二支柱，第一支柱和第二支柱分别设置在主体的角部处；线筒，所述线筒设置在主体上；第一辊单元，所述第一辊单元设置于在第一支柱中形成的第一凹槽中；第二辊单元，所述第二辊单元设置于在第二支柱中形成的第二凹槽中；磁体，所述磁体设置在线筒处；基板，所述基板固定到基座；线圈，所述线圈耦接到基板并且面对磁体；以及磁性体，所述磁性体在基座处设置在线圈下方以与磁体协作产生吸引力，其中，第一辊单元与第一支柱和线筒接触，第二辊单元与第二支柱和线筒接触。

根据第三实施例的透镜移动设备包括：基座，所述基座包括主体以及设置在主体的角部处的第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱；线筒，所述线筒设置在主体上；磁体，所述磁体设置在线筒的第一侧表面上；第一辊单元，所述第一辊单元设置于在线筒的第二侧表面中形成的第一凹槽中；第二辊单元，所述第二辊单元设置于在线筒的第三侧表面中形成的第二凹槽中；以及线圈，所述线圈设置在第一支柱与第二支柱之间并且与磁体相对应，其中，线筒的第一侧表面设置在第二侧表面与第三侧表面之间，其中，第一辊单元与第一凹槽的至少两个区域接触，第二辊单元与第二凹槽的至少两个区域接触，其中，第一凹槽包括第一开口，第一辊单元的一部分经由第一开口暴露，第二凹槽包括第二开口，第二辊单元的一部分经由第二开口暴露，其中，基座包括：第一支撑件，所述第一支撑件设置在第一开口中以与第一辊单元接触；以及第二支撑件，所述第二支撑件设置在第二开口中以与第二辊单元接触。

第一支撑件可以从第一支柱的内表面突出，第二支撑件可以从第二支柱的内表面突出。

第一辊单元可以与第一凹槽的四个区域接触，第二辊单元可以与第二凹槽的四个区域接触。

根据第三实施例的透镜移动设备可以进一步包括电路板，所述电路板固定到基座并且线圈耦接到所述电路板，电路板可以固定到第一支柱和第二支柱。

电路板可以包括与线圈导电连接的端子，并且端子可以包括第一端子和第二端子并且可以设置在基座的主体处。

根据第三实施例的透镜移动设备可以进一步包括磁性体，所述磁性体在基座处设置在线圈的下方以与磁体协作产生吸引力。磁性体可以设置在基座的外表面上。磁性体可以包括：板，所述板设置在主体的外表面上；第一延伸部，所述第一延伸部设置在第一支柱的外表面上并且从板向上延伸；以及第二延伸部，所述第二延伸部设置在第二支柱的外表面上并且从板向上延伸。

第一辊单元和第二辊单元中的每一个可以包括多个辊，并且每个辊可以具有柱形状并且可以设置为绕垂直于光轴的轴可旋转。第一辊单元可以设置为相对于第一基准线以第一角度倾斜，第二辊单元可以设置为相对于第一基准线以第二角度倾斜。第一基准线可以是与从第一支柱朝向第二支柱的方向平行的假想线，第一角度和第二角度可以彼此不同。

根据第三实施例的透镜移动设备可以进一步包括辊盖，所述辊盖设置在线筒的上部、上端或上表面处，以防止第一辊单元和第二辊单元与第一凹槽和第二凹槽分离。

根据第四实施例的透镜移动设备包括：壳体，所述壳体包括基座以及第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱，第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱分别设置在基座的四个拐角处并且从基座向上突出；线筒，所述线筒设置在壳体中；线圈，所述线圈设置在壳体处使得其至少一部分经由第一支柱与第二支柱之间的空间暴露于壳体内部；磁体，所述磁体设置在线筒处以面对经由第一支柱与第二支柱之间的空间暴露的线圈；以及辊，所述辊设置在壳体处并且位于第三支柱与第四支柱之间以与线筒接触，其中，线圈和辊在线筒设置在它们之间的状态下彼此面对，并且辊设置为绕从第三支柱朝向第四支柱延伸的轴旋转。

根据第四实施例的透镜移动设备可以进一步包括端子，所述端子位于壳体与线圈之间并且与线圈导电连接，端子包括磁性材料使得吸引力作用于端子与磁体之间。

磁体可以包括：第一磁体，所述第一磁体设置在线筒处并且面对线圈；第二磁体，所述第二磁体设置在线筒处并且面对辊；以及第三磁体，所述第三磁体设置在壳体处并且位于第三支柱与第四支柱之间，其中，吸引力作用于第二磁体与第三磁体之间。

辊可以设置在第二磁体与第三磁体之间。

线圈可以包括：第一线圈部，所述第一线圈部从第一支柱朝向第二支柱延伸；第二线圈部，所述第二线圈部位于第一线圈的下方并且从第二支柱朝向第一支柱延伸；第三线圈部，所述第三线圈部将第一线圈部的一端连接到第二线圈部的一端；以及第四线圈部，所述第四线圈部将第一线圈部的另一端连接到第二线圈部的另一端，其中，磁体可以包括面对第一线圈部的第一磁体部以及面对第二线圈部的第二磁体部，其中，第一磁体部和第二磁体部的极性的取向可以彼此不同。

壳体可以包括：第一连接器，所述第一连接器将第一支柱连接到第二支柱；第二连接器，所述第二连接器将第一支柱连接到第二支柱并且位于第一连接器的下方；第一侧壁，所述第一侧壁将第二支柱连接到第三支柱；第二侧壁，所述第二侧壁将第三支柱连接到第四支柱；以及第三侧壁，所述第三侧壁将第四支柱连接到第一支柱，线圈可以位于第一连接器与第二连接器之间，辊可以位于第二侧壁的内部。

壳体可以进一步包括第一触点和第二触点，所述第一触点和所述第二触点从第二侧壁朝向辊突出以与辊接触。

壳体可以进一步包括：第一屏蔽壁，所述第一屏蔽壁位于第二侧壁的内部并且从第三支柱朝向第四支柱突出；以及第二屏蔽壁，所述第二屏蔽壁位于第二侧壁的内部并且从第四支柱朝向第三支柱突出，并且辊的一端可以位于第一触点与第一屏蔽壁之间以与第一屏蔽壁的一个表面接触，辊的另一端可以位于第二触点与第二屏蔽壁之间以与第二屏蔽壁的一个表面接触。

线筒可以包括第三触点和第四触点，所述第三触点和所述第四触点从面对第二侧壁的表面朝向辊突出以与辊接触。

根据第五实施例的透镜移动设备包括：壳体，所述壳体包括基座以及第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱，第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱分别设置在基座的四个拐角处并且从基座向上突出；位于壳体内部的透镜模块；设置在线筒内部的透镜模块；基板，基板设置在基座的下方；图像传感器，所述图像传感器设置在基板处并且其位置设置成面对透镜模块；线圈，线圈设置在壳体处，使得其至少一部分经由第一支柱与第二支柱之间的空间暴露于壳体的内部；磁体，所述磁体设置在线筒处以面对经由第一支柱与第二支柱之间的空间暴露的线圈；以及辊，所述辊在第三支柱和第四支柱之间设置在壳体处以与线筒接触，其中，线圈和辊在线筒设置在它们之间的状态下彼此面对，并且辊包括曲面并且设置为绕从第三支柱朝向第四支柱延伸的轴旋转。

根据实施例的光学装置包括：主体；显示单元，所述显示单元位于主体的一侧；壳体，所述壳体设置在主体的内部并且包括基座以及第一支柱至第四支柱，第一支柱至第四支柱分别设置在基座的四个拐角处并且从基座向上突出；线筒，所述线筒位于壳体的内部；透镜模块，所述透镜模块设置在线筒的内部；基板，所述基板设置在基座的下方并且与显示单元导电连接；图像传感器，所述图像传感器设置在基板处并且其位置设置成面对透镜模块；线圈，所述线圈设置在壳体处使得其至少一部分经由第一支柱与第二支柱之间的空间暴露于壳体的内部；磁体，所述磁体设置在线筒处以面对线圈；以及辊，所述辊设置在壳体处并且位于第三支柱与第四支柱之间以与线筒接触，其中，线圈和辊在线筒设置在线圈与辊之间的状态下彼此面对，并且辊包括曲面并且设置为绕从第三支柱朝向第四支柱延伸的轴旋转。

有益效果

实施例能够提高af动作的速度，能够抑制线筒在af动作期间的移动，并且能够增大磁体和线圈的可能的尺寸的范围。

附图说明

图1是根据实施例的透镜移动设备的分解立体图；

图2是图1所示的线筒和磁体的立体图；

图3a是图1所示的基座的第一立体图；

图3b是图1所示的基座的第二立体图；

图4是图1所示的基座、第一辊单元、第二辊单元、磁性体、线圈和电路板的分解立体图；

图5是在第一支柱中形成的第一凹槽的放大图；

图6是图4所示的辊的放大图；

图7是透镜移动设备的俯视图，从该透镜移动设备至去除了盖构件；

图8是图7所示的透镜移动设备的沿线a-b截取的剖视图；

图9是图7所示的透镜移动设备的沿线c-d截取的剖视图；

图10是图7的局部放大图；

图11示出了图7的沿线c-d截取的横截面的一部分；

图12示出了附加地设置在透镜移动设备中的位置传感器；

图13是包括图12所示的位置传感器的实施例的剖视图；

图14a是根据另一个实施例的基座的局部立体图；

图14b是根据又一实施例的基座的局部立体图；

图14c是根据又一实施例的基座的局部立体图；

图15是根据另一实施例的线筒的立体图；

图16是根据另一实施例的基座的立体图；

图17是图15所示的线筒和图16所示的基座的组装立体图；

图18是图15所示的线筒、图16所示的基座、以及第一辊单元、第二辊单元、第一线圈和电路板的立体图；

图19是根据另一实施例的透镜移动设备的分解立体图；

图20是图19中所示的线筒和磁体的立体图；

图21是图20所示的线筒中的第一凹槽和第二凹槽、以及第一辊单元和第二辊单元的立体图；

图22是图19所示的基座的第一立体图；

图23是图19所示的基座的第二立体图；

图24是透镜移动设备的俯视图，从该透镜移动设备中去除了盖构件；

图25是图24所示的透镜移动设备的沿线a-b截取的剖视图；

图26是图24所示的透镜移动设备的沿线c-d截取的剖视图；

图27是图24的局部放大图；

图28示出了附加地设置在透镜移动设备中的位置传感器；

图29是包括图28所示的位置传感器的实施例的剖视图；

图30a至图30c是线筒的其他实施例的局部立体图；

图31是根据又一实施例的透镜移动设备的立体图；

图32是图31所示的透镜移动设备的分解立体图；

图33是图31所示的透镜移动设备的沿线a-a’截取的剖视图；

图34是图31所示的透镜移动设备的沿线b-b’截取的剖视图；

图35是图32所示的壳体、线圈、辊、屏蔽构件和基座的立体图；

图36是图32所示的壳体、线圈、辊、屏蔽构件和端子的立体图；

图37是图32所示的线筒的立体图；

图38是图32所示的线筒、第一磁体和第二磁体的立体图；

图39是图32所示的透镜移动设备的俯视图，其中辊与壳体的基座接触；

图40是根据又一实施例的透镜移动设备的立体图，从该透镜移动设备中移除了盖；

图41是基于图33的视图的实施例的相机模块的剖视图；

图42是示出根据另一实施例的相机模块的分解立体图；

图43是根据实施例的便携终端的立体图；并且

图44是示出图43所示的便携终端的结构的视图。

具体实施方式

在下文中，将参考附图描述能够具体实现上述目的的本发明的实施例。

在实施例的以下描述中，将理解，当元件被称为形成在另一元件“之上”或“之下”时，其可以直接在另一元件“之上”或“之下”，或者可以间接设置在另一元件“之上”或“之下”，且该元件和该另一元件之间具有一个或多个中间元件。另外，还将理解的是，在元件“之上”或“之下”可以指基于元件的向上方向或向下方向。

另外，在以下描述中使用的相对术语，例如“第一”、“第二”、“上/之上/上方”和“下方/下/之下”，可以用于将任何一种物质或元件与另一种物质或元件区分开，而无需或暗示这些物质或元件之间的任何物理或逻辑关系或顺序。在所有附图中，相同的附图标记表示相同的元件。

除非另有定义，否则在以上描述中使用的术语“包括”、“包含”或“具有”用于指定说明书中描述的特征、步骤或其组合的存在，并且应理解为不排除另外包括一个或多个不同特征、步骤或其组合的存在或可能性。

在下文中，将参照附图描述根据本公开的实施例的透镜移动设备。为了便于描述，尽管使用直角坐标系(x，y，z)描述透镜移动设备，但是可以使用一些其他坐标系来描述透镜移动设备，并且实施例不限于此。在各个附图中，x轴和y轴是指垂直于光轴的方向，即z轴，并且光轴oa方向或与光轴oa平行的方向可以被称为“第一方向”，x轴方向可以被称为“第二方向”，并且y轴方向可以被称为“第三方向”。

术语“光轴方向”可以被定义为处于与透镜移动设备耦接的状态的透镜模块的光轴方向。这里，术语“光轴方向”也可以用于表示上下方向或垂直方向。

应用于诸如智能电话或平板电脑的移动装置的超小型相机模块的“自动聚焦装置”是一种将被对象的图像自动聚焦在图像传感器表面上的装置。自动聚焦装置可以以各种方式配置，并且根据实施例的透镜移动设备可以使由至少一个透镜构成的光学模块在第一方向上移动，以执行自动聚焦。

图1是根据实施例的透镜移动设备100的分解立体图。

参照图1，透镜移动设备100可以包括盖构件300、线筒110、线圈120、磁体130、第一辊单元150、第二辊单元160、电路板190、磁性体195和基座210。

将首先描述盖构件300。

盖构件300将部件110、120、130、150、160、190和195容纳于在盖构件300与基座210之间限定的空间中。

盖构件300可以采取具有开放的底部并且包括顶板和侧板的盒形式。盖构件300的侧板的下端可以耦接到基座210。盖构件300的顶板可以具有多边形的形状，例如正方形或八边形的形状。

盖构件300可以在其顶板中设置有开口，耦接到线筒110的透镜单元400经由该开口暴露于外部光。

例如，盖构件300可以由诸如sus、铝(al)、铜(cu)、锡(sn)或铂的非磁性金属或塑料材料制成。因为使用由非磁性材料制成的盖构件300，所以实施例能够防止磁体130和/或磁性体195吸引盖构件330的现象。

可以在盖构件300的侧板中的至少一个侧板的下端中设置粘合剂注入凹部332。

盖构件300的侧板中的一个侧板的下端可以在其中形成有凹槽1334，电路板1190的端子1091和1092经由该凹槽1334暴露。

接下来，将描述线筒110。

图2是图1所示的线筒110和磁体130的立体图。

参照图2，线筒110可以位于基座210的支柱216a至216d的内侧，并且可以通过线圈120与磁体130之间的电磁相互作用而沿第一方向(例如z轴方向)移动。例如，线筒110可以从线筒110的初始位置沿一个方向例如向上方向移动。

线筒110可以具有开口101，透镜或透镜镜筒安装在开口101中。

线筒110中的开口101的形状可以与安装在线筒中的透镜和透镜镜筒的形状相对应。例如，开口的形状可以是圆形、椭圆形或多边形。然而，本公开不限于此。

线筒110可以包括设置在其上表面上的至少一个止动件111。

线筒110的止动件111可以是从线筒110的上表面沿第一方向或沿向上方向突出的结构，并且可以防止线筒110的上表面直接与盖构件300的顶板的内表面碰撞。

线筒110可以包括形成在其外表面中的安装凹部102，磁体130安装在安装凹部102中。例如，安装凹部102可以是从线筒110的外表面凹陷并且在线筒110的下部处开口的结构。

线筒110可以包括：侧表面110c-1至110c-4；侧表面110c-1与侧表面110c-2之间的侧表面；侧表面110c-2与侧表面110c-3之间的侧表面110b-2；侧表面110c-3与侧表面110c-4之间的侧表面110b-3；以及侧表面110c-4与侧表面110c-1之间的侧表面110b-4。

线筒110的侧表面110c-1至110c-4可以与基座210的支柱216a至216d相对应，并且线筒110的侧表面110b-1至110b-4可以分别与基座210的支柱216a至216d之间的空间相对应。

线筒110可以包括从其外表面突出的突起118a至118d。例如，突起118a至119d的外表面可以是线筒110的侧表面110b-1至110b-4。

安装凹部102可以形成在第一突起118a的侧表面中，并且可以具有与磁体130的形状相同或相符的形状。

线筒110可以包括设置在侧表面110c-1处的第一支撑件以及设置在侧表面110c-2处的第二支撑件116b。

例如，第一支撑件116a可以设置在第一突起118a与第四突起118d之间，并且第二支撑件116b可以设置在第一突起118a与第二突起110b之间。

第一支撑件116a可以从线筒110的外表面突出，第二支撑件116b可以从线筒110的外表面突出。

例如，第一支撑件116a可以具有从线筒110的侧表面110c-1突出的柱形状，例如，半圆柱形。然而，本公开不限于此，并且第一支撑件可以具有各种的柱形状。

例如，第二支撑件116b可以具有从线筒110的侧表面110c-2突出的柱形状，例如，半圆柱形。然而，本公开不限于此，第二支撑件可以具有各种的柱形状。

例如，第一支撑件116a和第二支撑件116b可以相对于第一突起118a为双侧对称。然而，本公开不限于此。

例如，第四突起118d可以在从线筒110的侧表面110b-2朝向侧表面110b-4的方向上比第一支撑件116a突出更多，并且第一突起118a可以在从线筒110的侧表面110b-3朝向侧表面110b-1的方向上比第一支撑件116a突出更多。

例如，第二突起118b可以在从线筒110的侧表面110b-4朝向侧表面110b-2的方向上比第二支撑件116b突出更多，并且第一突起118a可以在从线筒110的侧表面110b-3朝向侧表面110b-1的方向上比第一支撑件116a突出更多。这样做的原因是提高第一辊单元150和第二辊单元160的支柱216a和216b的设置的设计上的自由度。

接下来，将描述磁体130。

磁体130可以设置或安装到线筒110。例如，磁体130可以设置于在线筒110的侧表面110b-1、例如第一突起118a的外表面中形成的安装凹部102中。

尽管磁体130可以具有与线筒110的侧表面110b-1相对应的形状，例如，矩形平行六面体形状，但是本公开不限于此。

尽管磁体130可以为双极磁化磁体以提高由与线圈的电磁相互作用产生的驱动力，但是本公开不限于此。

例如，磁体130可以是双极磁化磁体，其在垂直于光轴的方向上被分成两个极。在此，磁体130可以通过铁氧体磁体、铝镍钴合金磁体、稀土磁体等实现。

例如，磁体130可以包括：包括n极和s极的第一磁体部31；包括s极和n极的第二磁体部32；以及非磁性隔壁33。

第一磁体部31和第二磁体部32可以彼此间隔开，并且非磁性隔壁33可以位于第一磁体部31与第二磁体部32之间。

非磁性隔壁是几乎完全非磁性并且可以包括几乎不具有极性的区域的部分。非磁性隔壁可以填充有空气或非磁性材料，并且可以被称为“中性区域”。

在另一个实施例中，磁体130可以是包括s极和n极的单极磁化磁体。

接下来，将描述基座210。

图3a是图1所示的基座210的第一立体图。图3b是图1所示的基座210的第二立体图。图4是图1所示的基座210、第一辊单元150、第二辊单元160、磁性体195、线圈120和电路板190的分解立体图。

参照图3a、图3b和图4，基座210可以与盖构件300耦接，并且可以与盖构件300协作来限定用于容纳线筒110的空间。

基座210可以具有与盖构件300中的开口和/或线筒110中的开口相对应的开口301。基座210可以具有与盖构件300相符或相对应的例如正方形形状的形状。

基座210可以包括具有开口301的主体213和从主体213突出的支柱216a至216d。

基座210的主体213可以包括角部217a至217d和位于角部217a至217d之间的侧部218a至218d。

支柱216a至216d中的每一个可以设置在主体213的角部217a至217d中的相应的一个角部处。

例如，基座210可以包括：第一支柱216a，第一支柱216a从第一角部217a向上突出规定高度；第二支柱216b，第二支柱216b从第二角部217b向上突出规定高度；第三支柱216c，第三支柱216c从第三角部217c向上突出规定高度；以及第四支柱216d，第四支柱216d从第四角部217d向上突出规定高度。

基座210的术语“支柱”可以与术语“突起”互换使用。

尽管支柱216a至216d中的每一个例如可以具有从基座210的主体213的上表面垂直突出的多边形、圆形或椭圆形形状，但是本公开不限于此。尽管支柱216a至216d例如可以具有“l”形或诸如三角形的多边形的横截面，但是本公开不限于此。

尽管基座210的主体213的侧部218a至218d中的每一个侧部的横向方向上的长度可以大于基座210的主体213的角部217a至217d中的每一者的长度，但是本公开不限于此。

可以在两个相邻的支柱216a和216b、216b和216c、216c和216d以及216d和216a之间限定开口。

尽管支柱216a至216d的高度可以相对于基座210的主体213的上表面相同，但是本公开不限于此。

基座210可以包括从主体2130的上表面突出的止动件23。尽管至少一个止动件23、例如两个止动件23可以设置在第二侧部218b和第四侧部218d中的每一者的上表面处，但其位置和数量不限于此。基座210的止动件23也可以被称为“下止动件”。

止动件23可以防止线筒110的下表面或下端直接与基座210的主体213碰撞。

基座210可以包括止动件31，止动件31设置在支柱216a至216d的上表面或上端上。基座210的止动件31可以被称为“上止动件”。

例如，基座210的止动件31可以形成从支柱216a至216d的上表面沿光轴方向突出的结构。

基座210的止动件31可以用于确保在af动作期间线筒110可移动的空间或间隙。

基座210的主体213的外表面的下端可以设置有台阶211。台阶211可以与盖构件300的侧板的下端接触，并且可以引导盖构件300。基座210的台阶211和盖构件300的侧板的下端可以彼此粘结地并且密封地被固定，并且可以使用粘合剂等进行密封。

基座210可以包括：形成在第一支柱216a中的第一凹槽51a，第一辊单元150设置在第一凹槽51a中；以及第二凹槽51b，第二凹槽51b形成在与第一支柱216a相邻的第二支柱216b中，第二辊单元160设置在第二凹槽51b中。

例如，第一凹槽51a可以具有与第一辊单元150中包括的辊中的至少一个辊相对应或相符的形状，并且第二凹槽51b可以具有与第二辊单元160中包括的辊中的至少一个辊相对应或相符的形状。

第一凹槽51a和第二凹槽51b中的每一个可以具有从基座210的上表面凹陷的结构。

第一凹槽51a可以包括在第一支柱216a的内表面处开放的第一开口，第二凹槽51b可以包括在第二支柱216b的内表面处开放的第二开口。

线筒110的第一支撑件116a可以设置在第一开口61a中，并且可以与第一辊单元150的一部分接触。此外，线筒110的第二支撑件116b可以设置在第二开口61b中，并且可以与第二辊单元160的一部分接触。

通过第一开口61a和第二开口61b，可以减小第一辊单元150和第二辊单元160与基座210中的第一凹槽51a和第二凹槽51b之间的摩擦力。通过控制第一开口61a和第二开口61b的尺寸，可以在第一辊单元150和第二辊单元160与基座210之间获得期望的摩擦力。

基座210可以进一步包括：第一引导凹槽52a，第一引导凹槽52a形成在第一支柱216a中的第一凹槽51a的内表面中；以及第二引导凹槽52b，第二引导凹槽52b形成在第二支柱216b中的第二凹槽51b的内表面中。

盖构件300的第一突出部311(将在后面描述)可以插入或设置在第一引导凹槽52a中，盖构件300的第二突出部312可以插入或设置在第二引导凹槽52b中。

可以通过第一引导凹槽52a将润滑剂注入到第一凹槽51a中，并且可以通过第二引导凹槽52b将润滑剂注入到第二凹槽51b中。

润滑剂可以设置在第一凹槽51a和第二凹槽51b中，可以与第一凹槽51a和第一辊单元150接触，并且可以与第二凹槽51b和第二辊单元160接触。

尽管润滑剂可以是油脂型润滑剂，例如sdm(钢粉尘计(steeldustmeter))-378，但是本公开不限于此。

润滑剂可以减小第一辊单元1150和第二辊单元1160与第一凹槽51a和第二凹槽51b之间的摩擦力，并且可以使第一辊单元150和第二辊单元160的旋转顺畅。

基座210可以包括形成在第一支柱216a和第二支柱216b以及主体213中的第一安装凹部41和第二安装凹部42。

第一安装凹部41和第二安装凹部42中的每一个可以基于基座210的第一支柱216a和第二支柱216b的外表面具有台阶结构或两级结构。

第一安装凹部41可以形成在第一支柱216a和第二支柱216b的外表面以及第一侧部218a的外表面中，并且可以具有与电路板190相同或相符的形状。

第二安装凹部42可以位于第一安装凹部41中，可以形成在第一支柱216a和第二支柱216b的外表面中以及主体213的第一侧部218a的外表面中，并且可以与磁性体195相同或相符。

接下来，将描述电路板190。

电路板190可以设置或固定到基座210。

电路板190可以固定到基座210的第一支柱216a和第二支柱216b。例如，电路板190可以设置在基座210的第一支柱216a和第二支柱216b处以及主体2130的第一侧部218a处。

例如，电路板190可以设置在第一安装凹部41中。

电路板190可以包括与线圈导电连接的端子，例如，第一端子91和第二端子92，并且电路板190的端子可以设置在或位于基座210的主体213处。

例如，电路板190可以是印刷电路板或柔性印刷电路板(fpcb)。

接下来，将描述线圈120。

线圈120可以设置、安装或固定到电路板190使得对应于磁体130或面对磁体130。例如，线圈120可以设置在电路板190的第一表面上，并且端子91和92可以设置在电路板190的第二表面上。

尽管例如可以使用粘合构件将线圈120固定或附接到电路板190，但是本公开不限于此。

线圈120可以位于基座210的第一支柱216a和第二支柱216b之间。

线圈120例如可以是具有环形的线圈环。例如，线圈120可以具有细长的环形，在该细长的环形中其水平长度大于其垂直长度。

为了产生由于与磁体130的电磁相互作用而引起的电磁力，可以将驱动信号施加于线圈120。这里，施加于线圈120的驱动信号可以是dc信号，并且可以是电压类型或电流类型。例如，施加于线圈120的驱动信号可以包括dc信号和ac信号中的至少一者。

被施加驱动信号的线圈120可以与设置在线筒110处的磁体130电磁相互作用，并且af动作单元可以通过由线圈120和磁体130之间的电磁相互作用产生的电磁力沿第一方向移动。通过控制驱动信号的强度，可以控制af动作单元在第一方向上的移动，因此可以执行自动聚焦功能。

af动作单元可以包括线筒110和安装在线筒110上并与线筒110一起移动的部件。例如，af动作单元可以包括线筒110和磁体130。

线圈120可以与电路板190的第一端子91和第二端子92导电连接。例如，线圈120的两端可以与设置在电路板190的第一表面上的焊盘(未示出)导电连接，并且焊盘(未示出)可以与电路板190的第一端子91和第二端子92中的相应的一个端子导电连接。

驱动信号可以经由电路板190的第一端子91和第二端子92施加于线圈120。

接下来，将描述第一辊单元150和第二辊单元160。

第一辊单元150可以设置在第一凹槽51a中使得与第一凹槽51a的至少两个区域接触。例如，第一辊单元150(例如，辊p1至辊p3)可以与第一凹槽51a的四个区域接触。

第二辊单元160可以设置在第二凹槽51b中使得与第二凹槽51b的至少两个区域接触。例如，第二辊单元160(例如，辊q1至辊q3)可以与第二凹槽51b的四个区域接触。

第一辊单元150可以包括至少一个辊(例如，p1至p3)，并且可以设置在基座210的第一支柱216a中的第一凹槽51a中。

辊单元160可以包括至少一个辊(例如，q1至q3)，并且可以设置在基座210的第二支柱216b中的第二凹槽51b中。

第一辊单元150可以与线筒110的第一支撑件116a接触，第二辊单元150可以与线筒110的第二支撑件116b接触。

当线筒110在光轴方向上移动时，分别与第一支撑件116a和第二支撑件116b接触的第一辊单元150和第二辊单元160可以滚动或旋转，从而支撑线筒110在光轴方向上的移动并引导线筒110在光轴方向上的移动。

在第一辊单元150和第二辊单元160与线筒110的第一支撑件116a和第二支撑件116b之间可以产生摩擦力。该摩擦力可被第一辊和第二辊与第一支撑件和第二支撑件之间的接触面积的影响。换句话说，摩擦力可以随着辊与支撑件之间的接触面积增大而增大。

第一辊单元150和第二辊单元160中的每一者可以包括多个辊。例如，第一辊单元150和第二辊单元160中的每一个中包括的辊的数量可以是两个、三个、四个以上。

尽管第一辊单元150可以包括三个辊(p1至p3)，但是本公开不限于此。辊的数量可以是一个或更多。

尽管第二辊单元160可以包括三个辊(q1至q3)，但是本公开不限于此。辊的数量可以是一个或更多。

图5是在第一支柱216a中形成的第一凹槽51a的放大图。图6是图4中所示的辊p1的放大图。图7是透镜移动设备100的俯视图，从该透镜移动设备100中去除了盖构件300。图8是图7所示的透镜移动设备100的沿线a-b截取的剖视图。图9是图7所示的透镜移动设备100的沿线c-d截取的剖视图。

参照图5至图9，第一凹槽51a可以包括侧表面51-1和底部51-2。

第一凹槽51a的底部51-2可以在光轴方向上从基座210的上表面210a具有规定深度。例如，第一凹槽51a的底部51-2可以基于基座210的下表面，位于比基座210的上表面210a高的位置。

第一凹槽51a的底部51-2可以在其中形成有凹槽或孔60。尽管凹槽50可以通过凹槽或孔60暴露基座的上表面，但是本公开不限于此。

第一凹槽51a的底部51-2可以包括彼此间隔开的第一底部51-2a和第二底部51-2b，并且凹槽60可以设置在第一底部51-2a与第二底部51-2b之间。

由于凹槽60，与第一凹槽51a的底部51-2接触的辊p3的表面区域的尺寸可以减小，其结果，辊p3与第一柱216a之间的摩擦力可以减小，并且辊p3与第一支撑件116a之间的摩擦力也可以减小。

第一凹槽51a的第一侧表面51-1a可以在其中形成有第一开口61a，第一开口61a在第一支柱216a的内表面处开放，并且第一凹槽51a的第二侧表面51-1b可以在其中形成有第一引导凹槽52a。

第一支柱216a中的第一开口61a可以使穿过其中插入或设置在第一凹槽51a中的辊p1至p3的一部分或一个表面暴露。

第一开口61a可以具有足以允许第一支撑件116a插入到其中的尺寸。

例如，第一开口61a的水平长度d2可以大于第一支撑件116a的水平长度d1(d2＞d1)。第一开口61a的垂直长度h2可以等于或大于第一支撑件116a的垂直长度h1(h2≥h1)。

例如，第一支撑件116a可以插入到第一开口61a中使得与设置在第一凹槽51a中的辊p1至p3接触并且与基座210的第一支柱216a间隔开。

第一引导凹槽52a可以具有从第一凹槽51a的第二侧表面51-1b凹陷的形状，并且可以具有半圆形形状或半圆柱形形状；然而，该形状不限于此。

例如，第一引导凹槽52a的底部52-1的高度可以等于第一凹槽52a的底部51-2的高度；然而，本公开不限于此。

参照图6，尽管辊p1可以具有柱形状或圆柱形状，但是本公开不限于此。

辊p1的长度l可以大于其直径r。

每个辊(例如，p1至p3)的直径r与每个辊(例如，p1至p3)的纵向长度l之比可以为1:1.5～1:5。

例如，辊p1的直径r与辊p1的长度l之比可以为1:1.5～1:5。

这里，直径与长度之比(r:l)也可以为1:2～1:3。

例如，当辊p1的长度与直径之比(l/r)小于1.5时，可能会降低防止线筒110在x轴方向或y轴方向上的移动的效果。

当辊p1的长度与直径之比(l/r)大于5时，用于容纳辊的第一支柱216a的尺寸可能增加，并且可能发生线圈120与电路板190之间的空间干扰。

形成在第二支柱216b中的第二凹槽51b可以具有与第一凹槽51a相同的形状，并且关于图5中所示的第一凹槽51a的描述也可以应用于第二凹槽51b。

此外，关于图6所示的辊p1的描述也可以应用于第一辊单元150的其余辊p2和p3以及第二辊单元160的辊q1至q3。

为了防止第一辊单元150和第二辊单元160与第一凹槽51a和第二凹槽51b分离，盖构件300可以包括第一突出部311和第二突出部312。

盖构件300的第一突出部311可以插入或设置在第一引导凹槽52a中，盖构件300的第二突出部312可以插入或设置在第二引导凹槽52b中。

图11示出了图7的沿线c-d截取的横截面的一部分。在图11的剖视图中示出了盖构件300。

参照图1和图11，盖构件300可以包括第一突出部311，第一突出部311对应于第一辊单元150并且从顶板的内表面突出。

此外，盖构件300可以包括第二突出部312，第二突出部312对应于第二辊单元160并且从顶板的内表面突出。

第一突出部311可以从盖构件300的顶板的内表面向下突出，并且可以插入或设置在第一凹槽51a和第一引导凹槽52a中。

第二突出部312可以从盖构件300的顶板的内表面向下突出，并且可以插入或设置在第二凹槽51b和第二引导凹槽52b中。

第一突出部311和第二突出部312中的每一个可以具有从盖构件330的顶板的上表面凹陷的凹槽形状。

参照图7，开口101的中心7a可以不与基座210的中心7b对齐，并且可以位于比磁体130更远离基座210的中心7b的位置。换句话说，安装在线筒110中的透镜的中心可以位于比基座210的中心7b更远离磁体130的位置。

例如，基座210的中心7b可以位于线筒110中的开口101的中心7a与磁体130之间。

线筒110的突起118a至118d可以位于基座210的支柱216a至216d之间。例如，线筒110的突起118a至118d中的每一个可以位于两个相邻的支柱216a和216b、216b和216c、216c和216d以及216d和216a之间。由于线筒110的突起118a至118d中的每一个可以位于两个相邻的支柱216a和216b、216b和216c、216c和216d以及216d和216a之间，因此可以降低或减小透镜移动设备100的尺寸。

第一辊单元150的辊p1至p3和第二辊单元160的辊q1至q3中的每一个可以与第一凹槽51a和第二凹槽51b的侧表面(例如51-1)接触。例如，辊p1至p3和辊q1至q3中的每一者的外表面可以与第一凹槽51a和第二凹槽51b的侧表面(例如51-1)进行表面接触。

在另一实施例中，第一凹槽51a和第二凹槽51b的侧表面(例如51-1)可以设置有多个突出部。多个突出部可以与辊p1至p3和辊q1至q3的外表面接触。

图14a至图14c是根据另一实施例的基座210a的局部立体图。

参照图14a至图14c，基座210a的第一凹槽51a的侧表面51-1a、51-1b和51-1c可以设置有与辊p1至p3相对应的多个突出部14a至14c或14d。

在图14a中，突出部14a、14b和14c可以设置在第一凹槽51a的第一侧表面51-1a和第二侧表面51-1b处。

在图14b中，突出部14a、14b和14c可以设置在第一凹槽51a的第一侧表面至第三侧表面51-1a、51-1b和51-1c处。

在图14a和图14b中，突出部14a、14b和14c中的每一个可以具有半圆形形状。在图14c中，突出部14d可以具有线性突起形状，其横截面具有半圆形或弧形形状。

辊p1至p3和辊q1至q3中的每一者的外周表面或侧表面可以与多个突出部14a至14d接触，并且可以与第一侧表面至第三侧表面51-1a、51-1b和51-1c间隔开。

线筒110的第二凹槽51b的侧表面可以设置有与辊q1至q3相对应的多个突出部。关于设置在线筒110中的第一凹槽51b的侧表面处的突出部14a至14d的描述也可以应用于线筒110中的第二凹槽51b。

在图14a至图14c中，由于辊p1至p3和辊q1至q3可以与突出部14a至14d进行线接触或进行表面接触，因此与图1所示的基座210相比，图14a至图14c所示的基座210a与辊p1、p2和p3之间的摩擦力可以减小。

参照图8，在af动作单元的初始位置处(例如，在线筒110的初始位置处)，线圈120可以在从第一支柱216a朝向第四支柱216d的方向上与磁体130重叠。

这里，af动作单元(例如，线筒110)的初始位置可以是在未向线圈120施加电力的状态下af动作单元的原始位置。另外，af动作单元的初始位置可以是当重力作用于从线筒110到基座210的方向时或当重力作用于从基座210到线筒110的方向时af动作单元所位于的位置。

例如，在从第一支柱216a朝向第四支柱216d的方向上，线圈120的上部120-1可以与磁体130的第一磁体部31重叠，线圈120的下部120-2可以与磁体130的第二磁体部32重叠，并且线圈120的上部120-1和下部120-2之间的空间可以与磁体130的非磁性隔壁33重叠。

图10是图7的局部放大图。关于图10的描述也可以应用于线筒110的辊单元1160和第二支撑件116b。

参照图7和图10，第一辊单元150的辊p1至p3可以设置为相对于第一基准线501以第一角度θ1倾斜。

此外，第二辊单元160的辊q1至q3可以设置为相对于第一基准线以第二角度(未示出)倾斜。

这里，第一基准线501可以是与从第一支柱216a朝向第二支柱216b的方向平行的假想线(例如，x轴)。

例如，第一基准线502可以延伸穿过第一辊单元150的辊(例如，p1、p2和p3)与第一支撑件116a相遇的点。或者，第一基准线可以延伸穿过第二辊单元160的辊(例如，q1、q2和q3)与第二支撑件116b相遇的点。

例如，辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601(参见图6)可以相对于第一基准线501以第一角度(θ1)倾斜。此外，第二辊单元160的辊(例如，q1、q2和q3)的中心轴可以相对于第一基准线以第二角度倾斜。

例如，第一角度θ1可以是辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601(参见图6)与第一基准线501之间的角度，第二角度可以是第二辊单元160的辊(例如，q1、q2和q3)与第一基准线之间的角度。

例如，第一角度θ1可以是第一辊单元150的辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601相对于第一基准线501顺时针旋转的角度。

此外，第二角度可以是第二辊单元160的辊(例如，q1、q2和q3)的中心轴相对于第一基准线顺时针旋转的角度。

例如，第一辊单元150的辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601(参见图6)可以是延伸穿过辊(例如，p1、p2和p3)的中心并且与辊(例如，p1、p2和p3)的纵向方向平行的轴。例如，辊(例如，p1、p2和p3)的中心可以是辊的直径中心。关于第一辊单元150的辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601的描述可以应用于第二辊单元160的辊(例如，q1、q2和q3)的中心轴。

每个辊(例如，p1、p2和p3)可以设置为绕垂直于光轴的轴旋转。

例如，辊(例如，p1、p2和p3)可以设置为使得中心轴601垂直于光轴oa，并且辊(例如，p1、p2和p3)可以绕中心轴601旋转。此外，第二辊单元160的辊q1、q2和q3可以设置为使得中心轴垂直于光轴oa，并且第二辊单元160的辊q1、q2和q3可以绕中心轴旋转。

第一角度θ1和第二角度可以彼此不同。

例如，第一角度θ1可以为30°～60°，第二角度可以为120°～150°。例如，第二角度可以是通过从180°减去第一角度θ1而获得的值。

例如，第一角度θ1可以为40°～50°。

例如，第一角度θ1可以为43°～47°。

例如，第一角度θ1可以为45°。

当第一角度θ1小于40°时，抑制线筒110在x轴方向上移动的效果可能减小。当第一角度θ1小于40°时，抑制线筒110在x轴方向上移动的效果可能减小。当第一角度θ1大于60°时，抑制线筒110在y轴方向上移动的效果可能减小。

由于第一辊单元150的辊p1至p3设置为相对于第一基准线501以第一角度θ1倾斜，第二辊单元160的辊q1至q3设置为相对于第一基准线以第二角度倾斜，因此可以抑制线筒110在与第一基准线501平行的方向上(例如，在x轴方向上)或者在与第二基准线502平行的方向上(例如，在y轴方向上)的移动。例如，第二基准线502可以是垂直于第一基准线501的假想线。

例如，当第一角度θ1为45°并且第二角度为135°时，第一辊单元150的辊p1至p3以及第二辊单元160的辊q1、q2和q3能够以平衡方式抑制线筒110在x轴方向上和在y轴方向上的移动。

例如，线筒110的第一支撑件116a的中心线503和辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601可以彼此垂直，并且线筒110的第二支撑件116b的中心线和辊(例如，q1、q2和q3)的中心轴可以彼此垂直；然而，本公开不限于此。

第一支撑件116a的中心线503可以是这样的线，该线延伸穿过第一支撑件与辊(例如，p1、p2或p3)接触的点并且将第一支撑件116a分为两个部分。例如，第一支撑件116a的中心线503可以是将第一支撑件116a分成两个对称部分的线。

此外，第二支撑件116b的中心线可以是这样的线，该线延伸穿过第二支撑件与辊(例如，q1、q2或q3)接触的点并且将第二支撑件116b分为两个部分。例如，第二支撑件116b的中心线可以是将第二支撑件116b分成两个对称部分的线。

在图10中，关于第一辊单元150的辊p1至p3的设置的描述也可以应用于第二辊单元160的辊q1至q3的设置。

第一辊单元150和第二辊单元160可以设置成相对于中心线701(参见图7)对称，该中心线701与从第一支柱216a朝向第四支柱216d的方向平行并且延伸穿过线筒110中的开口101的中心。

接下来，将描述磁性体195。

磁性体195可以设置在基座210处，并且可以位于线圈120的下方。

例如，磁性体195可以设置在基座210的外表面上。

例如，吸引力可以作用于磁性体195与磁体130之间。

例如，磁性体195可以基于基座的下表面位于比磁体130低的位置，并且可以用于抑制在线筒110的移动过程中线筒110的倾斜。磁性体195也可以被称为“倾斜抑制器”、“倾斜补偿器”或“倾斜控制器”，因为磁性体抑制线筒110的倾斜的发生。

在根据实施例的透镜移动设备100中，因为磁体130仅设置在线筒110的一个侧表面110b-1上，并且仅一个线圈120设置为与一个磁体130相对应，所以在设置有磁体130的线筒110的侧表面110b-1与相对的侧表面110b-3之间可能发生电磁力的不平衡。

由于电磁力的不平衡，在线筒110的移动过程中可能发生线筒110的倾斜。然而，由于磁性体195由被磁体130吸引的材料制成，因此实施例能够抑制线筒的倾斜的发生。

磁性体195可以由被磁体吸引的材料、例如磁性材料(例如具有磁性的材料)构成。

在另一个实施例中，磁性体1195可以由被磁体吸引的材料、例如金属材料(例如铁)构成。

磁性体195可以设置在第一支柱216a和第二支柱216b的外表面以及基座210的主体213的第一侧部218a的外表面上。例如，磁性体195可以设置在第二安装凹部42中。

磁性体195可以具有板状。例如，磁性体195可以包括：板195-1；从板195-1的一端向上延伸的第一延伸部195-2；以及从板195-1的另一端向上延伸的第二延伸部195-3。

磁性体195的板195-1可以设置在基座210的主体213的第一侧部218a的外表面上。例如，可以使用粘合构件将磁性体195固定或附接到基座210。

第一延伸部195-2可以设置在第一支柱216a的侧表面(例如，外表面)上，并且可以在从基座210的下表面朝向上表面的方向上延伸。

第二延伸部195-3可以设置在第二支柱216b的侧表面(例如，外表面)上，并且可以在从基座210的下表面朝向上表面的方向上延伸。

第一延伸部195-2和第二延伸部195-3可以提高磁性体195与基座210之间的接合力。

为了提高作用于磁体130和磁性体195之间的力，磁性体195的板195-1的水平长度l1(参见图4)可以大于磁体130的水平长度l2(参见图2)；然而，本公开不限于此。在另一个实施例中，l1可以等于l2。

因为吸引力作用于磁性体195与磁体130之间，所以即使驱动信号未施加于线圈120时，也可以设定线筒110的初始位置。

例如，当驱动信号未施加于线圈120时，可以通过作用于磁性体195与磁体130之间的吸引力来使线筒110位于最低位处。这里，线筒110的最低位可以是在线筒110的位移范围内距基座210的最低位置。这里，线筒110的最低位置可以是线筒110的初始位置。

例如，当驱动信号未施加于线圈120时，作用于磁性体195与磁体140之间的力可以等于或大于使线筒110设置在最低位置处所需的力。

由于可以通过作用于磁性体195与磁体130之间的吸引力来设定线筒110的初始位置，因此，即使没有附加的位置传感器也可以执行准确的af动作。

由于线筒110的中心不与基座的中心对齐并且仅使用一个磁体130，因此实施例能够减少部件的数量。

由于实施例包括辊取代弹簧，因此，与采用弹簧的透镜移动设备相比，实施例能够减少在af动作期间消耗的电流量。此外，由于稳定化时间减少，因此可以提高af动作的速度。

由于磁性体195和磁体130设置在基座210的主体213的一个侧部218a处，所以实施例能够同时执行倾斜补偿和驱动动作。

由于通过第一引导凹槽52a和第二引导凹槽52b注入到第一凹槽51a和第二凹槽51b中的润滑剂，因此可以使第一辊单元150和第二辊单元160的旋转和驱动顺畅。

此外，由于辊p1至p3和辊q1至q3设置为相对于第一基准线501以规定角度倾斜，因此实施例能够抑制线筒110在x轴方向和y轴方向上的移动。

由于盖构件300包括第一突出部311和第二突出部312，因此实施例能够防止辊p1至p3和辊q1至q3从第一凹槽51a和第二凹槽51b分离。

尽管图1至图11所示的实施例未设置有位置传感器，但是本公开不限于此。根据另一实施例的透镜移动设备可以进一步包括位置传感器。

图12示出了位置传感器170，该位置传感器170附加地设置在透镜移动设备100处。图13是包括图12的位置传感器170的实施例的剖视图。

参照图12和图13，位置传感器170可以设置或安装在电路板190上，并且可以位于线圈120中的空间中。

例如，位置传感器170可以位于线圈120的上部120-1与下部120-2之间的空间中。

例如，位置传感器170可以在从第一支柱216d朝向第四支柱216d的方向上与非磁性隔壁33重叠。

位置传感器170可以根据线筒110的移动来检测安装在线筒110上的磁体130的磁场的强度，并且可以输出与检测到的强度相对应的输出信号。位置传感器170可以设置在电路板190的第一表面上。这里，电路板190的第一表面可以是在其上设置线圈120的表面。

位置传感器170可以被实现为包括霍尔传感器的驱动ic类型，或者可以仅实现为诸如霍尔传感器等的单个位置检测传感器。

例如，当位置传感器170仅通过一个霍尔传感器实现时，位置传感器170可以包括两个输入端子和两个输出端子。

电路板190可以导电地连接到位置传感器170。例如，位置传感器170的四个端子可以导电地连接到电路板190，并且电路板190可以进一步包括与位置传感器的四个端子导电地连接的端子。例如，电路板190可以包括导电地连接到线圈120的两个端子和导电地连接到位置传感器170的四个端子。

当位置传感器170是包括霍尔传感器的驱动ic型传感器时，电路板190可以包括导电地连接到位置传感器170的四个端子，因为驱动信号从位置传感器170施加于线圈120。

图15是根据另一实施例的线筒的立体图。图16是根据另一实施例的基座的立体图。图17是图15所示的线筒和图16所示的基座的组装立体图。图18是图15所示的线筒以及图16所示的基座、第一辊单元150和第二辊单元160、第一线圈120和电路板190的立体图。

在图15至图18中，与图1至图13中的附图标记相同的附图标记表示相同的部件，并且将关于相同部件的描述简化或省略。

参照图15至图18，图15所示的线筒可以包括用于支撑第一辊单元150的第一凹槽和用于支撑第二辊单元160的第二凹槽。

例如，图15所示的线筒可以包括位于第一支撑件116a的右侧的第一支撑凹槽15a和位于第一支撑件116a的左侧的第二支撑凹槽15b。

此外，图15所示的线筒可以包括位于第二支撑件116b的左侧的第三支撑凹槽15c和位于第二支撑件116b的右侧的第四支撑凹槽15d。

例如，第一支撑凹槽15a可以位于在第一支撑件116a的右侧的、第一突起118a的一个侧表面处，第二支撑凹槽15b可以位于在第一支撑件116a的左侧的、第四突起118d的一个侧表面处。

例如，第三支撑凹槽15c可以位于在第二支撑件116a的左侧的、第一突起118a的另一个侧表面处，第四支撑凹槽15d可以位于在第二支撑件116b的右侧的、第二突起118b的一个侧表面处。

图16所示的基座的第一支柱216a的内表面可以设置有与图15所示的线筒中的第一支撑凹槽15a相对应的第一安装凹槽16a以及与图15所示的线筒中的第二支撑凹槽15b相对应的第二安装凹槽16b。

图16所示的基座的第二支柱216b的内表面可以设置有与图15所示的线筒的第三支撑凹槽15c相对应的第三安装凹槽16c以及与图15所示的线筒的第四支撑凹槽15d相对应的第四安装凹槽16d。

参照图17，图15所示的线筒中的第一支撑凹槽15a和第二支撑凹槽15b以及与第一支撑凹槽15a和第二支撑凹槽15b相对应的第一安装凹槽16a和第二安装凹槽16b可以限定第一凹槽，第一辊单元150插入、设置或安装在第一凹槽中。

此外，图15所示的线筒中的第三支撑凹槽15c和第四支撑凹槽15d以及图16所示的第二支柱216b中的第三安装凹槽16c和第四安装凹槽16d可以共同限定第二凹槽，第二辊单元160插入、设置或安装在第二凹槽中。

参照图18，第一辊单元150可以与图15所示的线筒中的第一支撑凹槽15a和第二支撑凹槽16b以及图16所示的第一支柱216a中的第一安装凹槽16a和第二安装凹槽16b接触。

第二辊单元160可以与图15所示的线筒中的第三支撑凹槽15c和第四支撑凹槽15d以及图16所示的第二支柱216b中的第三安装凹槽16c和第四安装凹槽16d接触。

在图1至图13所示的实施例中，第一辊单元150插入或设置在形成于第一支柱216a中的第一凹槽51a中，第二辊单元160插入或设置在形成于第二支柱216b中的第二凹槽51b中。

相对于此，在图15至图18所示的实施例中，第一辊单元150和第二辊单元160可以设置或安装在由形成于线筒中的第一支撑凹槽15a至第四支撑凹槽15d、以及第一安装凹槽16a和第二安装凹槽16a至16d限定的凹槽中。

图7至图10的描述也可以应用于图15至图18的实施例。

图14a至图14c所示的突出部14a、14b、14c和14d可以应用于图15至图18所示的实施例，并且关于突出部14a、14b1、14的描述也可以应用于此。

图12所示的位置传感器170可以应用于图15至图18所示的实施例，并且关于位置传感器170的描述可以应用于此。

图19示出了根据另一实施例的透镜移动设备1100的分解立体图。

参照图19，透镜移动设备1100可以包括盖构件1300、线筒1110、线圈1120、磁体1130、第一辊单元1150、第二辊单元1160、电路板1190、磁性体1195和基座1210。

首先将描述盖构件1300。

盖构件1300可以在通过与基座1210组合而限定的空间中容纳其他部件1110、1120、1130、1150、1160、1190和1195。关于图1所示的盖构件300的描述可以应用于图19中所示的盖构件1300。

接下来，将描述线筒1110。

图20是图19所示的线筒1110和磁体1130的立体图。图21示出了图20中所示的线筒1110中的第一凹槽1051a和第二凹槽1051b以及第一辊单元1150和第二辊单元1160的立体图。关于图6所示的辊p1的描述可以应用于图20和图21所示的辊单元1150和1160中包括的辊p1至p3和辊q1至q3。

参照图20和图21，线筒1110可以位于基座1210的支柱1216a至1216d的内侧，并且可以通过线圈1120与磁体1130之间的电磁相互作用而在第一方向上(例如，在z轴方向上)移动。例如，线筒1110可以从线筒1110的初始位置在一个方向上、例如在向上方向上移动。

线筒1110可以包括开口1101，透镜或透镜镜筒安装在开口1101中。关于线筒110中的开口101的描述可以应用于线筒1110中的开口1101。

线筒可以包括设置在其上表面上的至少一个止动件1111。关于图2所示的止动件111的描述也可以应用于线筒1110的止动件1111。

线筒1110可以在其外表面上形成有用于安装磁体1130的安装凹部1102。关于线筒110中的安装凹部102的描述可以应用于线筒1100中的安装凹部1102。

线筒1110可以包括侧表面1110c-1至1110c-4、在侧表面1110c-1与侧表面1110c-2之间的侧表面1110b-1、在侧表面1110c-2与侧表面1110c-3之间的侧表面1110b-2、在侧表面1110c-3与侧表面1110c-4之间的侧表面1110b-3、以及在侧表面1110c-4与侧表面1110c-1之间的侧表面1110b-4。

线筒1110的侧表面1110c-1至1110c-4可以与基座1210的支柱1216a至1216d相对应，线筒1110的侧表面1110b-1至1110b-4可以与基座1210的支柱1216a至1216d之间的空间相对应。

线筒1110可以包括从其外表面1110b突出的突起118a至118d。例如，突起118a至118d的外表面可以是线筒1110的侧表面1110b-1至1110b-4。

安装凹部可以形成在第一突起118a中，并且可以具有与磁体1130相同或相符的形状。

线筒1110可以具有在侧表面1110c-1中形成的用于设置第一辊单元1150的第一凹槽1051a、以及在侧表面1110c-2中形成的用于设置第二辊单元1160的第二凹槽1051b。

例如，磁体1130可以设置在线筒1110的第一侧表面1110b-1上。第一凹槽1051a可以形成在线筒1110的与第一侧表面1110b-1相邻的第二侧表面1110c-1中，并且，第二凹槽1051b可以形成在线筒1110的与第一侧表面1110b-1相邻的第三侧表面1110c-2中。例如，线筒1100的第一侧表面1110b-1可以设置在线筒1100的第二侧表面1110c-1与第三侧表面1110c-2之间。例如，线筒1100的第一侧表面1110b-1可以将第二侧表面1110c-1与其第三侧表面1110c-2连接。

例如，第一凹槽1051a可以设置在第一突起118a与第四突起118d之间，第二凹槽1051b可以设置在第一突起118a与第二突起118b之间。

例如，第一凹槽1051a可以具有与第一辊单元1150中包括的辊中的至少一个相对应或相符的形状，第二凹槽1051b可以具有与第二辊单元1160中包括的辊中的至少一个辊相对应或相符的形状。

第一凹槽1051a和第二凹槽1051b中的每一个可以具有从线筒1110的上表面凹陷的结构。

例如，第一凹槽1051a可以具有在线筒1110的侧表面1110c-1中形成的第一开口1061a，第二凹槽1051b可以具有在其侧表面1110c-2中形成的第二开口1061b。

由于第一开口1061a和第二开口1061b，可以减小第一辊单元1150和第二辊单元1160与第一凹槽1051a和第二凹槽1051b之间的摩擦力，并且通过控制开口的尺寸，可以在第一辊单元1150和第二辊单元1160与线筒1110之间获得期望的摩擦力。

可以将润滑剂注入到线筒1110中的第一凹槽1051a和第二凹槽1051b中。润滑剂可以能够减小第一辊单元1150和第二辊单元1160与第一凹槽1051a和第二凹槽1051b之间的摩擦力并且能够使第一辊单元1150和第二辊单元1160的旋转顺畅。

接下来，将描述第一辊单元1140和第二辊单元1160

第一辊单元1150可以包括至少一个辊(例如，p1至p3)，并且可以设置在线筒1110中的第一凹槽1051a中。

第二辊单元1160可以包括至少一个辊(例如，q1至q3)，并且可以设置在线筒1110中的第一凹槽1051b中。

例如，第一辊单元1150可以与线筒1110中的第一凹槽1051a的至少两个区域接触，并且第二辊单元1150可以与线筒中的第二凹槽1051b的至少两个区域接触。

第一辊单元1150可以与基座1210的第一支撑件1116a接触，第二辊单元1150可以与基座1210的第二支撑件1116b接触。

当线筒1110沿光轴方向移动时，与第一支撑件1116a和第二支撑件1116b接触的第一辊单元1150和第二辊单元1160中的每一个可以执行滚动或旋转，从而支撑线筒1110在光轴方向上的移动并引导线筒1110在光轴方向上的移动。

摩擦力可以作用于第一辊单元1150和第二辊单元1160与基座1210的第一支撑件1116a和第二支撑件1116b之间，并且摩擦力可能被第一辊单元1150和第二辊单元1160与第一支撑件1116a和第二支撑件1116b之间的接触面积的影响。换句话说，接触面积越大，摩擦力越大。

第一辊单元1150和第二辊单元1160中的每一个可以包括多个辊。例如，第一辊单元1150和第二辊单元1160的每一者中包括的辊的数量可以是两个、三个、四个或更多。

例如，第一辊单元1150可以包括三个辊p1至p3，第二辊单元1160可以包括三个辊q1至q3。

参照图21，第一凹槽1051a可以包括侧表面1051和底部1052。

例如，第一凹槽1051a和第二凹槽1051b中的每一者的侧表面1051可以包括第一侧表面1051-1至第三侧表面1051-3。

第一辊单元1150可以与第一凹槽1051a的四个区域接触，第二辊单元1501b可以与第二凹槽1501b的四个区域接触。

例如，第一辊单元1150可以与第一侧表面1051-1的两个区域和第二侧表面51-1的两个区域接触。第二辊单元1160可以与第一侧表面1015-1的两个区域和第二侧表面51-2的两个区域接触。

第一凹槽1051a的底部1052可以在光轴方向上从线筒1110的下表面具有规定深度。例如，第一凹槽1051a的底部1052可以基于下表面1110，位于比线筒1110的下表面高的位置。

第一凹槽1051a的底部1052可以在其中形成有凹槽或孔1160a。

尽管凹槽1160a可以是通孔，但是本公开不限于此。

第一凹槽1051a的底部1052可以包括彼此间隔开的第一底部1052a和第二底部1052b，并且凹槽1060a可以设置在第一底部1052a与第二底部1052b之间。

由于凹槽1060a，与第一凹槽1051a的底部1052接触的辊p3的表面区域的尺寸可以减小，从而减小辊p3与线筒1110中的凹槽1051a之间的摩擦力，并且减小辊p3与第一支撑件1116a之间的摩擦力。

例如，第一凹槽1051a的第一侧表面1051-1可以在其中形成有第一开口1061a，第一开口1061a形成在线筒1110的侧表面1110c-1中。

第一开口1061a可以使插入或设置在第一凹槽1051a中的辊p1至p3的一部分或表面暴露。

第一开口1061a可以具有足以允许第一支撑件1116a插入到其中的尺寸。

例如，第一开口1061a的水平长度d21可以大于第一支撑件1116a的水平长度d11(d21>d11)，并且第一开口1061a的垂直长度h21可以等于或大于第一支撑件1116a的垂直长度h11(h21≥h11)。

例如，第一支撑件1116a可以插入或设置在第一开口1061a中使得与设置在第一凹槽1051a中的辊p1至p3接触，但是与线筒1110、例如第一凹槽1051a间隔开。

例如，第二支撑件1116b可以插入或设置在第二开口1061b中使得与设置在第二凹槽1051b中的辊q1至q3接触，但是与线筒1110、例如第二凹槽1051b间隔开。

尽管辊p1可以具有柱形状，但是本公开不限于此。

辊p1的长度l可以大于辊p1的直径r。例如，辊p1的直径r与辊p1的长度l之比可以为1:1.5～1:5。

例如，直径与长度之比(r:l)也可以为1:2～1:3。

例如，当辊p1的长度与直径之比(l/r)小于1.5时，防止线筒110在x轴方向或y轴方向上移动的效果可能降低。

当辊p1的长度与直径之比(l/r)大于5时，用于容纳辊的线筒1110的尺寸可能增加，并且可能发生与磁体1130之间的空间干涉。

形成在线筒1110中的第二凹槽1051b也可以具有与第一凹槽1051a相同的形状。关于图20和图21中所示的第一凹槽1051a的描述也可以应用于第二凹槽1051b。

例如，第二凹槽1051b可以具有第二开口1061b，并且第二凹槽1051b的底部可以在其中形成有具有通孔形状的凹槽。

实施例可以进一步包括设置在线筒1110的上部、上端或上表面上的辊盖1125，以防止第一辊单元1150和第二辊单元1160从第一凹槽1051a和第二凹槽1051b分离。在此，辊盖1125可以被称为“盖”，“支撑件”或“防分离部”。

辊盖1125可以设置在线筒1110中的第一凹槽1051a和第二凹槽1051b的上方，以防止第一辊单元1150和第二辊单元1160从第一凹槽1051a和第二凹槽1051b分离。

辊盖1125可以覆盖第一凹槽1051a的至少一部分和第二凹槽1051b的至少一部分。

辊盖1125的至少一部分可以在光轴方向上与第一辊单元1150的辊p1、p2和p3重叠。

辊盖1125的另一部分可以在光轴方向上与第二辊单元1160的辊q1、q2和q3重叠。

线筒1110可以包括形成在其上表面上的突起1119，以支撑辊盖1125。尽管突起1119可以邻接开口1101的内表面的上部，但是本公开不限于此。

例如，突起1119可以包括：弯曲部1119a，弯曲部1119a邻接线筒1110的开口1101的内表面；第一延伸部1119b，第一延伸部1119b连接到弯曲部1119a的一端并且从线筒1110的侧表面1110b-2朝向线筒1110的侧表面1110b-4延伸；以及第二延伸部1119c，第二延伸部1119c连接到弯曲部1119a的另一端并且从线筒1110的侧表面1110b-4延伸并且朝向线筒1110的侧表面1110b-2延伸。

尽管第一延伸部1119b和第二延伸部1119c中的每一个可以具有线性形状，但是本公开不限于此。在另一个实施例中，延伸部可以具有弯曲形状。

止动件1111可以在线筒1110的突起1119(例如弯曲部1119a)与线筒1110的侧表面1110b-1之间位于线筒1110处。

参照图24，辊盖1125可以设置在线筒1110的上部或上表面上。尽管辊盖1125例如可以是注射成型的塑料产品，但是本公开不限于此。在另一个实施例中，辊盖1125可以由磁性体或金属制成。

例如，辊盖1125可以设置在线筒1110的上表面的与线筒1110的第二表面1110c-1邻接的区域(例如第二区域)以及线筒1110的上表面的与线筒1110的第三侧表面1110c-2邻接的另一区域(例如第三区域)处。

例如，辊盖1125也可以设置在线筒1110的上表面的与线筒1110的第一侧表面1110b-1邻接的另一区域(例如第一区域)、第二区域和第三区域处。

辊盖1125可以包括：与线筒1110中的开口1101相对应的弯曲部1125a；与弯曲部1125a中的一端连接并且从线筒1110的侧表面1110b-2朝向侧表面1110b-4延伸的第一延伸部1125b；以及与弯曲部1119a的另一端连接并且从线筒1110的侧表面1110b-4朝向侧表面1110b-2延伸的第二延伸部1125c。

例如，辊盖1125的弯曲部1125a可以与线筒的突起1119的弯曲部1119a相对应，并且弯曲部1125a和弯曲部1119a可以彼此接触。

例如，辊盖1125的弯曲部1125a可以包括与突起1119的弯曲部1119a邻接的曲面或弯曲的侧表面。

例如，辊盖1125的第一延伸部1125b可以与线筒1110的突起1119的第一延伸部1119b相对应，并且两个延伸部1125b和119b可以彼此接触。

例如，辊盖1125的第二延伸部1125c可以与线筒1110的突起1119的第二延伸部1119c相对应，并且两个延伸部1125c和1119c可以彼此接触。

辊盖1125的弯曲部1125a可以在其中形成有与止动件1111相对应的凹槽1125-1，并且止动件1111的一部分可以耦接到或插入到辊盖1125中的凹槽1125-1中。因此，可以增加辊盖1125与线筒1110之间的接触面积，从而增加这两个组件之间的接合力。可以使用粘合构件将辊盖1125附接或耦接到线筒1110。

例如，辊盖1125中的凹槽1125-1可以位于与辊盖1125的与突起1119的弯曲部1119a邻接的曲面(或弯曲的侧表面)相对的侧表面处。

另一个实施例可以取代辊盖1125，包括：第一突出部，第一突出部设置在盖构件1300的顶板上并且位置设置成对应于第一凹槽1051a；以及第二突出部，第二突出部的位置设置成对应于第二凹槽1051b。

接下来，将描述磁体1130。

磁体1130可以设置或安装在线筒1110上。

例如，磁体1130可以设置在线筒1110的侧表面1110b-1上，例如，设置在第一突起118a的外表面中形成的安装凹部1102中。

尽管磁体1130可以具有与线筒1110的侧表面1110b-1相对应的形状，例如，矩形平行六面体形状，但是本公开不限于此。

尽管磁体1130可以是双极磁化磁体以增加由与线圈1120的电磁相互作用产生的驱动力，但是本公开不限于此。

例如，磁体1130可以是双极磁化磁体，其在垂直于光轴oa的方向上被分成两个极。在此，磁体1130可以通过铁氧体磁体、铝镍钴合金磁体、稀土磁体等实现。

例如，磁体1130可以包括：第一磁体部31，第一磁体部31包括n极和s极；第二磁体部32，第二磁体部32包括s极和n极；以及非磁性隔壁33。

第一磁体部31和第二磁体部32可以彼此间隔开，并且非磁性隔壁33可以位于第一磁体部31与第二磁体部32之间。

非磁性隔壁是几乎完全非磁性的部分并且可以包括几乎不具有极性的区域。非磁性隔壁可以填充有空气或非磁性材料，并且可以被称为“中性区域”。

在另一个实施例中，磁体1130可以是包括s极和n极的单极磁化磁体。

接下来，将描述基座1210。

图22是图19所示的基座1210的第一立体图。图23是图19所示的基座1210的第二立体图。

参照图19、图22和图23，基座1210可以耦接到盖构件1300，并且可以与盖构件1300共同限定用于容纳线筒1110的空间。

基座1210可以在其中具有与盖构件1300中的开口和/或线筒1110中的开口相对应的开口1301。基座1210可以具有与盖构件1300的形状相符或相对应的形状，例如，方形形状。

基座1210可以包括：在其中具有开口1301的主体1213；以及从主体1213突出的支柱1216a至1216d。

基座1210的主体1213可以包括角部1217至1217d以及位于角部1217至1217d之间的侧部1218a至1218d。

支柱1216a至1216d中的每一个可以设置在主体1213的角部1217至1217d中的相应的一个角部处。

例如，基座1210可以包括：第一支柱1216a，第一支柱1216a从第一角部1217a向上突出规定高度；第二支柱1216b，第二支柱1216b从第二角部1217b突出规定高度；第三支柱1216c，第三支柱1216c从第三角部1217c突出规定高度；以及第四支柱1216d，第四支柱1216d从第四角部1217d突出规定高度。

基座1210的术语“支柱”可以与“突起”互换使用。

尽管支柱1216a至1216d中的每一个例如可以具有从基座1210的主体1213的上表面垂直地突出的多边形柱形状或者圆形或椭圆形柱形状，但是本公开不限于此。

尽管支柱1216a至1216d中的每一者的横截面可以具有“l”形或诸如三角形的多边形形状，但是本公开不限于此。

尽管基座1210的主体1213的侧部218a至218d中每一个侧部的水平长度可以大于基座1210的主体1213的角部1217至1271d中的每一者的水平长度，但是本公开不限于此。

可以在两个相邻的支柱1216a和1216b、1216b和1216c、1216c和1216d以及1216d和1216a之间限定开口。

尽管支柱1216a至1216d中的每一者距基座1210的主体1214的上表面的高度可以相同，但是本公开不限于此。

基座1210可以包括从主体1213的上表面突出的止动件1023。尽管至少一个止动件1023、例如两个止动件1023可以设置在第二侧部1218b和第四侧部1218d中的每一者上，但是其位置和数量不限于此。每个止动件1023可以被称为“下止动件”。

止动件23可以防止线筒1110的下表面或下端直接与基座1210的主体1213碰撞。

基座1210可以包括设置在支柱1216a至1216d的上表面或上端上的止动件1031。每个止动件1031可以被称为“上止动件”。

例如，基座1210的止动件1031可以是从支柱1216a至1216d的上表面沿光轴方向突出的结构。

基座1210的止动件1031可用于确保在af动作期间供线筒1110移动的空间或间隙。

基座1210的主体1213的外表面的下端可以设置有台阶1211。台阶1211可以与盖构件1300的侧板的下端接触，并且可以引导盖构件1300。这里，可以使用粘合剂等将基座1210的台阶1211和盖构件1300的侧板的下端彼此粘结地并且密封地固定。

基座1210可以包括设置在第一支柱1216a的内表面处的第一支撑件1116a和设置在第二支柱1216b的内表面处的第二支撑件1116b。

第一支撑件1116a可以从第一支柱1216a的内表面突出，第二支撑件可以从第二支柱1216b的内表面突出。

尽管第一支撑件1116a可以具有从第一支柱1216a的内表面突出的柱形形状，例如，半圆柱形状，但是本公开不限于此，并且第一支撑件可以具有各种柱形状。

尽管第二支撑件1116b可以具有从第二支柱1216b的内表面突出的柱形形状，例如，半圆柱形状，但是本公开不限于此，第二支撑件可以具有各种柱形形状。

例如，第一支柱1216a的内表面可以是面对线筒1110的侧表面1110c-1的侧表面，第二支柱1216b的内表面可以是面对线筒1110的侧表面1110c-2的侧表面。

尽管第一支撑件1116a和第二支撑件1116b可以相对于基座1210的第一侧部1218a对称，但是本公开不限于此。

参照图23，第一支撑件1116a可以从第一支柱1216a的下表面延伸到上表面。第一支撑件1116a的上端或上部可以邻接第一支柱1216a的上表面，并且可以位于与第一支柱1216a的上表面相同的平面中；然而，本公开不限于此。

第二支撑件1116b可以从第二支柱1216b的下表面延伸到上表面。第二支撑件1116b的上端或上部可以邻接第二支柱1216b的上表面，并且可以位于与第二支柱1216b的上表面相同的平面中；然而，本公开不限于此。

在另一个实施例中，第一支撑件1116a的上端或上部可以与第一支柱1216a的上表面间隔开。此外，第一支撑件1116a的下端或下部可以与基座1210的主体1213的上表面间隔开。

在另一个实施例中，第二支撑件1116b的上端或上部可以与第二支柱1216b的上表面间隔开。第二支撑件1116b的下端或下部可以与基座1210的主体1213的上表面间隔开。

基座1210可以包括形成在第一支柱1216a和第二支柱1216b以及主体1213中的第一安装凹部41和第二安装凹部42。

第一安装凹部1041和第二安装凹部1042中的每一者可以具有基于基座1210的第一支柱1216a和第二支柱1216b的外表面的台阶结构或两级结构。

第一安装凹部1041可以形成在第一支柱1216a和第二和1216b的外表面以及主体1213的第一侧部1218a的外表面中，并且可以具有与电路板1190的形状相同或相符的形状。

第二安装凹部1042可以位于第一安装凹部1041中，并且可以形成在第一支柱1216a和第二支柱1216b的外表面以及第一侧部1218a的外表面中。第二安装凹部1042可以具有与磁性体1195的形状相同或相符的形状。

接下来，将描述电路板1190。

电路板1190可以设置在基座1210处或固定到基座1210。例如，电路板1190可以固定到基座1210的第一支柱1216a和第二支柱1216b。或者，电路板1190可以设置在第一支柱1216a和第二支柱1216b以及主体1213的第一侧部1218a处或固定到第一支柱1216a和第二支柱1216b以及主体1213的第一侧部1218a。

例如，电路板1190可以设置在第一安装凹部1041中。

电路板1190可以包括与线圈导电连接的端子。电路板的端子可以包括第一端子1091和第二电路板1092。电路板1190的端子可以设置在主体1213处。

例如，电路板1190可以是印刷电路板或柔性印刷电路板。

接下来，将描述线圈1120。

线圈1120可以设置、安装或固定到电路板1190使得对应于磁体1130或面对磁体1130。例如，线圈1120可以设置在电路板1190的第一表面上，并且端子1091和1092设置在电路板1190的第二表面上。

电路板1190的第一表面可以是面对磁体1130的表面，电路板1190的第二表面可以是与电路板1190的第一表面相对的表面。

尽管可以使用粘合构件将线圈1120固定或附接到电路板1190，但是本公开不限于此。

线圈1120可以位于基座1210的第一支柱1216a与第二支柱1216b之间。

例如，线圈1120可以是环形线圈环。例如，线圈1120可以具有其水平长度大于其垂直长度的环形形状。

为了产生由与磁体1130的电磁相互作用引起的电磁力，这里，施加于线圈1120的驱动信号可以是dc信号，并且可以是电压类型或电流类型。例如，施加于线圈1120的驱动信号可以包括dc信号和ac信号中的至少一者。

被施加驱动信号的线圈1120可以与设置在线筒1110处的磁体1130电磁相互作用，并且af动作单元可以通过由线圈1120与磁体1130之间的电磁相互作用产生的电磁力沿第一方向移动。

通过控制驱动信号的强度，可以控制af动作单元在第一方向上的移动，因此可以执行自动聚焦功能。

af动作单元可以包括线筒1110和安装在线筒1110上并与线筒1110一起移动的部件。例如，af动作单元可以包括线筒1110和磁体1130。

线圈1120可以与电路板1190的第一端子1091和第二端子1092导电连接。例如，线圈1190的两端可以与设置在第一表面处的焊盘(未示出)导电连接，并且焊盘(未示出)可以与电路板1190的第一端子1091和第二端子1092中的相应的一个导电连接。

驱动信号可以经由第一端子1091和第二端子1092施加于线圈1120。

图24是透镜移动设备1100的俯视图，从该透镜移动设备1100中去除了盖构件1300。图25是图24所示的透镜移动设备110的沿线a-b截取的剖视图。图26是图24所示的透镜移动设备1100的沿线c-d截取的剖视图。

参照图24，线筒1110中的开口1101的中心1007a可以不与基座1210的中心1007b对齐，或者可以不与基座1210的中心1007b重合。

例如，线筒1110中的开口1101的中心1007a可以位于比基座1210的中心1007b更远离磁体1130的位置。例如，安装在线筒1110上的透镜的中心可以位于比基座1210的中心1007b更远离磁体1130的位置。

例如，基座1210的中心1007b可以位于线筒1110中的开口1101的中心1007a与磁体1130之间。

线筒1110的突起1118a至1118d可以位于基座1210的支柱1216a至1216d之间。

例如，线筒1110的突起1118a至1118d中的每一者可以位于两个相邻的支柱1216a和1216b、1216b和1216c、1216c和1216d以及1216d和1216a之间。由于线筒1110的突起1118a至1118d设置在支柱1216a和1216b、1216b和1216c、1216c和1216d、以及1216d和1216a之间的空间中，因此可以降低或减小透镜移动设备1100的尺寸。

第一辊单元1150和第二辊单元1160的辊p1至p2和辊q1至q3中的每一者可以与第一凹槽1051a和第二凹槽1051b的侧表面1051接触。例如，辊p1至p2和辊q1至q3中的每一者的外表面可以与第一凹槽1051a和第二凹槽1051b的侧表面1051进行表面接触。

在另一个实施例中，第一凹槽1051a和第二凹槽1051b的侧表面1051可以设置有多个突出部。多个突出部可以与辊p1至p3和辊q1至q3的外表面接触。

图30a至图30c是线筒1110的其他实施例1110a的局部立体图。

参照图30a至图30c，线筒1110a中的第一凹槽1051a的侧表面1051可以设置有与辊p1至p3相对应的多个突出部1014a至1014c或1014d。

在图30a中，突出部1014a、1014a和1014c可以设置在第一凹槽1051a的第一侧表面1051-1和第二侧表面1051-2上。

在图30b中，突出部1014a、1014b和1014c可以设置在第一凹槽1051a的第一侧表面至第三侧表面1051-1、1051-2和1051-3上。

在图30a和图30b中，突出部1014a、1014b和1014c中的每一者可以具有半球形或圆顶形。

在图30c中，每个突出部1014d可以具有线性突起形状，并且其横截面可具有半圆形或弧形形状。

辊p1至p3和辊q1至q3中的每一者的外表面或侧表面可以与多个突出部1014a至1014d接触，但是可以与第一侧表面至第三侧表面1051-1、1051-2和1051-3间隔开。

线筒1110a的第二凹槽1051b的侧表面1051可以设置有与辊q1至q3对应的多个突出部。关于图30a至图30c所示的线筒1110a中的第一凹槽1051b的侧表面1051处设置的突出部1014a至1014d的描述也适用于线筒1110a中的第二凹槽1051b。

在图30a至图30c中，由于辊p1至p3和辊q1至q3可以与突出部1014a至1014d进行点接触或线接触，因此，与线筒1110和辊之间的摩擦力相比，图30a至图30c所示的线筒1110a与辊p1、p2和p3之间的摩擦力可以减小。

参照图25，在af动作单元(例如，线筒1110)的初始位置处，线圈1120可以在从第一支柱1216a朝向第四支柱1216d的方向上与磁体1130重叠。

这里，af动作单元、例如线筒1110的初始位置可以是在未向线圈1120施加电力的状态下af动作单元的原始位置。另外，af动作单元的初始位置可以是当重力作用于从线筒1110到基座1210的方向时或当重力作用于从基座1210到线筒1110的方向时af动作单元所位于的位置。

例如，在从第一支柱1216a朝向第四支柱1216d的方向上，线圈1120的上部1120-1可以与磁体1130的第一磁体部1031重叠，线圈1120的下部1120-2可以与磁体1130的第二磁体部1032重叠，并且线圈1120的上部1120-1和下部1120-2之间的空间可以与磁体1130的非磁性隔壁1033重叠。

图27是图24的局部放大图。图27的描述也可以应用于第二支柱1216b的第二辊单元1160和第二支撑件1116b。

参照图24和图27，第一辊单元1150的辊p1至p3可以设置为相对于第一基准线1501以第一角度θ11倾斜。

此外，第二辊单元1160的辊q1至q3可以设置为相对于第一基准线以第二角度倾斜。

这里，第一基准线1501可以是与从第一支柱1216a朝向第二支柱1216b的方向平行的假想线(例如，x轴)。例如，第一基准线1501可以延伸穿过第一辊单元1150的辊(例如，p1、p2和p3)与基座1210的第一支撑件1116a相遇的点。或者，第一基准线可以延伸穿过第二辊单元1160的辊(例如，q1、q2和q3)与基座1210的第二支撑件1116b相遇的点。

例如，第一辊单元1150的辊(例如，p1)的中心轴601(参见图6)可以相对于第一基准线1501以第一角度(θ11)倾斜。此外，第二辊单元1160的辊(例如，q1)的中心轴可以相对于第一基准线以第二角度倾斜。

例如，第一角度θ11可以是第一辊单元1150的辊(例如，p1)的中心轴601(参见图4)与第一基准线1501之间的角度，并且第二角度可以是第二辊单元1160的辊(例如，q1)与第一基准线之间的角度。

例如，第一角度θ11可以是第一辊单元1150的辊(例如，p1)的中心轴601相对于第一基准线1501顺时针旋转的角度。

此外，第二角度可以是第二辊单元1160的辊(例如，q1)的中心轴相对于第一基准线顺时针旋转的角度。

例如，辊(例如，p1)的中心轴601可以是延伸穿过辊(例如，p1)的中心并且与辊(例如，p1)的纵向方向平行的轴。例如，辊(例如，p1)的中心可以是辊的直径中心。关于第一辊单元1150的辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601的描述可以应用于第二辊单元1160的辊(例如，q1、q2和q3)的中心轴。

第一辊单元1150的辊(例如，p1、p2和p3)中的每一个可以设置为使得中心轴601设置为垂直于光轴oa，并且可以绕光轴旋转。

第二辊单元1160的辊(例如，q1，q2和q3)中的每一个可以设置为使得中心轴设置为垂直于光轴oa，并且可以绕光轴旋转。

第一角度θ11和第二角度可以彼此不同。

例如，第一角度θ11可以为30°～60°，第二角度可以为120°～150°。例如，第二角度可以为通过从180°中减去第一角度θ11而获得的值。

例如，第一角度θ11可以为40°～50°。

例如，第一角度θ11可以为43°～47°。

例如，第一角度θ11可以为45°。

当第一角度θ11小于40°时，抑制线筒1110在x轴方向上移动的效果可能减小。当第一角度θ11小于40°时，抑制线筒1110在x轴方向上移动的效果可能减小。当第一角度θ11大于60°时，抑制线筒1110在y轴方向上移动的效果可能减小。

由于第一辊单元1150的辊p1至p3设置为相对于第一基准线1501以第一角度θ11倾斜，第二辊单元1160的辊q1至q3设置为相对于第一基准线以第二角度倾斜，因此可以抑制线筒1110在与第一基准线1501平行的方向上(例如，在x轴方向上)或在与第二基准线1502平行的方向上(例如，在y轴方向上)移动。例如，第二基准线1502可以是垂直于第一基准线1501的假想线。

例如，当第一角度θ11为45°并且第二角度为135°时，第一辊单元1150的辊p1至p3以及第二辊单元1160的辊q1、q2和q3能够以平衡方式抑制线筒1110在x轴方向和y轴方向上的移动。

例如，基座1210的第一支撑件1116a的中心线1503和第一辊单元1150的辊(例如，p1、p2和p3)的中心轴601可以彼此垂直，并且基座1210的第二支撑件1116b的中心线和第二辊单元1160的辊(例如，q1、q2和q3)的中心轴可以彼此垂直；然而，本公开不限于此。

第一支撑件1116a的中心线1503可以是延伸穿过第一支撑件与辊(例如，p1、p2或p3)接触的点并将第一支撑件1116a分为两个部分的线。例如，第一支撑件1116a的中心线1503可以是将第一支撑件1116a分成两个对称部分的线。

此外，第二支撑件1116b的中心线可以是延伸穿过第二支撑件与辊(例如，q1、q2或q3)接触的点并且将第二支撑件1116b分为两个部分的线。例如，第二支撑件1116b的中心线可以是将第二支撑件1116b分成两个对称部分的线。

在图27中，关于第一辊单元1150的辊p1至p3的设置的描述也可以应用于第二辊单元1160的辊q1至q3的设置。

参照图24，第一辊单元1150和第二辊单元1160可以与从第一支柱1216a朝向第四支柱1216d的方向平行，并且可以相对于延伸穿过线筒1110中的开口1101的中心的中心线1701(参见图24)对称设置。

接下来，将描述磁性体1195。

磁性体1195可以设置在基座1210处，并且可以位于线圈1120的下方。吸引力可以作用于磁性体1195与磁体1130之间。

例如，磁性体1195可以基于基座1210的下表面位于比磁体1130低的位置，并且可以用于抑制在线筒1110的移动过程中线筒1110的倾斜。磁性体1195也可以被称为“倾斜抑制器”、“倾斜补偿器”或“倾斜控制器”，因为磁性体抑制线筒1110的倾斜的发生。

在根据实施例的透镜移动设备1100中，因为磁体1130仅设置在线筒1110的一个侧表面1110b-1上，并且仅一个线圈1120设置为与一个磁体1130相对应，所以在设置有磁体1130的线筒1110的侧表面(例如，1110b-1)和其的相对的侧表面1110b-3之间可能发生电磁力的不平衡。

由于电磁力的不平衡，在线筒1110的移动过程中可能发生线筒1110的倾斜。然而，由于磁性体1195由被磁体1130吸引的材料制成，因此能够抑制线筒的倾斜的发生。

磁性体1195可以由被磁体吸引的材料、例如磁性材料(例如表现出磁性的材料)构成。

在另一个实施例中，磁性体1195可以由被磁体吸引的材料、例如金属材料(例如铁)实现。

磁性体1195可以设置在基座1210的外表面上。

例如，磁性体1195可以设置在第一支柱1216a和第二支柱1216b的外表面以及基座1210的主体1213的第一侧部1218a的外表面上。例如，磁性体1195可以设置在第二安装凹部1042中。

磁性体1195可以具有板状。

例如，磁性体1195可以包括：设置在主体1213的外表面上的板1195-1；设置在第一支柱1216a的外表面上并且从板1195-1的一端向上延伸的第一延伸部1195-2；以及设置在第二支柱1216b的外表面上并且从板1195-1的另一端向上延伸的第二延伸部1195-3。

磁性体1195的板1195-1可以设置在基座1210的主体1213的第一侧部1218a的外表面上。例如，可以使用粘合构件将磁性体1195固定或附接到基座1210。

第一延伸部1195-2可以设置在第一支柱1216a的侧表面(例如，外表面)上，并且可以在从基座1210的下表面朝向上表面的方向上延伸。

第二延伸部1195-3可以设置在第二支柱1216b的侧表面(例如，外表面)上，并且可以在从基座1210的下表面朝向上表面的方向上延伸。

第一延伸部1195-2和第二延伸部1195-3能够增加磁性体1195与基座1210之间的接合力。

为了增加作用于磁体1130与磁性体1195之间的力，磁性体1195的板1195-1的水平长度l1(参见图1)可以大于磁体1130的水平长度l2(参见图20)；然而，本公开不限于此。在另一个实施例中，l1可以等于l2。

因为吸引力作用于磁性体1195与磁体1130之间，所以，即使未向线圈1120施加驱动信号，也可以设定线筒1110的初始位置。

例如，当驱动信号未施加于线圈1120时，作用于磁性体1195与磁体1130之间的力可以使线筒1110设置在最低位置处。这里，线筒1110的最低位可以是在线筒1110的位移范围内距基座210的最低位置。这里，线筒1110的最低位置可以是线筒1110的初始位置。

例如，当未向线圈1120施加驱动信号时，作用于磁性体1195与磁体1140之间的力可以等于或大于使线筒1110设置在最低位置处所需的力。

由于可以通过作用于磁性体1195与磁体1130之间的吸引力来设定线筒1110的初始位置，因此，即使没有附加的位置传感器也可以执行准确的af动作。

由于线筒1110的中心不与基座的中心对齐并且仅使用一个磁体1130，因此实施例能够减少部件的数量。

由于实施例包括辊取代弹簧，因此，与采用弹簧的透镜移动设备相比，实施例能够减少在af动作期间消耗的电流量。此外，由于稳定化时间减少，因此可以提高af动作的速度。

由于磁性体1195和磁体1130设置在基座1210的主体1213的一个侧部1218a处，所以实施例能够同时执行倾斜补偿和驱动动作。

由于第一辊单元1150的辊p1至p3相对于第一基准线1501以第一角度倾斜，并且第二辊单元1160的辊q1至q3相对于第一基准线以第二角度倾斜，因此实施例能够抑制线筒1110在x轴方向和y轴方向上的移动。

尽管图19至图27所示的实施例不包括位置传感器，但是本公开不限于此。根据另一实施例的透镜移动设备可以包括位置传感器。

图28示出了位置传感器1170，该位置传感器1170附加地设置在透镜移动设备1100处。图29示出了包括图28所示的位置传感器1170的实施例的剖视图。

参照图28和图29，位置传感器1170可以设置或安装在电路板1190上，并且可以位于在线圈1120的中心形成的空间中。

例如，位置传感器1170可以位于线圈1120的上部1120-1与下部1120-2之间的空间中。

例如，位置传感器1170可以在从第一支柱1216a朝向第四支柱1216d的方向上与磁体1130的非磁性隔壁1033重叠。

位置传感器1170可以根据线筒1110的移动来检测安装在线筒1110上的磁体1130的磁场的强度，并且可以输出与检测到的强度相对应的输出信号。位置传感器1170可以设置在电路板1190的第一表面上。这里，电路板1190的第一表面可以是在其上设置线圈1120的表面。

位置传感器1170可以实现为包括霍尔传感器的驱动ic型传感器，或者可以仅实现为诸如霍尔传感器等的单个位置检测传感器。

例如，当位置传感器1170仅通过一个霍尔传感器实现时，位置传感器1170可以包括两个输入端子和两个输出端子。

电路板1190可以导电地连接到位置传感器1170。

例如，位置传感器1170的四个端子可以导电地连接到电路板1190。

电路板1190可以包括多个端子91-1至91-6，并且多个端子中的一部分端子可以与位置传感器1170的四个端子导电地连接。

例如，电路板1190可以包括导电地连接到线圈1120的两个端子(例如，91-1和91-2)、以及导电地连接到位置传感器1170的四个端子(例如，91-3至91-6)。

当位置传感器1170是包括霍尔传感器的驱动ic型传感器时，电路板1190可以包括导电地连接到位置传感器1170的四个端子，因为驱动信号从位置传感器1170施加于线圈1120。

由于实施例被配置为使得第一辊单元1150和第二辊单元1160设置在线筒1110处，因此可以增加基座1210中的可用空间的量，并因此有利于实现磁体1130和线圈1120的期望长度。

此外，当位置传感器1170由位置传感器和与其一体地形成的驱动器来实现时，可以确保允许位置传感器及驱动器安装在其中的充足的空间。

图31是根据又一实施例的透镜移动设备2000的立体图。图32是图31所示的透镜移动设备2000的分解立体图。图33是图31的透镜移动设备2000的沿线a-a’截取的剖视图。图34是图31的透镜移动设备2000的沿线b-b’截取的剖视图。图35是图32中示出的壳体2200、线圈2300、辊2400、屏蔽构件2500和基座2600的立体图。图36是图32中示出的壳体2200、线圈2300、辊2400和端子2600的立体图。图37是图32中示出的线筒2700的立体图。图38是图32示出的线筒2700、第一磁体2810和第二磁体2820的立体图。图39是示出图32所示的透镜移动设备2000的俯视图，其中辊2400与壳体2200的基座b接触。

在根据实施例的透镜移动设备2000中，安装在线筒2700上的透镜模块2010与线筒2700一起垂直地(或沿光轴方向)移动，以执行自动聚焦功能。

透镜移动设备2000可以包括盖2100、壳体2200、辊2400、屏蔽构件2500、端子2600、线筒2700和磁体2800。

盖2100可以是透镜移动设备2000的外部构件。

盖2100可以包括金属材料。盖2100可以阻止电磁波从其外部向其内部的引入或电磁波从其内部向其外部的辐射。因此，盖2100可以被称为“屏蔽罐”。然而，盖2100的材料不限于此。在一个示例中，盖2100可以包括塑料材料。

盖2100可以包括顶板2110和侧板2120。盖2100的顶板2110和侧板2120可以一体地形成。

盖2100的顶板2110可以被配置为具有带圆角的方形板的形式。孔2111可以形成在盖2100的顶板2110的中心以与光轴对齐。

盖2100的侧板2120可以从顶板2110的周缘向下延伸。盖2100的侧板2120的数量可以是多个。

盖2100的侧板2120可以包括：从顶板2110的第一侧向下延伸的第一侧板；从顶板2110的第二侧向下延伸的第二侧板；从顶板2110的第三侧向下延伸的第三侧板；以及从顶板2110的第四侧向下延伸的第四侧板。

换句话说，盖2100可以被配置为具有带圆角的矩形平行六面体的形状，在其上表面中形成有孔，并且其下表面处是开放的。盖2100中的下部开口可以通过壳体2200的基座b封闭。当盖2100耦接到壳体2200时，盖2100的侧板2120的下表面可以接触(可以面对)壳体2200的基座b的上表面。将粘合剂施加(设置)到盖2100的侧板2120的下表面与壳体220的基座b的上表面接触的接触区域或盖2100的侧板2120的下表面与基座b的上表面之间的区域。

盖2100与壳体2200的基座b之间限定的内部空间可以在其中容纳壳体2200的其余部分、线圈2300、辊2400、屏蔽构件2500、端子2600、线筒2700和磁体2800。

在盖2100的多个侧板2120中，面对线圈2300的侧板中设置有端子暴露部2121。端子暴露部2121可以从多个侧板2120中的面对线圈2300的侧板的下端向上形成。

端子2600的第一的第二端子部2612和第二第二端子部2622可以通过端子暴露部2221暴露于外部。

壳体2200可以设置在盖2100的内部。壳体2200可以设置在盖2100的下方。线筒2700可以设置在壳体2200中。

线圈2300、辊2400、屏蔽构件2500和端子2600可以设置在壳体2200中。壳体2200可以包括塑料材料。壳体2200可以是注塑成型的塑料产品。

壳体2200可以包括：基座b、第一支柱c1、第二支柱c2、第三支柱c3、第四支柱c4、第一连接器2210、第二连接器2220、第一侧壁2230、第二侧壁2240、第三侧壁2250、第一保持器2211、第二保持器2212、端子容纳部2221、第一止动件2231、第二止动件2251、第一屏蔽壁2241、第二屏蔽壁2242、支撑件2243、第一台阶部2244、第二台阶部2245、第一触点2246和第二触点2247。

壳体2200的基座b可以设置在盖2100的下方。壳体2200的基座b可以耦接到盖2100。壳体2200的基座b可以支撑盖2100。这里，盖2100的多个侧板的下表面可以与基座b的上表面接触。壳体2200的基座b可以具有方形板的近似形式。

壳体2200的第一支柱c1、第二支柱c2、第三支柱c3和第四支柱c4可以分别设置在基座b的四个拐角处。壳体2200的第一支柱c1、第二支柱c2、第三支柱c3和第四支柱c4可以从基座b向上突出。壳体2200的第一支柱c1、第二支柱c2、第三支柱c3和第四支柱c4可以彼此间隔开。壳体2200的第一支柱c1、第二支柱c2、第三支柱c3和第四支柱c4的位置可以设置成与基座b的四个拐角中的每一个拐角相对应。

壳体2200的第一支柱c1可以设置有向外突出的第一保持器2211。壳体2200的第二支柱c2可以设置有向外突出的第二保持器2212。

壳体2200的第一保持器2211和第二保持器2212可以设置于在由线圈2300的第一线圈部2310、第二线圈部2320、第三线圈部2330和第四线圈部2340之间限定的空间中，以固定线圈2300。

壳体2200的第一连接器2210和第二连接器2220可以位于第一支柱c1与第二支柱c2之间。壳体2200的第一连接器2210和第二连接器2220可以将第一支柱c1连接到第二支柱c2。

壳体2200的第一连接器2210可以位于第二连接器2220的上方。壳体2200的第二连接器2220可以位于第一连接器2210的下方。

壳体2200的第一连接器2210可以将第一支柱c1的上端连接到第二支柱c2的上端。壳体2200的第二连接器2220可以将第一支柱c1的下端连接到第二支柱c2的下端。第一连接器2210和第二连接器2220可以位于第一支柱c1和第二柱c2的外部。换句话说，壳体2200的第一连接器2210和第二连接器2220可以将第一支柱c1的外表面连接到第二支柱c2的外表面。

线圈2300可以位于壳体2200的第一连接器2210与第二连接器2220之间。壳体2200的第一连接器2210的下表面可以与第一线圈部2310的上表面接触。可以将粘合剂设置在壳体2200的第一连接器2210与线圈2300接触的接触区域处。

端子2600可以设置在壳体2200的第二连接器2220与线圈2300之间。第一第一端子部2611和第二第一端子部2621可以设置在壳体2200的第二连接器2220的上表面与第二线圈部2320的下表面之间。

端子容纳部2221可以形成在壳体2200的第二连接器2220的中心。端子容纳部2221可以从第二连接器2220的外表面向内形成。端子容纳部2221的位置可以设置成直接面对盖2100中的端子暴露部。端子容纳部2221可以使基座b的下端从壳体2200的第二连接器2220延伸。

第一第二端子部2612和第二第一端子部2622可以设置在壳体2200中的端子容纳部2221中。这里，第一第二端子部2612和第二第一端子部2622的内表面可以面对端子容纳部2221并且可以与端子容纳部2221接触。第一第二端子部2612和第二第一端子部2622的外表面可以通过盖2100中的端子暴露部2121暴露于外部。

壳体2200的第一侧壁2230可以位于第二支柱c2与第三支柱c3之间。壳体2200的第一侧壁2230可以将第二支柱c2连接到第三支柱c3。壳体2200的第一侧壁2230可以面对第三侧壁270，其中线筒2700设置在第一侧壁2230与第三侧壁270之间。壳体2200的第一侧壁2230可以在其中心处设置有向内突出的第一止动件2231。

壳体2200的第一止动件2231可以面对第二止动件2251，其中线筒2700设置在第一止动件2231与第二止动件2251之间。壳体2200的第一止动件2231可以采取垂直延伸的半圆柱形式。换句话说，壳体2200的第一止动件2231的内表面可以设置有曲率。第一止动件2231的水平截面可以具有半圆形形状。

壳体2200的第一止动件2231可以容纳在线筒2700中的第一凹槽2720中。壳体2200的第一止动件2231可以具有与线筒2700中的第一凹槽2720相对应的形状。壳体2200的第一止动件2231可以与线筒2700间隔开规定距离。当发生线筒2700的倾斜时，壳体2200的第一止动件2231可以与线筒2700接触，从而防止线筒2700的倾斜。

壳体220的第二侧壁2240可以位于第三支柱c3与第四支柱c4之间。壳体2200的第二侧壁2240可以将第三支柱c3连接到第四支柱c4。壳体2200的第二侧壁2240可以面对第一连接器2210和第二连接器2220，其中线筒2700设置在壳体2200的第二侧壁2240与第一连接器2210和第二连接器2220之间。壳体2200的第二侧壁2240的内表面可以设置有辊2400。

屏蔽构件2500可以设置在第二侧壁2240上。

壳体2200的第二侧壁2240的外表面可以设置有第三磁体2830。

壳体2200的第三支柱c3可以设置有第一屏蔽壁2241，第一屏蔽壁2241从第三支柱c3朝向第四支柱c4突出。第一屏蔽壁2241可以位于第二侧壁2240的内部。第一屏蔽壁2241可以与壳体2200的第二侧壁2240间隔开。

辊2400的一端可以位于壳体2200的第一屏蔽壁2241与第二侧壁2240之间。第一屏蔽壁2241的外表面可以与辊2400接触。如图39的(1)中所示，第一屏蔽壁2241的外表面可以是平坦的。其结果，第一屏蔽壁2241的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)彼此进行线接触。或者，如图29的(2)所示，第一屏蔽壁2241的外表面可以朝向辊2400凸出。其结果，第一屏蔽壁2241的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)彼此进行点接触。

壳体2200的第四支柱c4可以设置有第二屏蔽壁2242，第二屏蔽壁2242从第四支柱c4朝向第三支柱c3突出。第二屏蔽壁2242可以位于第二侧壁2240的内部。壳体2200的第二屏蔽壁2242可以与第二侧壁2240间隔开。辊2400的另一端可以位于壳体2200的第二屏蔽壁2242与第二侧壁2240之间。第二屏蔽壁2242的外表面可以与辊2400接触。如图39的(1)所示，第二屏蔽壁2242的外表面可以是平坦的。其结果，第二屏蔽壁2242的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)处彼此进行线接触。

或者，如图39的(2)所示，第二屏蔽壁2242的外表面可以朝向辊2400凸出。其结果，第二屏蔽壁2242的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)处彼此进行点接触。

壳体2200的基座b可以设置有向上突出的支撑件2243。支撑件2243可以位于壳体2200的第二侧壁2240的内侧。

支撑件2243可以位于辊2400的下方。支撑件2243的上表面可以与辊2400接触以支撑辊2400。支撑件2243的上表面可以与第一辊2410接触以支撑第一辊2410。

壳体2200的第三支柱c3的上表面可以设置有向下凹陷的第一台阶部2244。第一台阶部2244可以位于第二侧壁2240与第一屏蔽壁2241之间。

壳体2200的第四支柱c4的上表面可以设置有向下凹陷的第二台阶部2245。第二台阶部2245可以位于壳体2200的第二侧壁2240与壳体2200的第二屏蔽壁2242之间。

屏蔽构件2500可以设置在壳体2200的第一台阶部2244和第二台阶部2245上。这里，屏蔽构件2500的第一屏蔽部2510可以设置在第一台阶部2244上。屏蔽构件2500的第二屏蔽部2520可以设置在第二台阶部2245上。

壳体2200的第二侧壁2240可以设置有第一触点2246，第一触点2246从第二侧壁2240的内表面朝向辊2400的一端突出。第一触点2246可以与辊2400接触。第一触点2246可以垂直地延伸。如图39的(1)所示，第一触点2246的外表面可以是平坦的。其结果，第一触点2246的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)彼此接触。

或者，如图39的(2)所示，第一触点2246的外表面可以朝向辊2400的一端凸出。换句话说，第一触点2246可以具有半圆柱形状。其结果，第一触点2246的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)彼此进行点接触。

壳体2200的第二侧壁2240可以设置有第二触点2247，第二触点2247从第二侧壁2240的内表面朝向辊2400的另一端突出。第二触点2247可以与辊2400接触。

第二触点2247可以垂直地突出。如图39的(1)所示，第二触点2247的外表面可以是平坦的。其结果，第二触点2247的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)处彼此进行线接触。或者，如图39的(2)所示，第二触点2247的外表面可以朝向辊2400的另一端凸出。换句话说，第二触点2247可以具有半圆柱形状。其结果，第二触点2247的外表面和辊2400可以在相同的高度(垂直截面中)彼此进行点接触。

壳体2200的第三侧壁2250可以位于第四支柱c4与第一支柱c1之间。壳体2200的第三侧壁2250可以将第四支柱c4连接到第一支柱c1。壳体2200的第三侧壁2250可以面对第一侧壁2230，其中线筒2700设置在第三侧壁2250与第一侧壁2230之间。壳体2200的第三侧壁2250可以在其中心处设置有向内突出的第二止动件2251。

第二止动件2251可以面对第一止动件2231，其中线筒2700设置在第二止动件2251与第一止动件2231之间。第二止动件2251可以具有垂直地延伸的半圆柱形状。换句话说，第二止动件2251的内表面可以形成有曲率。第二止动件2251的水平截面可以具有半圆形形状。

壳体220的第二止动件2251可以容纳在线筒2700中的第二凹槽2730中。壳体2200的第二止动件2251可以具有与线筒2700中的第二凹槽2730的形状相对应的形状。壳体2200的第二止动件2251可以与线筒2700间隔开规定距离。当发生线筒2700的倾斜时，壳体2200的第二止动件2251可以与线筒2700接触，从而防止线筒2700的倾斜。

线圈2300可以设置在壳体2200处。线圈2300可以设置在壳体2200的第一支柱c1和第二支柱c2的外表面上。线圈2300的至少一部分可以通过在第一支柱c1与第二支柱c2之间限定的开口暴露于壳体2200的内部。

可以将线圈2300设置成使得线圈2300的暴露于壳体2200内部的部分直接面对磁体2800。线圈2300可以面对辊2400，其中线筒2700设置在线圈2300与辊2400之间。线圈2300可以位于第一连接器2210与第二连接器2220之间。

线圈2300可以由壳体2200的第一保持器2211和第二保持器2212保持。

线圈2300可以导电地连接到端子2600。这里，线圈2300的一根配线可以导电地连接到第一端子2610的第一第一端子部2611，而线圈2300的另一根配线可以导电地连接到第二端子2620的第二第一端子部2621。

取代图1和图19所示的电路板190、1190，图32和图36所示的端子600的第一端子2610和第二端子2620可以被设置在基座210、1210处。这里，可以应用关于图32和图36所示的端子600的第一端子2610的第一第一端子部2611和第二端子2620的第二第一端子部2621的描述。

当电流施加到线圈2300时，线圈2300可以与磁体2800的第一磁体2810电磁相互作用，从而向线筒2700提供af动作所需的力。这里，电流经由端子2600从基板2030(参见图41)供应给线圈2300。可以控制施加于线圈2300的电流的强度、波长、方向等。

线圈2300可以包括第一线圈部2310、第二线圈部2320、第三线圈部2330和第四线圈部2340。

第一线圈部2310可以位于第二线圈部2320的上方。第一线圈部2310可以从第一支柱c1的外表面朝向第二支柱c2的外表面延伸。

第二线圈部2320可以位于第一线圈部2310的下方。第二线圈部2320可以从壳体2200的第二支柱c2的外表面朝向第一支柱c1的外表面延伸。

第三线圈部2330可以将第一线圈部2310的一端连接到第二线圈部2320的一端。第四线圈部2340可以将第一线圈部2310的另一端连接到第二线圈部2320的另一端。因此，线圈2300可以具有环形形状。

辊2400可以设置在壳体2200处。辊2400可以位于壳体2200的第二侧壁2240内部。辊2400可以位于壳体2200的第三支柱c3与第四支柱c4之间。辊2400可以面对线圈2300，其中线筒2700插设在辊2400与线圈2300之间。辊2400可以面对第三磁体2830，其中第二侧壁2240设置在辊2400与第三磁体2830之间。

辊2400可以设置在第二磁体2820与第三磁体2830之间。辊400的一端可以位于壳体2200的第二侧壁2240与第一屏蔽壁2241之间。辊2400的另一端可以设置在壳体2200的第二侧壁2240与第二屏蔽壁2242之间。

辊2400可以包括塑料材料。辊2400可以是注塑成型塑料产品。

辊2400的一端可以与壳体2200的第二侧壁2240的第一触点2246接触并可以由其支撑。辊2400的一端可以与壳体2200的第一屏蔽壁2241的外表面接触并可以由其支撑。

辊2400的另一端可以与壳体2200的第二侧壁2240的第二触点2247接触，并可以由其支撑。辊2400的另一端可以与壳体2200的第二屏蔽壁2241的外表面接触并可以由其支撑。辊2400的中间部分可以与线筒2700的第三触点2740和第四触点2750接触。这里，辊2400可以支撑线筒2700。

辊2400可以具有圆柱形状。辊2400的轴可以从壳体2200的第三支柱c3延伸到第四支柱c4。辊2400可以具有曲面，该曲面被配置为绕从壳体2200的第三支柱c3延伸到第四支柱c4的轴旋转。辊2400可以具有曲面，该曲面被配置为绕从壳体2200的第三支柱c3延伸到第四支柱c4的轴而周向地设置。因此，辊2400不仅能够在垂直方向上引导线筒2700，而且能够当线筒2700垂直地(在上下方向上)移动时在水平方向上支撑线筒2700。

壳体2200的支撑件2243可以位于辊2400的下方。屏蔽构件2530可以位于辊2400的上方。

辊2400可以包括多个辊。在示例中，辊2400的数量可以是三个。辊2400可以包括垂直地层叠的第一辊2410、第二辊2420和第三辊2430。

第一辊2410可以与支撑件2243接触并可以由其支撑。屏蔽构件2500可以位于第三辊2430的上方。因此，屏蔽构件2500能够防止辊2400向上移动并与线筒2700一起与壳体2200分离。

屏蔽构件2500可以设置在壳体2200处。屏蔽构件2500可以设置在辊2400的上方。屏蔽构件2500可以设置在辊2400的上方。屏蔽构件2500可以设置在第三辊2430的上方。屏蔽构件2500的下表面可以面对辊2400。屏蔽构件2500可以具有板状。屏蔽构件2500可以包括第一屏蔽部2510、第二屏蔽部2520和第三屏蔽部2530。

屏蔽构件2500的第一屏蔽部2510可以设置在壳体2200的第三支柱c3上。屏蔽构件2500的第一屏蔽部2510可以设置在壳体2200的第一台阶部2244上。屏蔽构件2500的第一屏蔽部2510的下表面可以与壳体2200的第一台阶部2244的上表面接触。

屏蔽构件2500的第二屏蔽部2520可以设置在壳体2200的第四支柱c4上。屏蔽构件2500的第二屏蔽部2520可以设置在壳体2200的第二台阶部2245上。屏蔽构件2500的第二台阶部2520的下表面可以与壳体2200的第二台阶部2245的上表面接触。

屏蔽构件2500的第三屏蔽部2530可以将第一屏蔽部2510连接到第二屏蔽部2520。屏蔽构件2500的第三屏蔽部2530可以设置在壳体2200的第二侧壁2240上。屏蔽构件2500的第三屏蔽部2530的下表面可以与壳体2200的第二侧壁2240的上表面接触。

端子2600可以设置在壳体2200处。端子2600可以设置在壳体2200的第二连接器2220与线圈2300之间。端子2600可以导电地连接到线圈2300。端子2600可以导电地连接到相机模块的基板2030。端子2600可以包括导电材料。端子2600可以包括磁性材料。端子2600可以包括金属。

端子2600可用于向线圈2300供应电流。

因为端子是磁性的，所以吸引力可以作用于端子2600与磁体2800的第一磁体2810之间。其结果，端子2600可以防止线筒2700倾斜。在示例中，当由于线圈2300与第一磁体2810之间的电磁相互作用而在线筒2700产生垂直驱动力时，由于第一磁体2810偏心地设置在线筒2700的一侧，所以在线筒2700处可产生力矩。在这种情况下，由于线筒2700通过作用于端子2600与第一磁体2810之间的吸引力而被正确地定位，所以可以防止线筒的倾斜。

端子2600可以包括第一端子2610和第二端子2620。第一端子2610和第二端子2620可以彼此间隔开。这里，第一端子2610可以以不平衡的方式设置在壳体2200的第一支柱c1处，第二端子2620可以以不平衡的方式设置在壳体2200的第二支柱c2处。

第一端子2610可以包括第一第一端子部2611和第一第二端子部2612。第一第一端子部2611可以具有板状，并且可以位于线圈2300与第二连接器2220之间。第一第二端子部2612可以从第一第一端子部2611向下延伸，并且可以设置在端子容纳部2221中。

第一第一端子部2611可以导电地连接到线圈2300的一根配线。第一第二端子部2612可以导电地连接到相机模块2001的基板2030。

第二端子2620可以包括第二第一端子部2621和第二第二端子部2622。第二第一端子部2621可以具有板状并且可以位于线圈2300与第二连接器2220之间。第二第二端子部2622可以从第二第一端子部2621向下延伸，并且可以设置在端子容纳部2221中。第二第一端子部2621可以导电地连接到线圈2300的另一根配线。第二第二端子部2622可以导电地连接到相机模块2001的基板2030。

线筒2700可以位于壳体2200的内部。线筒2700可以具有在其中心垂直地形成有孔2710的块的形式。相机模块2001的透镜模块2010可以安装在线筒2700中。磁体2800可以设置在线筒2700处。线筒2700可以包括塑料材料。线筒2700可以是注塑成型塑料产品。

线筒2700可以垂直地(在上下方向上)移动，以便通过线圈2300与第一磁体2810之间的电磁相互作用来执行af功能。这里，线筒2700可以通过辊2400支撑，并且可以被垂直地引导。

线筒2700可以包括孔2710、第一凹槽2720、第二凹槽2730、第一触点2740、第二触点2750、磁体容纳部2760和上止动件2770。

线筒2700的与壳体2200的第一侧壁2230相对应的表面可以设置有第一凹槽2720。第一凹槽2720可以从线筒2700的外表面向内形成。壳体2200的第一止动件2231可以容纳在第一凹槽2720中。

线筒2700的与壳体2200的第三侧壁2250相对应的表面可以设置有第二凹槽2730。第二凹槽2730可以从线筒2700的外表面向内形成。壳体2200的第二止动件2251可以容纳在第二凹槽2730中。

线筒2700的与壳体2200的第二侧壁2240相对应的表面可以设置有第三触点2740和第四触点2750。

线筒2700的第三触点2740可以从线筒2700的外表面朝向辊2400的一端与中心之间的部分突出。线筒2700的第三触点2740可以与辊2400接触。

线筒2700的第三触点2740可以垂直地延伸。线筒2700的第三触点2740的外表面可以朝向辊2400凸出。换句话说，线筒2700的第三触点2740可以具有半圆柱形状。其结果，线筒2700的第三触点2740的外表面和辊2400可以在相同的高度(在垂直截面中)彼此进行点接触。

在变型(未示出)中，线筒2700的第三触点的外表面可以是平坦的。其结果，线筒2700的第三触点的外表面和辊2400可以在相同的高度(在垂直方向上)彼此进行线接触。

线筒2700的第四触点2750可以从线筒2700的外表面朝向辊2400的另一端与中心之间的部分突出。线筒2700的第四触点2750可以与辊2400接触。线筒2700的第四触点2750可以垂直地延伸。线筒2700的第四触点2750的外表面可以朝向辊2400凸出。换句话说，线筒2700的第四触点2750可以具有半圆柱形状。其结果，线筒2700的第四触点2750的外表面和辊2400可以在相同的高度(在垂直截面中)彼此点接触。

在变型(未示出)中，线筒2700的第四触点的外表面可以是平坦的。其结果，线筒2700的第四触点的外表面与辊2400可以在相同的高度(在垂直截面中)彼此进行线接触。

线筒2700的第三触点2740和第四触点2750可以彼此间隔开，并且可以位于壳体2200的第一屏蔽壁2241与第二屏蔽壁2242之间。

线筒2700的第三触点2740可以位于靠近辊2400的一端的位置，第四触点2750可以位于靠近辊2400的另一端的位置。

线筒2700的面对线圈2300的表面可以在其中设置有磁体容纳部2760。磁体容纳部2760可以从线筒2700的外表面向内形成。第一磁体2810可以设置在磁体容纳部2760中。

线筒2700的上表面可以设置有向上突出的上止动件2770。当线筒2700向上移动时，上止动件2770可以与盖2100的顶板2110接触，从而阻止线筒2700的向上移动。上止动件2770可以包括多个止动件。在一个示例中，可以具有四个上止动件2770，并且四个上止动件2770可以绕线筒中的孔2710彼此周向地间隔开。

磁体2800可以设置在线筒2700和壳体2200处。磁体2800可以用于向线筒2700提供驱动力，以防止线筒2700的倾斜并且保持线筒2700与辊2400之间的接触。

磁体2800可以包括第一磁体2810、第二磁体2820和第三磁体2830。

第一磁体2810可以设置在线筒2700处。第一磁体2810可以设置在线筒2700的面对壳体2200的第一连接器2210和第二连接器2220的表面处。第一磁体2810可以容纳在磁体容纳部860中。第一磁体2810可以直接面对线圈2300。

第一磁体2810与线圈2300电磁相互作用，以向线筒2700提供驱动力。因此，第一磁体2810可以被称为“驱动磁体”。吸引力可以作用于第一磁体2810与端子2600之间，从而防止线筒2700的倾斜。

第一磁体2810可以包括第一磁体部2811、第二磁体部2812和第三磁体部分2813。第一磁体部2811可以与第二磁体部2812垂直地间隔开。第三磁体部2813可以位于第一磁体部2811与第二磁体部2812之间。

第一磁体部2811可以直接面对第一线圈部2310。第二磁体部2812可以直接面对第二线圈部2320。第一磁体部2811和第二磁体部2812的极性的方向(n极和s极的方向)可以彼此不同(彼此相反)。

这样做的原因是因为电流沿着第一线圈部2310流动的方向和电流沿着第二线圈部2320流动的方向彼此不同。其结果，即使电流沿着第一线圈部2310流动的方向和电流沿着第二线圈部2320流动的方向彼此不同，也可以产生相同方向上的驱动力。

第一磁体部2811和第二磁体部2812的极性可以设置在外侧和内侧处。在示例中，第一磁体部2811的内侧可以是n极，第一磁体部2811的外侧可以是s极，第二磁体部2812的内侧可以是s极，并且第二磁体部2812的外侧可以是n极。

第三磁体部2813可以设置在第一磁体部2811与第二磁体部2812之间。第三磁体部2813可以不具有极性。换句话说，第三磁体部2813的极性可以是中性的。

第二磁体2820可以设置在线筒2700处。第二磁体2820可以设置在线筒2700的面对壳体2200的第二侧壁2240的表面上。

第二磁体700可以直接面对辊2400。第二磁体2820可以设置在线筒2700的第三触点2740与第四触点2750之间。可以通过第三触点2740和第四触点2750防止第二磁体2820与辊2400接触(可以与辊间隔开)。

第二磁体2820可以面对第三磁体2830，其中辊2400和壳体2200的第二侧壁2240设置在第二磁体2820与第三磁体2830之间。吸引力可以作用于第二磁体2820与第三磁体2830之间。

其原因是因为辊2400和壳体2200是注塑成型塑料产品，它们是磁场线可穿过的。其结果，第二磁体2820能够防止线筒2700倾斜。因此，第二磁体2820可以被称为“第一倾斜磁体”。此外，第二磁体2820可以使辊2400与线筒2700接触。换句话说，线筒2700的第三触点2740与辊2400之间的接触以及线筒2700的第四触点2750与辊2400之间的接触可以通过作用于第二磁体2820和第三磁体2830之间的吸引力来保持。

第三磁体2830可以设置在壳体2200处。第三磁体2830可以设置在壳体2200的第二侧壁2240的外部。第三磁体2830可以面对第二磁体2820，其中辊2400和壳体2200的第二侧壁2240设置在第三磁体2830与第二磁体2820之间。吸引力可以作用于第三磁体2830与第二磁体2820之间。其结果，第三磁体2830可以防止线筒2700的倾斜。因此，第三磁体2830可以被称为“第二倾斜磁体”。此外，第三磁体2830可以使辊2400与线筒2700接触。换言之，可以通过作用于第三磁体2830和第二磁体2820之间的吸引力来保持线筒2700的第三触点740与辊2400之间的接触。

在图32所示的透镜移动设备2000的第一变型(未示出)中，第三磁体2830可以是磁性构件。在此，磁性构件可以包括磁性金属。类似地，由于吸引力作用于第二磁体2820与磁性构件之间，所以可以执行由图32所示的第二磁体2820和第三磁体2830执行的功能。

在图32所示的透镜移动设备2000的第二变型(未示出)中，第二磁体2820可以是磁性构件。在此，磁性构件可以包括磁性金属。类似地，由于吸引力作用于第三磁体2830与磁性构件之间，所以可以执行由图32所示的第二磁体2820和第三磁体2830执行的功能。在第二变型中，第三磁体2830可以被称为“第二磁体”。

图40是根据又一实施例的透镜移动设备3000的立体图，从该透镜移动设备中去除了盖。

参照图40，与图32所示的透镜移动设备2000一样，透镜移动设备3000可以包括盖(未示出)、壳体3200、线圈3300、辊(未示出)、屏蔽构件3500、线筒3700和磁体(未示出)。图32所示的透镜移动设备2000可以类似于根据图40所示实施例的透镜移动设备3000。换句话说，关于图32所示的壳体2200、线圈2300、辊2400、屏蔽构件2500、线筒2700和磁体2800的描述可以应用于图40中所示的壳体3200、线圈3300、辊(未示出)、屏蔽构件3500、线筒3700和磁体(未示出)。

根据图40所示的实施例的透镜移动设备的特征在于包括霍尔传感器33900。透镜移动设备3000可以进一步包括霍尔传感器基板3910。

由于霍尔传感器3900可以测量线筒3700的位置(或位移)并且提供对所测得的信息的反馈以便执行af功能，从而更准确地执行af功能。

霍尔传感器3900可以设置在线圈3300的第一线圈部3310、第二线圈部3320、第三线圈部3330和第四线圈部3340之间限定的空间中。

霍尔传感器3900可以设置在壳体3200的第一保持器与第二保持器之间。换句话说，霍尔传感器3900可以设置在线圈3300的中心处。

霍尔传感器3900可以通过检测第一磁体的磁力来测量线筒3700的位置。霍尔传感器3900可以安装在霍尔传感器基板3910上。

霍尔传感器基板3910可以设置在壳体3200与盖之间。霍尔传感器基板3910可以设置为面对线圈3300。霍尔传感器基板3910可以导电地连接到线圈3300。霍尔传感器基板3910可以导电地连接到相机模块2001的基板2030。因此，线圈1300可以从相机模块2001的基板2030经由霍尔传感器基板3910接收电流。

测量到的线筒3700的位置值可以经由霍尔传感器基板3910传输到相机模块2001的基板2030。相机模块2001的控制器可以根据测量到的线筒3700的位置值来控制施加于线圈3300的电流。

在透镜移动设备3000中，可以省略图32所示的透镜移动设备2000的端子2600。取而代之，可以另外设置磁性体3600。具有板状的磁性体3600可以设置在第二线圈部3320与第二连接器之间。吸引力可以作用于磁性体3600与第一磁体之间，从而防止线筒3700的倾斜。

根据实施例的光学装置可以包括：主体(未示出)；显示单元(未示出)，其设置在主体的一个表面上用于显示信息；以及用于拍摄图像或照片的相机模块(未示出)，相机模块设置在主体内部并导电地连接到显示单元。

在下文中，将参照附图描述根据实施例的相机模块2001的结构。图41是示出基于图33的视图的根据实施例的相机模块2001的剖视图。相机模块2001可以包括透镜移动设备3000、透镜模块2010、红外线阻挡滤光器2020、基板2030、图像传感器2040和控制器(未示出)。

透镜模块2010可以包括透镜和透镜镜筒。透镜模块2010可以包括一个或多个透镜(未示出)和容纳该一个或多个透镜的透镜镜筒。透镜模块2010不必将透镜镜筒包括作为其一个部件，任何的保持器结构都是可能的，只要其能够支撑一个或多个透镜即可。

透镜模块2010可以耦接到透镜移动设备3000，并且可以与其一起移动。例如，透镜模块2010可以耦接到透镜移动设备3000。例如，透镜模块2010可以以螺纹接合方式耦接到透镜移动设备3000。

例如，可以使用粘合剂(未示出)将透镜模块2010耦接到透镜移动设备3000。已经穿过透镜模块2010的光可以被辐射到图像传感器2040。

红外线阻挡滤光器2020可以能够防止红外区域中的光进入图像传感器2040中。例如，红外线阻挡滤光器2020可以位于透镜模块2010与图像传感器2040之间。

红外线阻挡滤光器2020可以位于与壳体2200分开设置的保持器构件(未示出)处。或者，红外线阻挡滤光器2020可以安装在形成于壳体2200的基座b的中心区域中的孔b-1中。

红外线阻挡滤光器2020例如可以由膜材料或玻璃材料制成。例如，可以通过用红外线屏蔽材料涂覆诸如用于保护图像区域的诸如盖玻璃的板状光学滤光器来制造红外线阻挡滤光器2020。

基板2030可以是pcb(印刷电路板)。基板2030可以支撑透镜移动设备3000。图像传感器20可以安装在基板2030上。例如，图像传感器可以位于基板的上表面的内部区域中，并且传感器保持器(未示出)可以位于基板的上表面的外部区域中。

透镜移动设备3000可以位于传感器保持器的上方。或者，图像传感器2040可以位于基板2030的上表面的内部区域中，并且图像传感器2040可以位于基板2030的上表面的内部区域中。通过这种结构，已经穿过容纳在透镜移动设备3000中的透镜模块2010的光可以被辐射到安装在基板2030上的图像传感器2040。

基板2030可以向透镜移动设备3000供应电力。基板2030可以导电地连接到显示单元。用于控制透镜移动设备3000的控制器可以位于基板2030处。

图像传感器2040可以安装在基板2030上。图像传感器2040设置成使得其光轴与透镜模块2010对齐。因此，图像传感器2040可以接收已经穿过透镜模块2010的光。图像传感器2040可以将辐射光输出作为图像。图像传感器2040例如可以是ccd(chargecoupleddevice：电荷耦合装置)、mos(metaloxidesemiconductor：金属氧化物半导体)、cpd或cid。然而，图像传感器2040的类型不限于此。

控制器可以安装在基板2030上。控制器可以位于透镜移动设备3000的外部。或者，控制器也可以位于透镜移动设备3000的内部。控制器可以控制向构成透镜移动设备3000的每个部件供应的电流的方向、强度、幅值等。控制器可以控制透镜移动设备3000执行自动聚焦功能。换句话说，控制器可以控制透镜移动设备3000使透镜模块2010在光轴方向上移动。

图42是示出根据实施例的相机模块200的分解立体图。

参照图42，相机模块200可以包括透镜或透镜镜筒400、透镜移动设备100、粘合构件612、滤光器610、第一保持器600、第二保持器800、图像传感器810、运动传感器820、控制器830和连接器840。根据另一个实施例的相机模块可以取代透镜移动设备100，而包括根据其他实施例的透镜移动设备1100或2000。

透镜或透镜镜筒400可以安装在透镜移动设备100的线筒110中。

第一保持器600可以设置在透镜移动设备100的基座210的下方。滤光器610可以安装在第一保持器600上，并且第一保持器600可以具有凸起部500，滤光器610置于凸起部500上。

粘合构件612可以将透镜移动设备100的基座210耦接或附接到第一保持器600。粘合构件612例如可以是环氧树脂、热硬化粘合剂或紫外线硬化粘合剂。

滤光器610可以用于防止穿过透镜镜筒400的在特定频带内的光被引入到图像传感器810中。滤光器610例如可以是红外光阻挡滤光器，但不限于此。在此，滤光器610的方向可以设置成平行于x-y平面。

安装有滤光器610的第一保持器600的区域可以在其中形成有开口，以允许穿过滤光器610的光被引入到图像传感器810中。

第二保持器800可以设置在第一保持器600的下方，并且图像传感器810可以安装在第二保持器600上。图像传感器810可以是在其上形成穿过滤光器610并且被引入到图像传感器810中的光中包括的图像的区域。

第二保持器800例如可以包括各种电路、装置和控制器，以将形成在图像传感器810上的图像转换成电信号并将电信号传输到外部部件。第二保持器800可以实现为电路板，图像传感器810可以被安装在该电路板上，电路图案可以形成在该电路板上，并且各种装置可以耦接到该电路板。

图像传感器810可以接收在经由透镜移动设备100、1100、2100引入的光中包含的图像，并且可以将接收到的图像转换为电信号。

滤光器610和图像传感器810可以彼此间隔开使得在第一方向上彼此相对。

运动传感器820可以安装在第二保持器800上，并且可以通过形成在第二保持器800上的电路图案而导电地连接到控制器830。

运动传感器820可以输出关于由运动引起的旋转角速度的信息。运动传感器820可以被实现为双轴或三轴陀螺仪传感器或角速度传感器。

控制器830可以安装在第二保持器800上。第二保持器800可以导电地连接到透镜移动设备100。例如，第二保持器800可以导电地连接到透镜移动设备100的线圈120，并且可以向线圈120供给驱动信号。

连接器840可以导电地连接到第二保持器800，并且可以具有用于导电地连接到外部装置的端口。

图43是示出根据实施例的便携终端200a的立体图。图43是示出图35所示的便携终端200a的结构的视图。

参照图43和图44，便携终端200a(以下称为“终端”)可以包括主体850、无线通信单元710、音频/视频(a/v)输入单元720、感测单元740、输入/输出单元750、存储单元760、接口单元770、控制器780和电源单元790。

图43所示的主体850具有条形，但不限于此，并且可以是诸如滑动型、折叠型、摆动型或旋转型的各种类型中的任一种，其中两个以上的子体被耦接为相对于彼此可移动。

主体850可以包括限定该终端的外观的外壳(例如，壳、壳体或盖)。例如，主体850可以分为前外壳851和后外壳852。终端的各种电子部件可以容纳于在前外壳851与后外壳852之间限定的空间中。

无线通信单元710可以包括一个或多个模块，这些模块使得能够在终端200a与无线通信系统之间或者在终端200a与终端200a所在的网络之间进行无线通信。例如，无线通信单元710可以包括广播接收模块711、移动通信模块712、无线互联网模块713、近场通信模块714和位置信息模块715。

a/v输入单元720用于输入音频信号或视频信号，并且例如可以包括相机721和麦克风722。

相机721可以是包括根据实施例的相机模块200的相机200。

感测单元740可以感测终端200a的当前状态，例如，终端200a的开启或关闭、终端200a的位置、用户触摸的有无、终端200a的方向、或终端200a的加速/减速，并且可以生成感测信号以控制终端200a的动作。当终端200a例如是滑动型蜂窝电话时，感测单元740可以感测滑动型蜂窝电话是开启还是关闭。此外，感测单元740可以感测来自电源单元790的电力供应、接口单元770与外部装置的耦接等。

例如，输入/输出单元750用于生成视觉、听觉或触觉输入或输出。输入/输出单元750可以生成输入数据以控制终端200a的动作，并且可以显示在终端200a中处理的信息。

输入/输出单元750可以包括键盘单元730、显示模块751、声音输出模块752和触摸屏面板753。键盘单元730可以响应于键盘上的输入而产生输入数据。

显示模块751可以包括多个像素，多个像素的颜色响应于施加到其上的电信号而变化。例如，显示模块751可以包括液晶显示器、薄膜晶体管-液晶显示器、有机发光二极管、柔性显示器和3d显示器中的至少一者。

例如，声音输出模块752可以以呼叫信号接收模式、呼叫模式、记录模式、语音识别模式或广播接收模式输出从无线通信单元710中接收的音频数据，或者可以输出存储在存储单元760中的音频数据。

触摸屏面板753可以将由用户在触摸屏的特定区域上的触摸引起的电容变化转换为电输入信号。

存储单元760可以临时存储用于控制器780的处理和控制的程序，以及输入/输出数据(例如，电话号码、消息、音频数据、静止图像、运动图像等)。例如，存储单元760可以存储由相机721拍摄的图像，例如图片或运动图像。

接口单元770用作路径，透镜移动设备经由该路径连接到与终端200a连接的外部装置。接口单元770可以从外部部件接收电力或数据，并且可以将其发送到终端200a内部的各个组成元件，或者可以将终端200a内的数据发送到外部部件。例如，接口单元770可以包括有线/无线耳麦端口、外部充电器端口、有线/无线数据端口、存储卡端口、用于与配备有识别模块的装置连接的端口、音频输入/输出(i/o)端口、视频输入/输出(i/o)端口、耳机端口等。

控制器780可以控制终端200a的一般动作。例如，控制器780可以执行例如与语音呼叫、数据通信和视频呼叫有关的控制和处理。

控制器780可以包括用于多媒体回放的多媒体模块781。多媒体模块781可以被实现在控制器780中，或者可以与控制器780分开地实现。

控制器780可以执行模式识别处理，该模式识别处理能够将在触摸屏上执行的书写输入或绘图输入分别识别为字符和图像。

电源单元790可以在控制器780的控制下，在接收外部电力或内部电力时，供应使各个组成元件动作所需的电力。

以上在实施例中描述的特征、结构、效果等被包括在至少一个实施例中，但是本发明不仅限于这些实施例。另外，在各个实施例中例示的特征、结构、效果等可以与其他实施例结合或由本领域技术人员修改。因此，与这些组合和修改有关的内容应被解释为落入实施例的范围内。

工业可应用性

实施例可以应用于能够提高af动作的速度、能够抑制在af动作期间线筒的移动并且能够增大磁体和线圈的可能的尺寸范围的透镜移动设备、以及分别包括该透镜移动设备的相机模块和光学装置。