显影装置及其显影方法与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显影装置及其显影方法。

背景技术：

在平板显示行业中，阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀，成膜是将金属沉积到玻璃基板上，形成一定厚度的金属膜层；黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的金属膜层上，该图形由光阻构成；最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉，然后通过光阻剥离单元，留下相应的金属图案。

黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤，显影制程包括：显影单元、清洗单元、缓冲单元等单元，其中，清洗单元包括清洗液单元和二流体单元，显影单元分为第一显影段、第二显影段、第三显影段，清洗液单元分为第一清洗液段、第二清洗液段、第三清洗液段。显影单元的作用是进行光刻胶剥离，清洗液单元的作用是除去残留的光刻胶与药液，二流体单元的作用是除去杂质。

在清洗液一段中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板，形成液滴滴落在基板上，由于此时的水中含有少量显影液，会在基板上形成圆形水滴mura(斑)，对产品造成不良影响。目前的处理办法是降低基板下方的上喷液体流量压力，但是缺点是同时降低了基板下表面的清洗效率，严重时同样会产生基板下表面的赃物mura，也对产品造成不良影响。

技术实现要素：

本发明提供一种显影装置及其显影方法，能够解决清洗单元中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板，形成液滴滴落在基板上，由于水中残存少量显影液，在基板上形成水滴圆斑mura的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种显影装置，包括：显影单元和清洗单元，所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元，所述清洗液单元包括：

壳体，内部具有空间且两侧具有开口；

传送平台，用于传动基板；

喷淋机构，所述喷淋机构包括多个喷淋模组，每个喷淋模组包括喷淋管、设置于喷淋管进水处的气动阀以及设置于所述喷淋管出水处的喷嘴，所述喷嘴设置于所述传送平台的上方或下方；

控制器，分别与所述多个喷淋模组中的气动阀电性连接，以分别控制所述多个喷淋模组中的气动阀的开启或关闭。

在本发明的一些实施例中，所述显影装置还包括至少一个传感器，所述至少一个传感器用于在所述基板与所述喷嘴之间发生相对运动时，确定所述基板的位置。

在本发明的一些实施例中，所述至少一个传感器设置于所述壳体的表面或设置于所述传送平台上。

在本发明的一些实施例中，所述至少一个传感器的数量与所述多个喷淋模组相等，所述至少一个传感器与所述多个喷淋模组一一对应。

在本发明的一些实施例中，所述传送平台所在平面相对水平面倾斜。

在本发明的一些实施例中，所述传送平台所在平面与水平面夹角的范围为5～30°。

在本发明的一些实施例中，所述壳体的上板为三角形。

在本发明的一些实施例中，所述喷嘴喷淋出的液体为去离子水。

在本发明的一些实施例中，所述喷淋机构还包括固定装置，所述固定装置与所述壳体相连接以固定所述喷嘴的高度和喷淋方向。

依据本发明的上述目的，提出一种显影方法，应用于以上的显影装置，包括：

将基板传送至显影单元，进行光刻胶刻蚀；

将基板传送至清洗单元，清洗残留的显影液和光刻胶；

将基板传送至二流体单元，除去含杂质的清洗液。

本发明的有益效果为：相较于现有的显影装置及其显影方法，本发明的显影装置及其显影方法通过将原喷淋管单一的统一开断模式改造为各喷淋管独立的单独开断模式，单独开断模式可以实现仅部分气动阀开启，相对应的部分喷嘴喷淋，保证在局部区域清洗效率不变的同时，剩余部分气动阀关闭，相对应的部分喷嘴关闭，降低喷淋机构的总流量，即避免了多余的清洗液在壳体的上板处汇聚，进而避免了清洗液滴落，在基板处积聚，解决了现有技术的清洗单元中，残存少量显影液的清洗液在基板上形成水滴圆斑mura的技术问题，降低了生产成本，提高了产品良率。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的显影装置的一个实施例制程示意图；

图2为本发明实施例提供的显影装置的一个实施例结构示意图；

图3为本发明实施例提供的显影装置的另一个实施例结构示意图；

图4为本发明实施例提供的显影方法的一个实施例流程图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明针对现有的显影装置及其显影方法，在清洗单元中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板，形成液滴滴落在基板上，由于此时的水中含有少量显影液，会在基板上形成圆形水滴mura，对产品造成不良影响的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。

在目前的显示行业中，阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀，成膜是将金属沉积到基板上，形成一定厚度的金属膜层；黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的金属膜层上，该图形由光阻构成；最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉，然后通过光阻剥离单元，留下相应的金属图案。具体地，黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤。

基于此，本发明实施例提供一种显影装置及其显影方法。以下分别进行详细说明。

首先，本发明实施例提供一种显影装置，所述显影装置包括显影单元和清洗单元，所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元。

其中，如图1所示，为本发明实施例提供的显影装置的一个实施例制程示意图，基板依次经过所述显影单元、所述清洗液单元和所述二流体单元，分别依次完成图1中第一显影段、第二显影段、第三显影段、第一清洗液段、第二清洗液段、第三清洗液段以及二流体单元等制程，所述显影单元用于对传送平台上的所述基板喷淋显影液，所述显影液溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域；所述清洗单元用于对所述基板喷淋清洗液和二流体，清洗残留的所述显影液和所述光刻胶，进一步地，所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元，所述清洗液单元用于对所述基板喷淋所述清洗液，冲洗掉所述基板上残留的所述显影液和所述光刻胶，然而，此处基板上残留的所述清洗液不可避免地混合有所述显影液，故采用二流体单元，所述二流体单元喷淋出压缩的空气和清洗液，所述空气和清洗液的混合物可大大提高清洁速率与均匀度，但挥发较快，消耗量过大，所述喷嘴喷淋出的液体优选地为去离子水，可替换地，所述喷嘴喷淋出的液体还可以是其他可将所述显影液和所述光刻胶冲洗干净且不对所述基板造成损伤的其他液体，例如，蒸馏水或高纯水。

本发明实施例中，如图2所示，为本发明实施例提供的显影装置的一个实施例结构示意图，所述清洗液单元包括：壳体、传送平台10、喷淋机构20和控制器，所述壳体和所述控制器图中未画出。

所述壳体，内部具有内空间，形状不做具体限定，通常接近立方体且两侧具有开口；所述传送平台10，设置于所述内空间内，用于传动基板30，实现所述基板30的自动运输，所述传送平台10两端分别通过所述壳体两侧的开口与其他单元相连接，所述传送平台10可以为皮带传送或滚筒传送，此处以皮带传送举例，所述皮带中间镂空用于位于下方的所述喷淋机构20向上喷淋，所述皮带与所述基板30之间设置于缓冲件，例如泡棉，防止所述基板30刮花损伤；所述喷淋机构20，所述喷淋机构20包括多个喷淋模组，每个喷淋模组包括喷淋管以及设置于喷淋管进水处的气动阀、设置于所述喷淋管出水处的喷嘴，所述喷嘴设置于所述传送平台10的上方或下方，所述气动阀的开启或关闭控制所述喷淋的开启或关闭，所述气动阀开启，所述清洗液经由所述喷淋管从所述喷嘴喷出，所述气动阀关闭，所述喷嘴停止喷淋；控制器，分别与所述多个喷淋模组中的气动阀电性连接，此处所述控制器为单片机或可编程控制器，气动阀可为气动电磁阀，所述控制器可以分别控制所述多个喷淋模组中的气动阀的开启或关闭。

在上述实施例的基础上，在本发明的另一个实施例中，对所述传送平台10进一步改进，调整所述传送平台10的传动轴的位置，使所述传送平台10所在平面相对水平面倾斜，可以实现显影液或含杂质的清洗液喷淋或滴落在基板上时尽快成股滑落，不会产生积聚以免形成水滴圆斑mura，其中，所述传送平台10所在平面与水平面夹角的范围优选地为5～30°，其中根据实际效果最优选地为10°和15°，此时，既可以实现显影液或含杂质的清洗液迅速成股滑落，又可以避免所述基板30因所述传送平台10夹角过大而向下滑落。

在上述实施例的基础上，在本发明的另一个实施例中，对控制方式进一步改进，如图3所示，为本发明实施例提供的显影装置的一个实施例结构示意图，所述显影装置还包括至少一个传感器40，所述至少一个传感器40用于在所述基板30与所述喷嘴之间发生相对运动时，确定所述基板30的位置，所述至少一个传感器40与所述控制器相连接，可以辅助所述控制器实现精准控制，所述至少一个传感器40可以为反射光电传感器、对射光电传感器、压力传感器、超声波传感器等。

所述至少一个传感器40设置于所述壳体的表面或设置于所述传送平台上，例如，所述至少一个传感器40为反射光电传感器或超声波传感器，所述至少一个传感器40可以设置于所述壳体的表面或设置与所述传送平台上，当所述基板30传送至所述至少一个传感器40的感应区域，所述至少一个传感器40发出的光线或超声波的传播路径被所述基板30阻挡，产生反射，所述至少一个传感器40接收到反射回的光线或超声波，触发所述控制器；或所述至少一个传感器40为对射光电传感器，所述至少一个传感器40的发射端设置于所述传送平台10上，所述至少一个传感器40的接收端设置于所述壳体与所述至少一个传感器40的发射端相对应的位置，当所述基板30传送至所述至少一个传感器40的感应区域，所述至少一个传感器40的发射端发出光线的传播路径被所述基板30阻挡，所述至少一个传感器40的接收端接收不到光线，触发所述控制器，此处，所述传感器的发射端和接收端位置可互相调换，不影响实际效果；或所述至少一个传感器40为压力传感器，所述至少一个传感器40设置于所述传送平台10上，当所述基板30传送至所述至少一个传感器40的感应区域，所述至少一个传感器40感应到压力变化，触发所述控制器。

可以理解的是，在本实施例中，所述至少一个传感器40的数量与所述多个喷淋模组相等，所述至少一个传感器40与所述多个喷淋模组一一对应，可以实现，当所述至少一个传感器40感应到所述基板30，触发所述控制器，对应的所述多个喷淋模组开始工作，所述气动阀开启，所述喷嘴进行喷淋，当所述基板30离开所述至少一个传感器40的感应区域，触发所述控制器，对应的所述多个喷淋模组停止工作，所述气动阀关闭，所述喷嘴停止喷淋。

在上述实施例的基础上，在本发明的另一个实施例中，所述壳体的上板为三角形，制得的三角形上板比原壳体的上板的面积要小，与位于下方的所述喷淋机构喷淋出的清洗液接触面积更小，降低了所述清洗液在所述壳体的上板处汇聚滴落的风险。

在上述实施例的基础上，在本发明的另一个实施例中，所述喷淋机构还包括固定装置，所述固定装置与所述壳体相连接以固定所述喷嘴的高度和喷淋方向，所述固定装置处于未固定状态时，所述喷嘴的高度和喷淋方向可自由调节，当所述喷嘴的高度和喷淋方向调节至理想状态，通过所述固定装置将所述喷嘴固定在所述壳体上，所述固定装置可以为卡扣固定、夹具固定、螺栓固定、磁性固定。

进一步的，本发明实施例还提供了一种显影方法，应用于上述显影装置，如图4所示，所述显影方法可以包括：

s1、将基板传送至显影单元，进行光刻胶刻蚀；

s2、将基板传送至清洗单元，清洗残留的显影液和光刻胶；

具体的，将基板传送至清洗单元，清洗残留的显影液和光刻步骤实现方式如下：基板传送至传感器的感应区域，对应的气动阀打开，对应的喷嘴进行喷淋；基板离开传感器的感应区域，对应的气动阀关闭，对应的喷嘴关闭；

s3、将基板传送至二流体单元，除去含杂质的清洗液。

本发明的有益效果为：相较于现有的显影装置及其显影方法，本发明的显影装置及其显影方法通过将原喷淋管单一的统一开断模式改造为各喷淋管独立的单独开断模式，单独开断模式可以实现仅部分气动阀开启，相对应的部分喷嘴喷淋，保证在局部区域清洗效率不变的同时，剩余部分气动阀关闭，相对应的部分喷嘴关闭，降低喷淋机构的总流量，即避免了多余的清洗液在壳体的上板处汇聚，进而避免了清洗液滴落，在基板处积聚，解决了现有技术的清洗单元中，残存少量显影液的清洗液在基板上形成水滴圆斑mura的技术问题，降低了生产成本，提高了产品良率。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。