1.一种光学元件，其包含：
光学晶体；和
涂覆所述光学晶体的表面的防反射膜；
其中，所述防反射膜含有有机化合物。
2.如权利要求1所述的光学元件，其中，所述防反射膜与所述光学晶体的线性膨胀系数之差的绝对值为130ppm/k以下。
3.如权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述防反射膜在25℃的杨氏模量为10gpa以下。
4.如权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述有机化合物含有选自由以下化合物组成的组中的至少一种化合物作为结构单元：含有与氟原子结合的环状结构的化合物；和含有环烯烃结构的化合物。
5.如权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述光学晶体是有机光学晶体。
6.如权利要求5所述的光学元件，其中，所述有机光学晶体是有机非线性光学晶体。
7.如权利要求6所述的光学元件，其中，有机非线性光学晶体是dast(4-二甲氨基-n-甲基-4-氮杂茋甲苯磺酸盐)晶体、dasc(4-二甲氨基-n-甲基-4-氮杂茋-对氯苯磺酸盐)晶体、dstms(4-n,n-二甲氨基-4’-n’-甲基氮杂茋-2,4,6-三甲基苯磺酸盐)晶体、oh1(2-(3-(4-羟基苯乙烯基)-5,5-二甲基环己-2-烯亚基)丙二腈)晶体、bdas-tp(双(4-二甲氨基-n-甲基-4-氮杂茋)对苯二甲酸盐))晶体、das-htp(4-二甲氨基-n-甲基-4-氮杂茋氢对苯二甲酸盐)晶体、bna(n-苄基2-甲基-4-硝基苯胺)晶体、hmq-tms((2-(4-羟基-3-甲氧基苯乙烯基)-1-甲基喹啉鎓-2,4,6-三甲基苯磺酸盐)晶体或mc-pts(部花青-对甲苯磺酸)晶体。
8.如权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述防反射膜在1000nm至2,000nm波长范围的至少一部分中的折射率为1.3至2.0。
9.如权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述防反射膜在0.3thz至30thz频率范围的至少一部分中的折射率为1.3至2.0。
10.一种权利要求1-9中任一项所述的光学元件的制造方法，
其中，所述方法包括通过湿法在所述光学晶体的表面上形成所述防反射膜的步骤。
11.如权利要求10所述的光学元件的制造方法，其中，在通过所述湿法形成所述防反射膜的步骤中，通过将所述光学晶体浸渍在含有用于形成所述防反射膜的材料的液体中，并将经浸渍的光学晶体从所述液体中拉起，从而在所述光学晶体的表面上形成所述防反射膜。