全介质小角度依赖颜料片的制作方法

文档序号:19904308发布日期:2020-02-11 14:16阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种全介质小角度依赖颜料片,其特征在于,所述颜料片包括:

介质基层,包括第一子介质基层;

至少一介质叠层周期,层叠设置于所述第一子介质基层的至少一侧主表面上,每个所述介质叠层周期包括第一子介质叠层和第二子介质叠层,其中所述第一子介质叠层的折射率小于所述第二子介质叠层和第一子介质基层,且所述第一子介质叠层相较于同一所述介质叠层周期内的所述第二子介质叠层更靠近所述第一子介质基层设置,其中所述介质基层和介质叠层周期的光学厚度设置成使得所述颜料片在相对于所述介质基层所在的所述主表面的法线方向偏离0度-60度范围内的色移小于80nm。

2.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述第一子介质基层的彼此相对的两侧对称设置有所述介质叠层周期。

3.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述介质基层进一步包括第二子介质基层,所述第二子介质基层的折射率分别小于所述第一子介质基层和所述第二子介质叠层,所述第二子介质基层的彼此相对的两侧对称设置有所述第一子介质基层和所述介质叠层周期。

4.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,位于所述介质基层的同一侧的所述介质叠层周期数量不大于2。

5.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,同一所述介质叠层周期内的所述第二子介质叠层的光学厚度小于所述第一子介质叠层的光学厚度。

6.根据权利要求2或3所述的颜料片,其特征在于,同一所述介质叠层周期内的所述第二子介质叠层的光学厚度小于所述第一子介质叠层的光学厚度,所述第一子介质叠层的光学厚度小于或等于所述第一子介质基层的光学厚度,且所述第一子介质基层的光学厚度小于或等于所述第二子介质叠层的光学厚度的二倍。

7.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述颜料片的物理厚度为170nm-400nm。

8.根据权利要求2所述的颜料片,其特征在于,所述颜料片的物理厚度为250nm-300nm。

9.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述第一子介质基层和所述第二子介质叠层采用折射率大于2的介质材料,所述第一子介质叠层采用折射率小于2的介质材料。

10.根据权利要求9所述的颜料片,其特征在于,所述第一子介质基层和所述第二子介质叠层的材料选自钛酸镧、二氧化钛、二氧化铪、硫化锌中的至少一种;

所述第一子介质叠层的材料选自二氧化硅、氟化镁、冰晶石中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述颜料片由一层所述第一子介质基层和一个所述介质叠层周期组成,或者由一层所述第一子介质基层和分别位于所述第一子介质基层两侧的一个所述介质叠层周期组成。

12.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述介质基层进一步包括第二子介质基层,所述颜料片由一层所述第二子介质基层和分别在所述第二子介质基层的两侧的一层所述第一子介质基层和一个所述介质叠层周期。

13.根据权利要求1所述的颜料片,其特征在于,所述颜料片的反射峰的主峰具有400-500nm之间的中心波长,且在380-780nm内有且仅有一个主峰。

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