掩膜版和显示面板及其制备方法与流程

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版和显示面板及其制备方法。

背景技术：

目前，液晶显示器(liquidcrystaldisplay，lcd)在显示技术领域有着极为重要的地位，在市场上也有着广泛的应用。一般用于制作液晶显示器的液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板、及设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。其中彩膜基板包括用于形成有色光的彩色色阻层，但这种结构的液晶显示面板需要保证阵列基板与彩膜基板在组装时具有良好的对位，以防止彩色色阻层位置偏移造成的显示不良。

coa(colorfilteronarray)技术是将彩色色阻层直接制备在阵列基板上，从而不存在阵列基板与彩膜基板的对位问题。在基于coa技术的液晶显示面板结构中，色阻设置于阵列基板上，为避免相邻两色阻或相邻两像素之间出现漏光，会将相邻两色阻或相邻两像素挨得很近，这样就会导致色阻或像素交界区厚度偏大，形成突起，即所谓的牛角区域。在牛角区域上方覆盖的电极也因此产生突起，所形成的电场不能很好地屏蔽周边电场的干扰，造成显示异常，影响面板品质。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种掩模版和显示面板及其制备方法，掩模版分布有三种不同透光率区域，因此在利用掩模版制备色阻的过程中，由于第二区域透光率大于第一区域透光率，第二区域的透光率小于第三区域透光率，且第二区域对应不同色阻重叠区域，使得穿透第二区域的光线相较于穿透第一区域的光线强度较低，使得第二区域对应的色阻区域部分的膜层厚度降低，从而降低不同色阻重叠区域的突起，避免牛角的产生。

为解决上述问题，一方面，本申请提供一种掩模版，包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，第二区域的透光率大于第一区域的透光率，第二区域的透光率小于第三区域的透光率。

进一步的，所述第二区域包括至少两个间隔分布的遮光部。

进一步的，所述遮光部沿第二方向排布，其中，所述第二方向垂直于所述第一方向。

进一步的，相邻的两个所述遮光部的间距相等。

进一步的，相邻的两个所述遮光部的间距范围为5um至15um。

进一步的，所述遮光部沿所述第一方向的长度范围为5um至10um。

进一步的，所述遮光部沿所述第二方向的长度范围为5um至15um。

一方面，本申请还提供一种显示面板的制备方法，方法包括：

提供阵列基板；

在所述阵列基板上涂布彩色色阻材料；

采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层；

其中，所述掩模版为上述内容所述的掩膜版

进一步的，所述采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层，包括：

采用所述掩膜版对第一色阻材料进行曝光处理，制备得到第二色阻材料；

对所述第二色阻材料进行显影处理，制备得到彩色色阻层。

一方面，本申请还提供一种显示面板，所述显示面板采用如上述内容所述的显示面板的制备方法所制备而成的。

有益效果：本发明实施例中通过提供一种掩模版，该掩模版包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，第二区域的透光率大于第一区域的透光率，第二区域的透光率小于第三区域的透光率，区别于现有技术，掩模版分布有三种不同透光率区域，因此在利用掩模版制备色阻的过程中，由于第二区域透光率大于第一区域透光率，第二区域的透光率小于第三区域透光率，且第二区域对应不同色阻重叠区域，使得穿透第二区域的光线相较于穿透第一区域的光线强度较低，使得第二区域对应的色阻区域部分的膜层厚度降低，从而降低不同色阻重叠区域的突起，避免牛角的产生。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例中掩模版的一个实施例结构示意图；

图2是本发明实施例中掩模版的另一个实施例结构示意图；

图3是本发明实施例中掩模版的另一个实施例结构示意图；

图4是本发明实施例中掩模版的另一个实施例结构示意图；

图5是本发明实施例中显示面板的制备方法的一个实施例流程示意图；

图6是本发明实施例中显示面板的制备方法的另一个实施例流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在基于coa技术的液晶显示面板结构中，色阻设置于阵列基板上，为避免相邻两色阻或相邻两像素之间出现漏光，会将相邻两色阻或相邻两像素挨得很近，这样就会导致色阻或像素交界区厚度偏大，形成突起，即所谓的牛角区域。在牛角区域上方覆盖的电极也因此产生突起，所形成的电场不能很好地屏蔽周边电场的干扰，造成显示异常，影响面板品质。

基于此，本发明实施例提供一种掩膜版和显示面板及其制备方法，以下分别进行详细说明。

首先，本发明实施例中提供一种掩模版，包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，第二区域的透光率大于第一区域的透光率，第二区域的透光率小于第三区域的透光率。

请参阅图1，为本发明实施例中掩模版的一个实施例结构示意图，其中，所述掩模版包括沿第一方向100依次设置的第一区域101、第二区域102以及第三区域103，其中，第二区域102的透光率大于第一区域101的透光率，102第二区域的透光率小于103第三区域的透光率，本实施例中，所述掩膜版(又称掩模版，英文为maskreticle)，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版，是由不透光的遮光薄膜(金属铬)在透明基板上形成掩模图形，通过光刻工艺(photolithography)将图形转印到玻璃基板的薄膜上。面板制造行业的掩模版图形与曝光图形采用1:1的比例，组成掩模版的透明基板通常是合成石英玻璃，具有热膨胀系数低和紫外光谱透过滤高的特点。常规苏打玻璃的热膨胀系数是8.1x10^-6m/c，合成石英玻璃的热膨胀系数是5x10^-7m/c，它们的密度分别是2.49g/cm和2.20g/cm。遮光薄膜通常是金属铬膜，以及铬膜表面覆盖的抗反射的三氧化二铬。为了防止图形划伤和尘粒污染，阵列工程的掩模版在有图形面外边框贴了一层极薄的透明保护膜(pellicle)。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上，本实施例就是采用所述掩模版进行制备彩色色阻层，其中，所述第一方向是相对于掩模版水平方向，从左往右方向，第一区域101、第二区域102以及第三区域103依次可为遮光区、半透光区以及透光区，其中，该掩模版可用于制备彩色色阻层，第二区域对应在彩色色阻层之间的不同色阻的交界处，本申请中，可以将掩模版透光区和遮光区之间的边缘区域的遮光区的厚度变薄，使其具有半透作用，因此使得第二区域的透光率在所述第一区域和第三区域之间。

本发明实施例中通过提供一种掩模版，包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，第二区域的透光率大于第一区域的透光率，第二区域的透光率小于第三区域的透光率，区别于现有技术，掩模版分布有三种不同透光率区域，因此在利用掩模版制备色阻的过程中，由于第二区域透光率大于第一区域透光率，第二区域的透光率小于第三区域透光率，且第二区域对应不同色阻重叠区域，使得穿透第二区域的光线相较于穿透第一区域的光线强度较低，使得第二区域对应的色阻区域部分的膜层厚度降低，从而降低不同色阻重叠区域的突起，避免牛角的产生。

请参阅图2，图2是本发明实施例中掩模版的另一个实施例结构示意图。

在上述实施例的基础上，在本申请的一个具体实施例中，第二区域102包括至少两个间隔分布的遮光部201，遮光部201沿第二方向200排布，其中，第二方向200垂直于第一方向100，本实施例中，第二方向是相对于掩模版与第一方向垂直，竖直向下，第二区域包括有至少两个间隔分布的遮光部201，在相邻的两个遮光部201之间形成有狭缝，该狭缝可通过光的干涉作用实现半透作用，因此使得第二区域的透光率在第一区域和第三区域之间。

本实施例中，相邻的两个遮光部201的间距可以相等，相邻的两个遮光部201的间距范围为5um至15um，遮光部201沿第一方向的长度范围为5um至10um，遮光部201沿第二方向的长度范围为5um至15um，例如，在一个具体的实施例中，采用相邻的两个遮光部201的间距为10um，遮光部201沿第一方向的长度为5um，遮光部201沿第二方向的长度为10um，本申请对遮光部201的尺寸并不做限定，具体视实际情况而定。

为了更好实施本发明实施例中掩模版，在掩模版的基础之上，本发明实施例中还提供一种显示面板的制备方法，方法包括：提供阵列基板；在阵列基板上涂布彩色色阻材料；采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层；其中，掩模版为如上述实施例的掩膜版。

请参阅图5，图5为本发明实施例中显示面板的制备方法的一个实施例流程示意图，其中，方法包括：

301、提供阵列基板。

本实施例中，阵列基板是由多个薄膜晶体管阵列排布而成的，薄膜晶体管(thin-filmtransistor，tft)是场效应晶体管的种类之一，大略的制作方式是在基板上沉积各种不同的薄膜，如半导体主动层、介电层和金属电极层。薄膜晶体管对显示器件的工作性能具有十分重要的作用。

302、在阵列基板上涂布彩色色阻材料。

本实施例中，彩色色阻层可吸收自然光中的一部分光谱，仅透过与之匹配的单色光谱，形成混色中的基色，其中，彩色色阻材料包括红色色阻材料、绿色色阻材料以及蓝色色阻材料。

303、采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层；

其中，掩模版为上述实施例的掩膜版。

本实施例中，彩色色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层以及蓝色色阻层，掩模版根据不同色阻所采用的制备材料可有所不同，例如，红色色阻层、绿色色阻层以及蓝色色阻层分别可以对应红色色阻掩模版、绿色色阻掩模版以及蓝色色阻掩模版，具体的，在利用掩模版对色阻层进行曝光过程中，其中掩模版包括第一区域101、第二区域102以及第三区域103。第一区域101、第二区域102以及第三区域103依次可为遮光区、半透光区以及透光区。第二区域102包括间隔排列的遮光部201；对曝光后的色阻层进行显影，以获得色阻图案，其中色阻图案在与掩模版第二区域的对应区域的厚度在向其边缘的方向上变薄，依次制备得到具备图案化的红色色阻，再重复以上操作制备绿色色阻、蓝色色阻。

请参阅图2至图4，图2是制备绿色色阻层时，在红色色阻层上方覆盖有红色色阻掩模版的俯视图，图3和图4分别为制备蓝色色阻层和红色色阻层的俯视图，在图4中，当制备红色色阻层的制程中，采用红色色阻掩模版，此时掩模版第一区域101处为遮光区，该遮光区将掩模版对应的绿色色阻层区域和蓝色色阻层区域进行遮挡，第二区域和第三区域对应为红色色阻层区域，结合图2和图4可知，在制备红色色阻层和绿色色阻层相邻处都有第二区域进行半透光照射，第二区域为对应的红色色阻和绿色色阻的交接处，该区域的色阻层在曝光制备过程中，由于光的干涉作用，使得该区域的色阻层变得相对第三区域所对应的透光区的色阻层厚度更加薄，因此，降低了红色色阻层和绿色色阻层的重叠区域的突起，避免了牛角的产生。

需要说明的是，上述显示面板实施例中仅描述了上述结构，可以理解的是，除了上述结构之外，本发明实施例显示面板中，还可以根据需要包括任何其他的必要结构，例如基板，缓冲层，层间介质层(ild)等，具体此处不作限定。

通过采用如上实施例中描述的显示面板的制备方法，制备方法包括：提供阵列基板；在阵列基板上涂布彩色色阻材料；采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层；其中，掩模版包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，第二区域的透光率大于第一区域的透光率，第二区域的透光率小于第三区域的透光率，区别于现有技术，掩模版分布有三种不同透光率区域，因此在利用掩模版制备色阻的过程中，由于第二区域透光率大于第一区域透光率，第二区域的透光率小于第三区域透光率，且第二区域对应不同色阻重叠区域，使得穿透第二区域的光线相较于穿透第一区域的光线强度较低，使得第二区域对应的色阻区域部分的膜层厚度降低，从而降低不同色阻重叠区域的突起，避免牛角的产生。

在上述实施例的基础上，在本申请的另一个具体实施例中，采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层，包括：采用掩膜版对第一色阻材料进行曝光处理，制备得到第二色阻材料；对第二色阻材料进行显影处理，制备得到彩色色阻层。

请参阅图6，图6为本发明实施例中显示面板的制备方法的另一个实施例流程示意图，其中，采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层，包括：

401、采用掩膜版对第一色阻材料进行曝光处理，制备得到第二色阻材料。

本实施例中，采用掩膜版对第一色阻材料进行曝光处理，将掩膜版的图案印到第二色阻材料上，其中，曝光制程中使用的曝光机是由照明系统、对准系统、掩模版载台、玻璃基板载台和光学系统组成。光源由高压汞灯发出，光源中的光线经过镜头和滤光镜后，可见光区的436nm波峰的g线、405nm波峰的h线和紫外区的365nm波峰的i线进入照明系统作为曝光的光源，另外的578nm波峰的d线和546nm的e线进入对准系统作为对准光源的部分，根据薄膜制作精度和设备费用，本实施例采用接近式曝光机，接近武曝光是指掩模版与玻璃基板之间仅间隔百微米进行曝光的方式。这种方式，对光学系统的要求较低。影响图形精度的曝光主要参数是掩模版和玻璃基板之间的距离和紫外线波长。间距越小，图形精度越高，但是间距太少，如果有尘粒则会划伤掩模版；紫外线波长越短，图形精度也越高。

402、对第二色阻材料进行显影处理，制备得到彩色色阻层。

本实施例中，再通过显影处理，将第二色阻材料上的图案的多余部分去除掉，以得到图案化的彩色色阻层。

为了更好实施本发明实施例中掩模版，在掩模版的基础之上，本发明实施例中还提供一种显示面板，显示面板采用上述实施例的显示面板的制备方法所制备而成的。

本发明实施例中通过提供了显示面板，相比传统的显示面板，本申请提供的显示面板是采用如上述方法制备的，方法包括：提供阵列基板；在阵列基板上涂布彩色色阻材料；采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层；其中，掩模版包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，第二区域的透光率大于第一区域的透光率，第二区域的透光率小于第三区域的透光率，区别于现有技术，掩模版分布有三种不同透光率区域，因此在利用掩模版制备色阻的过程中，由于第二区域透光率大于第一区域透光率，第二区域的透光率小于第三区域透光率，且第二区域对应不同色阻重叠区域，使得穿透第二区域的光线相较于穿透第一区域的光线强度较低，使得第二区域对应的色阻区域部分的膜层厚度降低，从而降低不同色阻重叠区域的突起，避免牛角的产生，因此使得显示面板的显示效果更加稳定。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见上文其他实施例中的详细描述，此处不再赘述。

具体实施时，以上各个单元或结构可以作为独立的实体来实现，也可以进行任意组合，作为同一或若干个实体来实现，以上各个单元或结构的具体实施可参见前面的方法实施例，在此不再赘述。

以上各个操作的具体实施可参见前面的实施例，在此不再赘述。

以上对本发明实施例所提供的一种掩模版和显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。