1.一种光学镜片，其特征在于，包括透明基材，所述透明基材的表面上设置有微孔结构和/或微柱结构。
2.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，所述微孔结构和/或微柱结构呈周期性排列，且周期范围为100-400nm。
3.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，每个所述微孔结构或每个微柱结构的直径范围为80-380nm。
4.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，每个所述微孔结构的深度或每个所述微柱结构的高度的范围为100～400nm。
5.一种光学镜片的制备方法，其特征在于，包括步骤：
在透明基材的表面上形成目标图案，所述图案包括保护区域和未保护区域；
对透明基材进行刻蚀，将所述透明基材的未保护区域刻蚀掉，以形成微孔结构和/或微柱结构。
6.根据权利要求5所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，所述在透明基材的表面上形成目标图案的步骤为：
利用光刻方式、压印方式、阳极氧化成膜方式和激光直写方式中的一种或者多种方式在透明基材的表面上形成目标图案。
7.根据权利要求6所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，采用光刻方式在透明基材的表面形成目标图案的步骤包括：
在透明基材表面涂胶，以形成胶层；
利用带有目标图案的掩模版对胶层进行曝光；
对胶层进行显影，以使胶层形成目标图案。
8.根据权利要求7所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，在所述透明基材表面涂胶的步骤中，所涂覆的胶层的厚度为
在所述利用带有目标图案的掩模版对胶层进行曝光的步骤中，曝光的能量范围为200～500mj/cm2；
在所述对胶层进行显影的步骤中，显影的温度范围为21～25℃；显影持续时间范围为87～93s。
9.根据权利要求6所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，所述阳极氧化成膜方式包括步骤：
在透明基材表面形成金属膜；
对透明基材的金属膜进行一次阳极氧化；
待一次阳极氧化完成后，进行氧化膜融膜；
对透明基材的金属膜进行二次阳极氧化；
对透明基材的金属膜进行扩孔，从而在金属膜上形成目标图案。
10.根据权利要求9所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，在所述在透明基材表面形成金属膜的步骤中，所述金属膜为金属铝膜；
所述对透明基材的金属膜进行一次阳极氧化的步骤包括：将带有金属铝膜的透明基材放入到草酸与硫酸的混合溶液中，以金属铝膜为阳极进行通电氧化处理；
所述进行氧化膜融膜的步骤包括：利用磷酸和铬酸的混合液，浸泡上述一次阳极氧化后的金属铝膜；
所述对透明基材的金属膜进行二次阳极氧化的步骤与所述对透明基材的金属膜进行一次阳极氧化的步骤相同；
所述对透明基材的金属膜进行扩孔的步骤包括：将透明基材放入到磷酸溶液中浸泡。
11.根据权利要求10所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，所述金属铝膜的厚度范围为200～800nm，且所述金属铝膜的纯度至少为99.999％；
所述将带有金属铝膜的透明基材放入到草酸与硫酸的混合溶液中，以金属铝膜为阳极进行通电氧化处理的步骤中：所述草酸与硫酸的比例为1:1，且硫酸和草酸的浓度皆为0.15mol/l，通电氧化处理的温度低于5℃，反应时间范围为30～60min；
在所述利用磷酸和铬酸的混合液，浸泡上述一次阳极氧化后的金属铝膜的步骤中：反应温度范围为58～62℃；所述混合液中磷酸和铬酸的质量比分别为6wt％和2wt％；反应时间范围为10～15min；
在所述将透明基材放入到磷酸溶液中浸泡的步骤中：磷酸溶液的温度范围为38～42℃；磷酸溶液质量比为5wt％；反应时间范围为30～60min。
12.根据权利要求5所述的光学镜片的制备方法，其特征在于，所述对透明基材进行刻蚀的步骤包括：
利用等离子干法刻蚀机对透明基材进行刻蚀；其中，主刻蚀气体为三氯化硼气体；刻蚀时间范围为300-900s；所述干法刻蚀机的工作功率为300-1000w，刻蚀的温度范围为30-50℃。